更新日： 集計期間:2025年10月01日～2025年10月28日
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独自の電気化学の専門知識を活用した、電気めっきなどの表面処理デジタルツインソリューション
Elsyca製品群は、電気化学のコア技術により、電気めっき（樹脂装飾めっき（POP）、工業用硬質クロムめっき、PCB基板の銅めっき等）、アルマイト処理、電着塗装に対応した、表面処理プロセスのための解析ツールです。 また、関連ソリューションとして、騒音伝播経路解析ツールも提供しています。これは車体の電着塗装プロセスにおいて、均一な膜厚を得るためにあける、穴の位置や数を最適化するのに役立ちます。 ◆具体的な適用分野 ・PCBめっき 銅ダミー生成を自動最適化、スルーホールめっき ・電気めっき, 電鋳, 電解研磨 ・アルマイト処理 ・電着塗装 ・音漏れ経路探索 ・ガルバニック腐食対策 等 ・及び、それに伴うエンジニアリングサービス（現有設備のめっき着き回り分析, 工程改善, 電解液測定，解析ツール利用立ち上げ支援)
2次元に特化した半導体レーザ向けデバイスシミュレーションプログラム(旧LASTIP）
＜主な特徴＞ ■２次元構造モデルに基づいた半導体レーザのシミュレーションソフト ■共振器方向での効果を含まないため計算がより軽く実行可能 ■有限要素計算のメッシュも２次元で設定するため収束がよりスムーズ ＜多様な物理モデルや機能＞ ■光出力-電流（L-I）特性 ■電流-電圧（I-V）特性 ■２次元ポテンシャル、電場、電流分布 ■電子とホール密度の２次元分布 ■様々なバイアス条件の下でのバンド図 ■半導体中の深いレベルのトラップの占有数と密度の２次元分布 ■２次元多重横モードの光学場分布 ■２次元局所光学利得分布 ■バイアス電流に対するモード別屈折率依存性 ■バイアス電流に対するモード別利得と屈折率変化の依存性 ■電流に対する自発放出スペクトルの依存性 ■Far-field 分布 ■上記の全ての量の時間発展（過渡的モデル）と温度依存性（一様温度） ■その他機能や詳細については、カタログダウンロード もしくはお問い合わせ下さい。 ■試用版のご希望は下記のお問い合わせからご連絡ください。
カットセルメッシュを用いた回転ターゲットのマグネトロンスパッタシミュレーションの『Particle-PLUS』解析事例
『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。 ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます ・自社開発ソフトの強みとして お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能です ◆さまざまな事例に対応◆ ・マグネトロンスパッタ ・PVD、プラズマCVD ・容量結合プラズマ (CCP) ・誘電体バリア放電 (DBD) ・電気泳動 など ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・ポテンシャル分布 ・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布 ・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス ・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル ・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布 など ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。
Particle-PLUS解析事例紹介 外部回路としてπ 型マッチングボックスを考慮しCCPプラズマシミュレーションが可能
『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。 ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます ・自社開発ソフトの強みとして お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能です ◆さまざまな事例に対応◆ ・マグネトロンスパッタ ・PVD、プラズマCVD ・容量結合プラズマ (CCP) ・誘電体バリア放電 (DBD) ・電気泳動 など ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・ポテンシャル分布 ・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布 ・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス ・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル ・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布 など ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。
