現像装置のメーカーや取扱い企業、製品情報、参考価格、ランキングをまとめています。
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現像装置×株式会社二宮システム - メーカー・企業と製品の一覧

現像装置の製品一覧

1~8 件を表示 / 全 8 件

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研究開発用小型現像装置 HPD40

研究開発用小型現像装置 HPD40

【工程】投入→現像→液切→水洗1→水洗2→絞り→取出し【基板サイズ】Max.W400×L500mm 厚み0.4〜2.0mm【ノズル揺動】水平揺動【装置サイズ】W1420×L1950×H1645mm ・省スペース研究用 ・材料開発やテストに最適 ・PCB・LCDの現像が可能

  • その他表面処理装置
  • 基板加工機
  • その他実験器具・容器

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小型現像機 SPseries SPD40

使いやすい機能とすっきりしたデザインを兼ね備えた設計

コンパクト設計の超高精度シリーズ SPseries SPD40は、高密度化が進むプリント基板のファイン化のニーズに対応した小型現像機です。ノズル、ノズル配置、オシレーションなど二宮システムのノウ・ハウを駆使し完成した小型機の決定版です。タッチパネル操作により使いやすい機能とすっきりしたデザインを兼ね備えた設計です。数々の安全機能を標準装備しており、お客様のニーズにあった設計変更が可能です。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。

  • その他半導体製造装置

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研究開発用小型現像機 SPD40

研究開発用小型現像機 SPD40

【工程】投入→現像→液切→循環水洗→直水洗→絞り→取出し【基板サイズ】Max.W400×L500mm 厚み0.4〜2.0mm【ノズル揺動】水平揺動【装置サイズ】W1300×L1590×H1215mm ・省スペース研究用 ・材料開発やテストに最適 ・PCB・LCDの現像が可能

  • その他表面処理装置
  • 基板加工機
  • その他実験器具・容器

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小型薄板用現像装置 FBD40

小型薄板用現像装置 FBD40

【工程】投入→エアーナイフ→現像→エアーナイフ→循環水洗→直水洗→エアーナイフ→取出し【基板サイズ】Min.W50×L50mm 厚み0.03〜2.0mm【ノズル揺動】水平揺動【装置サイズ】W1445×L2010×H1230mm ・省スペース研究用 ・材料開発やテストに最適 ・PCB・LCDの現像が可能

  • その他表面処理装置
  • 基板加工機
  • その他実験器具・容器

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小型超高精度現像装置 MPD40

小型超高精度現像装置 MPD40

【工程】投入→現像→液切→リンス→液切→循環水洗→直水洗→絞り→取出し【基板サイズ】Max.W400×L500mm 厚み0.4〜2.0mm【ノズル揺動】首振揺動【装置サイズ】W1530×L2830×H1860mm ・省スペース研究用 ・材料開発やテストに最適 ・PCB・LCDの現像が可能

  • その他表面処理装置
  • 基板加工機
  • その他実験器具・容器

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小型現像装置 ED25

小型現像装置 ED25

当社水平搬送式モデル最小サイズ

  • その他半導体製造装置

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セラミック基板用 現像装置

セラミック基板用 現像装置

現像・エッチングのファイン化技術や高度な薄板搬送技術を駆使してお客様の付加価値向上に貢献します。

  • その他実装機械

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二宮システム製 ガラス基板現像装置

二宮システム製 ガラス基板現像装置

最適なノズル配置により高精度な現像を実現

  • その他半導体製造装置

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