学薄膜や保護膜、機能膜などの膜特性を向上させることができます
日本電子株式会社 BS-80011BPG 高密度プラズマ発生用内蔵形プラズマ銃は、真空チャンバー内に設置し、高密度プラズマを発生させるプラズマ源です。真空蒸着と組み合わせたプラズマアシスト蒸着 (イオンプレーティング) 法により、光学薄膜や保護膜、機能膜などの膜特性を向上させることができます。また基板のクリーニングや表面改質にも有効です。 〇特長 ・低電圧・大電流の高密度な直流プラズマにより、ガス分子や蒸発粒子を高効率にイオン化 ・反応性蒸着可能 ・大面積へハイレートで成膜が可能 ・様々なレイアウトの真空装置へ搭載することが可能 ※詳細はPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
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基本情報
【仕様】 最大放電出力：6kW (160V, 38A) 動作圧力：1×10-2～1×10-1 Pa (Ar、O2、N2雰囲気中) ※詳細はPDFをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
価格情報
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価格帯
1000万円 ~ 5000万円
納期
※配送地域によって変動がございますので、お気軽にお問い合わせください。
用途／実績例
【用途】 プラズマアシスト蒸着やクリーニング、表面改質
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企業情報
当社アズサイエンス株式会社は昭和49年（1974年）に発足以来、科学分野から医療分野に強みを持つ専門商社として、地域社会に貢献し生命追求科学の進歩を支えて参りました。 理化学機器・医療機器・検査機器・分析機器・体外診断薬・医薬品・試薬・消耗品など様々な分野の商品を取り揃えており、高度化・多様化するお客様のニーズにお応えします。更にネットワークを活用したソフト開発を積極的に進め、お客様のシステム化やお客様とのコミュニケーションの活性化に取り組んでいます。
