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コンタミ成分が増加しても正確に測定！シンプルかつ迅速な使用手順
『ZESTRON Bath Analyzer 10』は、アルカリ系洗浄液向け 濃度測定キットです。 シンプルで使いやすく、コンタミ成分含有の薬液に対しても 同様に、正確に濃度を測定することが可能。 最小限の器具とわずかなスペースで使用できます。 ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■正確な濃度測定 ・コンタミ成分が増加しても正確に測定 ・新液でもコンタミ成分含有の液でも正確に使用可能 ■色素変化によりアルカリ度を示す ■シンプルかつ迅速な使用手順 ■どこでも使える持ち運び可能な携帯ケース入り ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
粘着性フラックスを除去することで、ボイドのないアンダーフィルに！画像解像度も改善
『ATRON AC 205』は、基板からフラックス残渣を除去するため 設計されたFASTテクノロジー系の洗浄剤です。 当製品はより短い処理時間かつ長寿命。 特に短い処理時間が要求される高圧インライン洗浄装置に好適。 また、パワーLEDやフリップチップパッケージ、CMOS、 BGAにも効果を発揮します。 【特長】 ■先進の鉛フリー・共晶はんだフラックス残渣などをより素早く除去 ■マイルドな組成のため、はんだ付け部やパッド外観の輝きを保つ ■パワーLEDの光変換や寿命、ワイヤーボンディングの質を向上させる ■エタノールアミン他の有害物質が含まれていない ■非常にVOC 値が低い ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
インラインまたはバッチ式洗浄装置にて高中水圧で使用可能！
『ATRON AC 207』は、FASTテクノロジーを基に特に低濃度で処理するため 開発された洗浄剤です。 一般的な界面活性剤系洗浄剤の洗浄性と液寿命を向上させ、 特に感作性が高い金属に対応できるよう開発されました。 マイルドな組成で低濃度仕様のため、当製品はアルミ、真鍮、ニッケル等 のような感作性が高い金属に対し優れた材料適合性を示します。 【特長】 ■低濃度・低温でも優れた洗浄性を発揮 ■幅広い種類における先進鉛フリー・共晶フラックスの素早い除去が可能 ■マイルドな組成によりはんだ付け部及びパッドの光沢を保つ ■粘着性フラックスを除去し、ボイドのないアンダーフィルを保つ ■パワーモジュールのワイヤボンディング品質が向上 ■長寿命かつVOC 値が低い ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
表面張力が低いことが特長！狭い場所にも良好な洗浄結果をもたらします
『HYDRON SE 230A』は、浸漬工程用一相タイプ水系洗浄剤です。 リードフレームやディスクリート部品、パワーモジュール、 パワーLED、フリップチップやCMOSといった各種半導体から ダイアタッチ時に発生するフラックス残渣を確実に除去。 また、ワイヤボンディングやモールディングなど後工程での 銅基板の酸化膜除去にも優れています。 【特長】 ■銅基板をシミなく活性化、活性化された表面を一定期間保持させる ■感作性の高い材料への材料適合性に優れる ■ウェハバンプ形成後のフラックス除去に優れる ■一相構造のため工程管理が容易で、浸漬工程において優れた性能を発揮 ■イオン交換水でのリンス性が良好で残渣を残さない ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
管理プロセスパラメータのトレーサビリティを継続的にデータ集積！
『ZESTRON EYE』は、フラックス洗浄工程においてリアルタイムで、 かつフラックスの混入には影響されずに洗浄液濃度の測定と管理を 行うことができるデジタルモニタリングシステムです。 一般的に使われている洗浄装置のメーカー・タイプを問わず 容易に組み込むことが可能。 品質保証のためデータ管理・保存を含めた自動工程管理をご提供できます。 【機能】 ■新建浴液及び使用中液の濃度を正確に自動測定 ■工程稼働中の洗浄剤濃度に素早く反応、リアルタイムで洗浄剤濃度を管理 ■タッチパネルのインターフェースで簡単な使用 ■洗浄装置PLCや自動補給システムとの連動 ■自動測定による作業者負担の軽減 ※ゼストロン洗浄剤のみ対応です。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
高性能制御基板のフラックス洗浄について！洗浄ノウハウをご紹介
高性能制御基板のフラックス洗浄において、有機溶剤系洗浄剤×噴流方式を 採用していました。 この方法で基板の露出表面は洗浄できていましたが、スタンドオフが20μmを 下回っている部品下部を完全に洗浄できず、必要となる性能が 発揮されないという不良が発生していました。 本ページでは、この課題を解決した方法についてご紹介します。 ※詳細内容は、関連リンクより閲覧いただけます。 ※PDF資料は先端電子部品の洗浄技術について解説した技術資料です。
プリント基板（パワーモジュール・パワーLED・フリップチップ等）の洗浄に適したpH中性！材料適合性に優れています。
VIGON N 600 は中性水系フラックス洗浄剤です。 インライン・バッチ式スプレー、浸漬方式用として開発されました。 中性でなおかつ優れた洗浄性と基板から幅広い種類のフラックス残渣を除去する能力は今までにない洗浄剤です。 また中性であるため、本洗浄剤は感作性の高い金属やポリマーに対して高い材料適合性を持ち合わせています。 【特長】 ■pH中性のため、優れた材料適合性 ■各種のフラックスに対して優れた洗浄性 ■フィルターによりフラックスを系外へ排出・長い液寿命 ■低VOC、環境対応型洗浄剤 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
