ガスフィルタのメーカーや取扱い企業、製品情報、参考価格、ランキングをまとめています。
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ガスフィルタ - メーカー・企業9社の製品一覧とランキング

更新日: 集計期間:2025年10月08日~2025年11月04日
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ガスフィルタのメーカー・企業ランキング

更新日: 集計期間:2025年10月08日~2025年11月04日
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  1. エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社 東京都/産業用電気機器
  2. 株式会社ピー・ジェイ 福島県/電子部品・半導体
  3. 株式会社テクメイション 東京都/商社・卸売り
  4. 4 日本コベッタ株式会社 大阪府/電子部品・半導体
  5. 5 株式会社エムアイティ 東京都/商社・卸売り

ガスフィルタの製品ランキング

更新日: 集計期間:2025年10月08日~2025年11月04日
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  1. 小型・大流量PTFEガスフィルター「メガフロー」 株式会社ピー・ジェイ
  2. NuPure C Series(インラインガス精製器) 株式会社エムアイティ
  3. インライン・ガスフィルター CEPURE「より高いガス置換特性」 株式会社渡辺商行
  4. GasPro TEM 高性能ガスフィルター選定ガイド エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社
  5. 4 米国mott社製集積用ガスフィルターGSMMシリーズ 株式会社テクメイション

ガスフィルタの製品一覧

16~30 件を表示 / 全 44 件

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高耐圧用PTFEガスフィルター

濾過膜はPTFE製2層構造で経年や振動などでの伸びが殆どなく、安定した濾過性能を有します。

全数疑縮核式パーティクルカウンターによって0.003μmのパーティクル捕捉試験を実施しております。

  • 半導体検査/試験装置
  • CVD装置
  • ガスフィルタ

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インライン・ガスフィルター CEPURE「より高いガス置換特性」

圧力損失を低減するデザインと共に、ろ過特性、ガス置換特性等ガスフィルターに求められる特性面も優れています!高純度アルミナを使用

クアーズテック社のインライン・ガスフィルター『CEPURE』に採用したエレメントは、耐食性に優れた99.9%以上の高純度アルミナで、均一にコントロールされた2層もしくは3層からなる微細な細孔を有しています。 幾何学的に圧力損失を低減するデザインと共に、ろ過特性、ガス置換特性などガスフィルターに求められる特性面においても非常に優れており、理想的なフィルターメディアです。 【特徴】  ・優れたガス置換特性  ・高耐食性 【仕様】  材料:アルミナ多孔体(エレメント部)/SUS/ニッケル/PTFE 【用途】  各種半導体プロセス用インラインガスフィルター ※詳しくはお問い合わせください

  • 2_CEPRE_STM&SPF_30%.jpg
  • 3_CEPRE_TM_30%.jpg
  • 4_CEPRE_STM_30%.jpg
  • その他ヒータ

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米国mott社製インラインガスフィルターFXPシリーズ

ファイバーエレメントを使用した低価格インラインフィルター

不活性ガス向けの低価格フィルターであり、テフロンエレメント製フィルターからの置換にも最適。

  • その他半導体製造装置

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米国mott社製インラインガスフィルターFLPシリーズ

リキッドソースの気化ラインに最適なフィルター

mott社独自技術によるエレメントを採用したリキッドソース向けインラインフィルター。

  • その他半導体製造装置

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ガス・フィルター 「FCシリーズ」

システムに接続したままメンテナンス可能

液体やパーティクルなどの不純物は、水平に取り付けたSwagelokフィルターで除去することができます。 Swagelokフィルターは、システムに接続したままメンテナンスを行うことが可能です。 FC シリーズ ■ 液体除去用/パーティクル除去用 ■ オンライン・プロセス分析システム用に設計 ■ エレメントの交換が容易 ■ エンド・コネクション・サイズ:1/8 インチ、1/4 インチ、6 mm

  • ガスフィルタ

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GasPro PTFE ガスフィルター TEM-400シリーズ

あらゆるグレードの半導体プロセスガスとCDAに。ろ過精度0.003ミクロンの高性能インラインガスフィルターです。

GasProフィルターは、あらゆるグレードの半導体プロセスガスとCDA(クリーンドライエア)のフィルター用に特別に設計されています。全溶接構造になっており、大流量が必要でスペースが限られているところでも0.003ミクロンのろ過精度を実現しています。 PTFEメンブレンとポリプロピレンで支持されたカートリッジ、そしてSUS316Lの電解研磨された溶接ハウジングで構成されています。清浄度を確保するために、ろ過した窒素でパージされ出荷されます。 様々な接続タイプをご用意しており、容易に取り付けられるようになっています。

  • Gaspro_product_img.png
  • TEM400_code.png
  • ガスフィルタ
  • フィルタユニット
  • 窒素ガス発生装置

