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露光装置×ネオアーク株式会社 - 企業1社の製品一覧

製品一覧

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3次元形状レーザ露光装置 ※開発中

5軸ステージ制御による3次元形状へのマスクレスフォトリソグラフィを実現!

『3次元形状レーザ露光装置』は、5軸ステージ(直進3軸、回転2軸)構成により 様々な形状へ微細パターニングが可能です。 半導体レーザによる直接露光を行いますので、メタルマスクが不要で、研究・開発の 時間短縮、予算低減へ貢献します。 また、専用変換ソフトにより2D、3D CADで制作したデータを読込できます。 【特長】 ■5軸ステージ(直進3軸、回転2軸)構成 ■様々な形状へ微細パターニングが可能 ■メタルマスクが不要で、研究・開発の時間短縮、予算低減へ貢献 ■専用変換ソフトにより2D、3D CADで制作したデータを読込可能 ■アライメント補助機により、容易な立体構造サンプルの位置合わせが可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • その他光学部品

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マスクレス露光装置PALET『DDB-701シリーズ』

トライ&エラーが必要不可欠な研究・試作用途に好適なマスクレス露光装置

『DDB-701シリーズ』は、MEMS技術の代表格であるフォトリソグラフィを、 卓上で、手軽に、思いのままに行えるマスクレス露光装置です。 装置サイズを徹底的に小型化し、A3サイズの設置面積を実現。 フローティング構造を採用することで振動を抑制し、 防振台不要・真空吸着用エア源内蔵を実現し、 導入に際して障害となりやすい圧縮エアなどのユーティリティを取り除きました。 【特長】 ■設置場所に困らない卓上型 ■業界の常識を覆す低価格設定 ■ユーザフレンドリーな操作性を追求 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問合せください。

  • その他半導体製造装置

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