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汚れや傷がつきにくい！レジストに紫外線を照射し、パターンを形成
プロキシミティ露光とは、半導体や液晶などの製造に使われる技術の一つです。 レジスト(光感性樹脂)に紫外線を照射し、パターンを形成します。 その際、レジストとフォトマスク(パターンを形成するための板)の 間に微小な隙間を設け、レジストに光を届けることで、細かなパターンを 形成します。 【メリット】 ■マスクとワークが接触しないため汚れや傷がつきにくい ■フォトリソグラフィーと比較してパターン形成に必要な時間が短くて 済むため生産性が高い ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
微細なパターンを半導体基板上に形成するために使用される技術。
投影露光は、半導体製造プロセスにおいて、微細なパターンを半導体基板上に 形成するために使用される技術の一つです。 半導体基板上にUV(紫外線)光を照射することで、フォトレジストと 呼ばれる光に敏感な材料にパターンを形成します。 フォトレジストは、UV光を当てると化学反応が起こり、露光した箇所が 溶解したり、硬化したりします。その後、露光された箇所をエッチングなどの プロセスで取り除き、残った部分には微細なパターンが形成されます。 【特長】 ■光に敏感な材料にパターンを形成する ■ステッパーが使用される ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