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GasProオールフッ素樹脂ガスフィルター TEM-1800

半導体ガスフィルター用、ろ過精度0.003ミクロンの高性能インラインガスフィルターです。

GasProフィルターは、半導体ガスフィルター用として特別に設計されています。全溶接構造になっており、大流量が必要でスペースが限られているところでも0.003ミクロンのろ過精度を実現しています。 メディア材質はPTFE、溶接ハウジングには電解研磨されたSUS316Lが使用されております。清浄度を確保するためにろ過した窒素でパージされ出荷されます。 様々な接続タイプをご用意しており、容易に取り付けられるようになっています。

  • Gaspro_product_img.png
  • TEM1800_code.png
  • ガスフィルタ
  • フィルタユニット
  • 窒素ガス発生装置

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低圧力損失・高濾過精度セラミックガスフィルター

高濾過精度0.003μmの性能をそのままに、低圧力損失を実現!

半導体製造ガスラインなどに用いられる(株)ピュアロンジャパン製インラインセラミックガスフィルターです。 従来のPGFシリーズと全く同じ外形寸法で約2倍の流量を処理できます。

  • 半導体検査/試験装置
  • その他半導体製造装置
  • ガスフィルタ

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微少流量超小型セラミックガスフィルター

SPCシリーズは超小型(φ21×84mm)、軽量(90g)に設計されております。

取り付けスペースの狭いシリンダーキャビネットや装置などに最適です。

  • 半導体検査/試験装置
  • CVD装置
  • ガスフィルタ

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大流量セラミックガスフィルター

流量500L/minから3,000L/minまでの一次側バルク・ガスラインでの使用に適しています。

半導体製造ガスラインなどに用いられる(株)ピュアロンジャパン製セラミックガスフィルターです。

  • 半導体検査/試験装置
  • CVD装置
  • ガスフィルタ

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低圧力損失メタルガスフィルター

歩留まりを大幅に向上

(株)ピュアロンジャパン製 ガスフィルターです。 フィルター構成部材全てにSUS316Lを使用し、腐食や二次生成物の恐れがなく高耐熱性を発揮致します。窒素ガス(N2)をフィルターIN側圧力0.2MPaで流したときのOUT側圧力損失は△0.05MPaで90SLMの流量を実現しました。また、定常流・脈動下において濾過精度0.003μmをCNCで確認、サブミクロンULSI製造で歩留まりを大幅に向上致します。

  • 半導体検査/試験装置
  • CVD装置
  • ガスフィルタ

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粗取り用オールメタルガスフィルター

幅広い濾過精度に対応

(株)ピュアロンジャパン製 ガスフィルターです。 定常流・脈動下において濾過精度0.1〜10μmまでの幅広い濾過精度に対応。フィルター構成部材で腐蝕性材料は使用しておりませんので腐蝕や二次生成物の恐れはありません。専用のベーキングヒーターの併用によりAPIMSの測定で脱ガス(水分量)1.2ppbを達成しました。継続使用により0.1ppbレベルまで可能です。

  • 半導体検査/試験装置
  • CVD装置
  • ガスフィルタ

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高濾過精度オールメタルガスフィルター

コンパクトサイズでより高流量のガスを処理

(株)ピュアロンジャパン製 ガスフィルターです。 全ての材質にSUS316Lを使用。高流量・高差圧下においても0.003μm以上の粒子を高い効率で除去致します。従来品と比較し圧力損失が極めて低く、コンパクトサイズでより高流量のガスを処理できます。10L/min程度の少流量から250L/min程度の中流量までの幅広いラインナップをご用意しております。

  • 半導体検査/試験装置
  • CVD装置
  • ガスフィルタ

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低圧力損失PTFEガスフィルター

濾過膜はPTFE製2層構造

(株)ピュアロンジャパン製ガスフィルターです。 濾過膜はPTFE製2層構造で経年や振動などでの伸びが殆どなく、安定した濾過性能を有します。全数疑縮核式パーティクルカウンターによって0.01μmのパーティクル捕捉試験を実施しております。

  • 半導体検査/試験装置
  • CVD装置
  • ガスフィルタ

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小型・大流量PTFEガスフィルター「メガフロー」

最大1,000lpmまでの流量を確保

■小型・大流量 一般的なインラインガスフィルタのサイズで、大流量濾過が可能です。 高い粒子除去性能 ■0.003μm 以上の粒子を高い効率で除去致します。 ■優れた耐食性 フィルターメディアとサポート材は全てフッ素樹脂を採用し、ハウジングにはSUS316L材を使用しております。 ※半導体製造装置からPV用バルクガス供給ライン等幅広い用途にご使用できます。

  • CVD装置
  • エッチング装置
  • 蒸着装置

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