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学薄膜や保護膜、機能膜などの膜特性を向上させることができます
日本電子株式会社 BS-80011BPG 高密度プラズマ発生用内蔵形プラズマ銃は、真空チャンバー内に設置し、高密度プラズマを発生させるプラズマ源です。真空蒸着と組み合わせたプラズマアシスト蒸着 (イオンプレーティング) 法により、光学薄膜や保護膜、機能膜などの膜特性を向上させることができます。また基板のクリーニングや表面改質にも有効です。 〇特長 ・低電圧・大電流の高密度な直流プラズマにより、ガス分子や蒸発粒子を高効率にイオン化 ・反応性蒸着可能 ・大面積へハイレートで成膜が可能 ・様々なレイアウトの真空装置へ搭載することが可能 ※詳細はPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
高精度減速型多段レンズにより、高電流密度の低速イオンビームを照射可能
当製品は、超高真空において使用可能なビームエネルギー10eVから3000eVの 減速型コールドカソードイオン銃です。 効率よくイオンを引き出し、高精度減速型多段レンズにより、高電流密度の 低速イオンビームを照射可能です。 フィラメントがない構造は反応性ガスを使用可能となっており、長寿命の 為メンテナンスサイクルを短くすることが可能。整備性に優れた新設計 ディスチャージチャンバーを採用しております。 また高効率差動排気設計によりメインチャンバーを超高真空度に保ちます。 【特長】 ■減速型コールドカソードイオン銃 ■高電流密度の低速イオンビームを照射可能 ■フィラメントがない構造は反応性ガスを使用できる ■長寿命の為メンテナンスサイクルを短くすることが可能 ■整備性に優れた新設計ディスチャージチャンバーを採用 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
ホットカソードには無い極めて低い温度、低い真空度で動作！
オメガトロンのイオン銃技術とノウハウを結集し、シンプルで信頼性の高いコールドカソードイオン銃を完成させました。 放電電極に高価なレアメタルをおごっているにもかかわらず、最適設計により部品点数を削減したため、品質をより向上させつつ販売価格を１２３万円（税抜き）とすることができました。 また、オプションのユニットをお選び頂ければ、従来のような高機能・高性能タイプにリーズナブルにステップアップすることも可能です。 中性ビーム銃に搭載の同軸型ニュートラライザーをオプションでお選び頂ければセラミックなどの絶縁体の精密ミーリングに威力を発揮します。 非常にシンプルな構造のため信頼性、メンテナンス性に優れ、お客様の手間も最小限です。