超音波・噴流装置向け水系フラックス洗浄剤。優れた洗浄性・環境対応型！
VIGON US は、特に超音波や噴流、遠心分離洗浄装置向けの水系洗浄剤です。 電子基板やフリップチップ、CMOSからのすべてのタイプのフラックス残渣を除去します。 【特長】 ■超音波・噴流で優れたフラックス洗浄性能 ■水系のため低VOCで環境対応 ■フリップチップ・BGA洗浄に実績あり ■フラックス分離除去性能のため洗浄液の長寿命化 ■引火点なし、高い作業安全性 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
引火点がなく安全、低VOCで環境に良い！液寿命が長く、洗浄性が安定した水系フラックス洗浄剤
ATRON SP 200は水系のアルカリ界面活性剤系洗浄剤で、パレットやフラックス回収装置向けに焼き付いたフラックス除去用として開発されたものです。 メタルマスクからクリーム半田を除去することも可能です。 スプレー、超音波、エアーバブリング装置などの使用に適しています。 【特長】 ■パレット・リフロー炉部品などの固着したフラックス洗浄に最適 ■液の長寿命化によるコスト・入替の手間などの削減、洗浄性能の安定化 ■低揮発性・低臭気による労働環境の改善 ■水系のため引火性がなく、作業安全性の改善 ■低VOCのため、地球環境保全への貢献 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
プリント基板・パワーモジュール・リードフレーム向け洗浄剤。幅広い用途に使用可能な優れた洗浄力かつ長寿命！
ZESTRON FA+は電子部品、セラミック複合基板、パワーモジュール及びリードフレームからあらゆる種類のフラックス残渣を洗浄するため開発された溶剤系洗浄剤です。 優れた洗浄性を持ち、コンタミ許容量が高いため、非常に長い液寿命が特徴です。 【特長】 ■優れた洗浄力、長い洗浄液寿命 ■ハロゲンフリー・生分解性 ■パワーモジュール、リードフレームベースのディスクリート、パワーLED のワイヤボンディング/モールディングの品質を向上 ■フリップチップ・CMOS から粘着性フラックスをすべて除去することにより、ボイドのないアンダーフィルをもたらし、画像解像度を向上 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
電子部品やセラミック複合基板、リードフレームベースのディスクリート向け。洗浄・リンスを一液で可能なので、工程管理が簡単！
ZESTRON VD は溶剤系洗浄剤です。 クローズド方式の一層式真空洗浄機において、電子部品やセラミック複合基板、リードフレームベースのディスクリートからフラックスの残渣を取り除くことができます。 【特長】 ■溶剤系、幅広い種類のフラックスに対し優れた洗浄性 ■蒸留再生が可能、1チャンバー式真空蒸留・蒸気リンス工程に対応 ■1液にて浸漬洗浄・リンスも可能 ■界面活性剤非含有 ■塩素・フッ素・臭素などのハロゲン化合物の含有なし ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
洗浄後のフラックス残渣を呈色させる！簡単・安価なフラックス残渣測定。
ZESTRON Flux Testは呈色反応によってフラックス活性剤中のカルボキシル基を示します。 目視できない残渣を容易に検知することができ、イオンコンタミ測定の重要な補完試験です。 また、コンタミがどのように分布しているかを可視化することができ、部品信頼性評価の改善に繋がります。 【特長】 ■場所を取りません ■投資コストがかかりません ■工場のどこででもご使用できます ■試験一回あたりのコストが安価です ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
異物分析などの協力支援を依頼など！改善事例をご紹介しております
当資料は、品質トラブルの原因分析と洗浄プロセス導入サポートの 改善事例をご紹介しております。 運用中のプロセスにて洗浄後、ワークへ異物が付着する品質トラブルが 発生し、お客様の取引先から是正対応を求められた事例などを掲載。 なお、掲載カタログは試し読み版となっておりますので、 完全版をご希望の方は、当社までお気軽にお問い合わせください。 【掲載内容一例】 ■お客様のお悩み ■背景 ■ゼストロンのサポート内容 ※ダウンロードいただけるPDF資料は試し読み版です。 完全版をご希望の方はお問い合わせ下さい。
プリント基板のフラックス洗浄などに！多様な水系・溶剤系洗浄剤を取り揃え
当カタログでは、ゼストロンジャパン株式会社の製品ラインアップ をご紹介しております。 「プリント基板洗浄」や「パッケージ・ウェハ洗浄」などの 状況に適した製品例や、アプリケーション、特長を掲載。 各製品テクノロジー&ブランドの解説やラインアップもご紹介 しております。製品選定の際に、是非ご活用ください。 【掲載内容(一部)】 ■洗浄工程導入フロー ■プリント基板洗浄 ■パワーエレクトロニクスのフラックス除去 ■パッケージ・ウェハ洗浄 ■メタルマスク、スクリーン、印刷ミス基板洗浄 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
岐路に立つエレクトロニクスの世界！イオン残渣の課題と分析方法を具体事例を使って解説！
当資料は、イオン残渣の課題と分析方法について解説しております。 難解であるテーマ「イオン」に関してフォーカスし、 現状どのような課題があるのかをご紹介。 イオン残渣の要因をはじめ、フラックス洗浄の意義、 具体事例などを図や詳しい解説とともに掲載しておりますので、 是非ダウンロードしてご覧ください。 【掲載内容(一部)】 ■はじめに ■そもそもイオンとは ■イオン残渣の要因 ■フラックス洗浄の意義 ■具体事例 ■有機溶剤を主体とした洗浄 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
