フォトレジスト薄膜コーティング試作（薄膜試作・開発支援）
コーティング困難な凹凸デバイスへ、フォトレジストの薄膜塗布を可能とした、微粒子積層法（スプレーコーティング法）を提案。
凹凸立体形状のMEMSデバイスへ、フォトレジスト薄膜のコーティング試作をしています。数枚から大ロットまでフォトレジスト薄膜形成の試作をご提案しております。 凹凸・立体（３D）形状に対してのレジスト塗布方法に問題を抱え、お困りでしたら、是非ご相談ください。 お客様の「レンタル試作課」として日々開発支援活動をしています。 つくば産業技術総合研究所様や横浜国立大学様、信州大学様とも技術連携し、研究機関や民間企業へ試作支援をしています。 また、MEMS製造業界へは装置提案やコンサルタントなど数多くの実績を有しています。 現在、湘南藤沢研究所で活動をしています。 ※下記、弊社ホームページ内のお問合せページから、ご連絡・お尋ね・ご相談ください。
- 企業：株式会社エーシングテクノロジーズ 湘南藤沢研究所
- 価格：応相談