内蔵のシースモデルを用いて、短時間で計算することが可能です！
『シース内モンテカルロ・シミュレーション・モジュール（SMCSM）』は、 プラズマシース端からシースを通ってシース底部（ターゲット表面）に 達するイオン、電子のエネルギー分布、角度分布等を計算します。 PIC-MCCM、PHMとも、計算時間がかかりますが、ターゲット表面のイオンの エネルギーについてのみを評価したい場合、当製品は内蔵のシースモデルを 用いて短時間で計算することが可能です。 【特長】 ■PHMの計算結果（シース電位差等）を用いて、基板／ターゲット表面の イオンエネルギー分布等を計算する ■計算モデルは単純なため、計算時間がかからない ■内蔵のシースモデルを用いることにより、RF放電装置内の基板への イオンのエネルギー分布（IED）を簡単に推測可能 ■PHMの計算結果を用いれば、装置の電圧、ガス圧等のパラメータと IEDの関係などが評価できる ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
【事例】LST/QSTを使用した遷移状態探索をご案内します
◇LST/QSTを使用した遷移状態探索 事例紹介 ・化学反応のポテンシャルエネルギー面を探索するには、反応プロセスの各ステップに対する構造的エネルギー的運動的などの情報が必要です。 ・それらの情報の中で、特に遷移状態を見つけることは重要となっております。 ・本事例ではMaterials Studioにて、遷移状態探索の手法としてよく知られているLSTとQSTを使用することで解析をしております。 【製品特長】 ■「マテリアルズインフォマティクス」にも最適 ■材料開発を効率化するシュミレーションソフト 業界分野を問わず、研究、開発、設計、製造に従事される方にご利用いただけます ■より効率よく、より簡単に、新規材料開発に役立ちます。 ■さまざまなタイプの材料に対応 ■一つのGUI画面上で、結晶構造の作成、計算条件設定、計算結果表示の 全てを行うことが可能 ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。 株式会社ウェーブフロント 営業部 MAIL: sales@wavefront.co.jp
計算化学のビギナーからエキスパートまで、幅広いユーザー向け物理ベースのシミュレーションと機械学習ソフトウェア
シュレーディンガー株式会社は、2月19日(水)に材料科学向けWebセミナー 『Virtual testing of personal care and cosmetics formulations using digital chemistry methods』 を開催いたします。 持続可能な製品の開発には多くの課題があり、時間やリソース、新しい原材料が必要です。このプロセスを効率化するために、予測モデリングが注目されています。これにより、基準を満たす有望な成分や配合、新たな包装材料を特定でき、計算手法を用いた仮想試験を通じて分子レベルでの理解が得られます。具体的には、個々の成分の挙動や配合の形態、安定性、生体表面との相互作用を解析可能です。また、製品と包装材料の相互作用についても探究でき、保存期間に大きく影響する要因を把握できます。 本セミナーでは、ケーススタディを通じて、計算化学が製品開発、容器設計、製品使用時の解析にどのように役立つかを示します。 ぜひお気軽にご参加ください。
切削シミュレーション技術と併せてハイレベルな金型加工を実現しませんか？※コスト削減、高精度の安定した金型加工の実例あり！
OSG Die & Mold WEB EXHIBITION オーエスジー×伊藤忠テクノソリューションズ コラボセミナー ・講演概要 金型加工において、限界まで高能率化と工具摩耗の抑制を両立するために 加工条件を最適化することは難しい課題のひとつと言えます。CTCが日本 国内で販売とサポートを行う「Production Module」は、CAMで作成された NCデータを解析し、加工シミュレーションによって加工条件を最適化する ことが可能です。切削負荷解析により加工条件を最適化することで工具寿 命や加工品位を安定させ且つ高能率加工を実現します。本セミナーでは高 硬度鋼に最適化された加工条件と最新のOSG製 高硬度鋼用超硬エンドミル 「AE-MSS-H」「AE-MS-H」を用いた事例をご紹介します。
TEM/STEM像を忠実にシミュレート！タンパク質試料やウイルスにも対応可能
