真空装置や半導体製造装置に使用する部品の高温真空熱処理
真空装置、半導体製造装置に使用する部品を真空中で高温処理します。プロセスの立上げ、工程時間の短縮に貢献します。
クリーンルーム中で真空チャンバを使いグラファイト、セラミックス、メタル部品などの脱ガス処理を行います。表面に付着したガスだけではなく、内部に浸透した水分なども除去できます。 【用途】 ■真空装置、半導体製造用部品などの脱ガス ■グラファイト、セラミックスなどの脱ガス ■部品洗浄後の空焼き ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。
- 企業：モメンティブ・テクノロジーズ・ジャパン株式会社
- 価格：応相談
