薬液の流路チューブをダイレクトに温度制御するので従来の間接温調方式に比べ95%もの電力消費を削減できます！
半導体製造の洗浄過程で使用される薬液の温度管理は製品の品質や生産性を左右する重要なファクターです。 ペルチェモジュールを用いた本装置は洗浄薬液を±0.05℃で温度制御を行います。 非常に小型のモジュールで、流路チューブをダイレクトに温度制御する方式ですので従来のタンクで薬液を温調するよりも10-30%使用量の削減が見込めます。 さらに動作部分がないシンプル構造のため振動・ノイズもなくメンテナンスがほとんど不要です。 別売の専用のコントローラーで温度制御します。
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基本情報
商品ラインナップ ・CLEANSTEAM 1100 温度範囲 5℃～45℃ ・CLEANSTEAM 800C 温度範囲 5℃～35℃ ・CLEANSTEAM 550/H1500 温度範囲 5℃～90℃ ・CLEANSTEAM H3000 温度範囲 40℃～90℃ 専用コントローラー ・Switch Back Power Supply and Controller
価格帯
納期
用途／実績例
洗浄装置の薬液、純水の温度コントロール
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企業情報
エムエス機器は、世界トップシェアのチラーメーカー米国NESLAB社 （現Thermo Fisher Scientific社）の日本総代理店として、約50年に亘り培った チラービジネスの経験と、述べ20,000台を越えるチラーの納入実績を持つ技術の専門商社です。2014年より、米国Solid State Cooling Systems社の ペルチェ方式チラーの取り扱いを開始し、環境問題やエネルギー問題に敏感なお客様のニーズを踏まえた商品をご提供しております。 ISO 14001:2004：JQA-EM4217、ISO 9001:2000：JQA-QMA12892