『 BioNet BesTEM（バイオネット ベステム）』は、 日本電子株式会社（JEOL）や、米FEI社をはじめとする 国内・海外製の6極子型収差補正電子顕微鏡もシミュレート可能な、 透過電子顕微鏡画像シミュレーションソフトです。 収差補正電子顕微鏡が持つ光学系の影響を考慮したビーム強度、 Ronchigram（ロンチグラム）が計算可能。 マテリアル系のシミュレーションだけでなく、タンパクの構造解析についても、 実際のクライオ電子顕微鏡の光学条件の決定に関し、 効果的なシミュレーションが出来るように様々な機能が付加されています。 【特長】 ■ソフトウエア本体にGPU搭載PCをセットすることで 圧倒的な高速計算処理を実現 ■収差類等の光学条件を考慮したシミュレーション計算 ■物性および原子レベルでの構造解析が可能 ■タンパク質試料やウイルスなどのデータも取り扱い可能 ■国内・海外製の6極子型収差補正電子顕微鏡もシミュレート可能 ★無料体験版ソフト有★
Eonix社CEOによる、次世代リチウムイオン電池開発に導入した革新的な材料検索事例を紹介します。
Eonix社は、家電、グリッドストレージ、電気自動車をターゲットとしたエネルギー貯蔵技術のための次世代材料の迅速な設計に焦点を当てたスタートアップ企業です。 CEOであるDon DeRosa, Ph.Dは、ハイスループットなスクリーニングと物理ベースのモデリングを組み合わせることで、より優れたバッテリーを構築するための材料探索をどのように変革できるかを説明しています。
AbbVieとSchrodingerの共同研究チームによる、非晶質固体分散体（ASD）の溶解反応の背景にあるメカニズムの理解。
エグゼクティブサマリー ・特定の条件下で様々な薬物とポリマーの組合せの溶解プロファイルを評価 ・特定の製剤で放出遅延の原因となる相互作用を特定 ・分子レベルの視覚的および数値的洞察による、整合された相補的な実験データ ・目標とする溶解性を達成する製剤組成の新たな賦形剤に関して得られた洞察 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。
学習モデル作成からコンサルティング！リアルタイムシミュレーションを実現
CAEに携わっている方、こんな悩みはありませんか？ ・パラメータスタディに時間がかかり過ぎる ・ルーチンワークのCAEを高速化したい ・リアルタイムにCAEを利用するには計算速度が足りない その悩み、CAE代理ソリューションが解決します！ CAE代理ソリューションは、ディープラーニングを用いてシミュレーションを代替するコンサルティングサービスです。
より迅速な新規材料開発の実現にむけて
「シュレーディンガーのツールと前例のない計算能力にアクセスできるようになったことで、パナソニックインダストリー株式会社のイノベーションの方法がかわりました。」 パナソニックインダストリー株式会社 技術本部 プロセスデバイス革新センターのプリンシパルエンジニアである松澤伸行氏に対するインタビューに基づく記事です。ぜひ、お読みください。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
PVD、プラズマCVD、そしてエッチングなどどのような反応にも対応可能です！
『表面形状・シミュレーション・モジュール（FPSM2D）』は、 粒子モンテカルロ法により、基板表面での様々な反応を考慮し、 基板、堆積膜の経時変化を計算するモジュールです。 PVD、プラズマCVD、そしてエッチングなどどのような反応にも対応可能。 入射粒子情報（粒子フラックス、入射エネルギー・角度分布）はPEGASUS 気相モジュール、PEGASUS表面科学系モジュールからの出力を使用するか、 もしくは当製品が備えている入力方法で使用者が指定します。 【特長】 ■粒子モンテカルロ法を用い、セル法により固体層占有率、表面被覆率を 考慮し形状を表現 ■セル法特有のシャープな境界面は用いず、固体層占有率による勾配から 入射角を決定し、入射角依存の鏡面反射確率、反応確率に適用 ■ガス種、反応式、錯体、ポリマーなどの数に制限はない ■2次元直交メッシュで定義されるが、初期形状は任意形状で与えることが可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
見落とされがちなコンフォマーをカバーすることができ、ワークフローが簡素化され、再現性と予測可能性が高まります。
シュレーディンガーの材料科学反応ワークフローでは、コンフォメーション空間の自動調査により、見落とされがちなコンフォマーをカバーすることができます。 さらに、量子化学計算の自動化により、何百ものファイルやプロパティの綿密なメンテナンスや、専門的なトレーニングなどを必要とする困難なプロセスを排除することができます。 これにより、ワークフローが簡素化され、再現性と予測可能性が高まります。 【掲載事例】 ■ディールス・アルダー反応 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
