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半導体ガスフィルター用、ろ過精度0.003ミクロンの高性能インラインガスフィルターです。
GasProフィルターは、半導体ガスフィルター用として特別に設計されています。全溶接構造になっており、大流量が必要でスペースが限られているところでも0.003ミクロンのろ過精度を実現しています。 メディア材質はPTFE、溶接ハウジングには電解研磨されたSUS316Lが使用されております。清浄度を確保するためにろ過した窒素でパージされ出荷されます。 様々な接続タイプをご用意しており、容易に取り付けられるようになっています。
常に安定した状態で0.003μmの高濾過精度を有するガスフィルターを開発
半導体製造ガスラインなどに用いられる（株）ピュアロンジャパン製インラインセラミックガスフィルターです。水や酸素などの不純物の除去を確実に行うための、200℃の高温ベーキングが可能です。
濾過精度
半導体製造ガスラインなどに用いられる（株）ピュアロンジャパン製インラインセラミックガスフィルターです。
ハロゲン系反応性腐蝕性特殊ガスに対し、耐蝕性が非常に高く極めて優れた性能を発揮いたします。
半導体製造ガスラインなどに用いられる（株）ピュアロンジャパン製セラミックガスフィルターです。 フィルター構成部材には、フィルターハウジングにハステロイC-22を、そしてフィルターエレメントにはセラミックスを使用しております。これら全ての部材は、HBr、HClなどのハロゲン系反応性腐蝕性特殊ガスに対し、耐蝕性が非常に高く極めて優れた性能を発揮いたします。
全ての材質にハステロイを使用
(株)ピュアロンジャパン製 ガスフィルターです。 高流量・高差圧下においても０.００３μｍ以上の粒子を高い効率で除去します。１０Ｌ/ｍｉｎ程度の少流量から２５０Ｌ/ｍｉｎ程度の中流量まで幅広いラインナップをご用意しております。従来のメタルフィルターと比較して圧力損失が極めて低く、コンパクトサイズでより高流量のガスを処理できます。
安定した濾過性能
濾過膜はＰＴＦＥ製２層構造で経年や振動などでの伸びが殆どなく、安定した濾過性能を有します。全数疑縮核式パーティクルカウンターによって０.００３μｍのパーティクル捕捉試験を実施しております。
濾過膜はＰＴＦＥ製２層構造で経年や振動などでの伸びが殆どなく、安定した濾過性能を有します。
全数疑縮核式パーティクルカウンターによって０.００３μｍのパーティクル捕捉試験を実施しております。
圧力損失を低減するデザインと共に、ろ過特性、ガス置換特性等ガスフィルターに求められる特性面も優れています！高純度アルミナを使用
クアーズテック社のインライン・ガスフィルター『CEPURE』に採用したエレメントは、耐食性に優れた99.9%以上の高純度アルミナで、均一にコントロールされた2層もしくは3層からなる微細な細孔を有しています。 幾何学的に圧力損失を低減するデザインと共に、ろ過特性、ガス置換特性などガスフィルターに求められる特性面においても非常に優れており、理想的なフィルターメディアです。 【特徴】 ・優れたガス置換特性 ・高耐食性 【仕様】 材料：アルミナ多孔体（エレメント部）/SUS/ニッケル/PTFE 【用途】 各種半導体プロセス用インラインガスフィルター ※詳しくはお問い合わせください
ファイバーエレメントを使用した低価格インラインフィルター
不活性ガス向けの低価格フィルターであり、テフロンエレメント製フィルターからの置換にも最適。
リキッドソースの気化ラインに最適なフィルター
mott社独自技術によるエレメントを採用したリキッドソース向けインラインフィルター。
システムに接続したままメンテナンス可能
液体やパーティクルなどの不純物は、水平に取り付けたSwagelokフィルターで除去することができます。 Swagelokフィルターは、システムに接続したままメンテナンスを行うことが可能です。 FC シリーズ ■ 液体除去用／パーティクル除去用 ■ オンライン・プロセス分析システム用に設計 ■ エレメントの交換が容易 ■ エンド・コネクション・サイズ：1/8 インチ、1/4 インチ、6 mm
あらゆるグレードの半導体プロセスガスとCDAに。ろ過精度0.003ミクロンの高性能インラインガスフィルターです。
GasProフィルターは、あらゆるグレードの半導体プロセスガスとCDA（クリーンドライエア）のフィルター用に特別に設計されています。全溶接構造になっており、大流量が必要でスペースが限られているところでも0.003ミクロンのろ過精度を実現しています。 PTFEメンブレンとポリプロピレンで支持されたカートリッジ、そしてSUS316Lの電解研磨された溶接ハウジングで構成されています。清浄度を確保するために、ろ過した窒素でパージされ出荷されます。 様々な接続タイプをご用意しており、容易に取り付けられるようになっています。
半導体ガスフィルター用、ろ過精度0.003ミクロンの高性能インラインガスフィルターです。
GasProフィルターは、半導体ガスフィルター用として特別に設計されています。全溶接構造になっており、大流量が必要でスペースが限られているところでも0.003ミクロンのろ過精度を実現しています。 メディア材質はPTFE、溶接ハウジングには電解研磨されたSUS316Lが使用されております。清浄度を確保するためにろ過した窒素でパージされ出荷されます。 様々な接続タイプをご用意しており、容易に取り付けられるようになっています。
半導体ガスフィルター用、ろ過精度0.003ミクロンの高性能インラインガスフィルターです。
GasProフィルターは、半導体ガスフィルター用として特別に設計されています。全溶接構造になっており、大流量が必要でスペースが限られているところでも0.003ミクロンのろ過精度を実現しています。 メディア材質はPTFE、溶接ハウジングには電解研磨されたSUS316Lが使用されております。清浄度を確保するためにろ過した窒素でパージされ出荷されます。 様々な接続タイプをご用意しており、容易に取り付けられるようになっています。
