更新日： 集計期間:2026年01月07日～2026年02月03日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。
更新日： 集計期間:2026年01月07日～2026年02月03日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。
更新日： 集計期間:2026年01月07日～2026年02月03日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。
1～30 件を表示 ／ 全 106 件
乾燥工程や廃液処理の手間が不要！複雑な形状でも傷をつけず、高効率に洗浄できるドライ洗浄装置
ドライアイススノー洗浄システム「Quick Snow」～パラレルリンク型高速確度制御装置搭載型～はエア・ウォーターの液化炭酸ガスを使ったドライアイススノー精密洗浄システムの技術と、ＮＴＮのパラレルリンク型高速角度制御装置の技術を融合した微細洗浄装置です。 ノズルの向きを滑らか、かつ素早く操作しながら複雑な形状でも傷をつけず、高効率に洗浄できることが特長です。 【特長】 １． 非常に滑らかなノズルの動きで高性能なドライ洗浄を実現 ２．対象物へのダメージレス ３．乾燥工程不要によるサイクルタイム短縮 ４．メンテナンス性向上(コンパクトな配線の取り回し） 【用途】 自動車部品や半導体・電子制御部品など複雑形状品の精密洗浄 ※デモをご希望の方は、お問い合わせフォームより「デモ希望」と明記の上、お問い合わせ下さい。 ※「QuickSnow」のカタログは、ダウンロードからPDFデータをご覧下さい。
乾燥工程や廃液処理の必要なし！半導体や電子部品も洗浄できるドライ洗浄装置
ドライアイススノー洗浄システム「QuickSnow」は、エア・ウォーターの液化炭酸ガスを使ったドライアイススノー精密洗浄システムの技術です。 【特長】 １．洗浄による残渣なし ２．ドライ洗浄 ３．対象物へのダメージレス ４．乾燥工程不要によるサイクルタイム短縮 【用途】 ・パーティクル除去（サブミクロン～ミクロンオーダーまで対応可） ・有機物除去 【洗浄対象】 ・半導体デバイス（イメージセンサーなど） ・光学部品（光ファイバー、カメラレンズなど） ・電子部品（ハードディスクドライブ関連部品など） ・フィルム製造（製造装置ローラー、高機能フィルムなど） ・FPD部品（ガラス基板、有機EL基板など） ・自動車部品（ボディ部品、金属部品など） ※デモをご希望の方は、お問い合わせフォームより「デモ希望」と明記の上、お問い合わせ下さい。 ※「QuickSnow」のカタログは、ダウンロードからPDFデータをご覧下さい。
乾燥工程や廃液処理の必要なし！半導体や電子部品も洗浄できるドライ洗浄装置
ドライアイススノー洗浄システム「QuickSnow」は、エア・ウォーターの液化炭酸ガスを使ったドライアイススノー精密洗浄システムの技術です。 【特長】 １．洗浄による残渣なし ２．ドライ洗浄 ３．対象物へのダメージレス ４．乾燥工程不要によるサイクルタイム短縮 【噴射タイプ】 ・スポット型 → 一般的な噴射タイプ ・広角型 → 幅広噴射に対応した噴射タイプ （その他、複数ノズル型も提供可能） 【用途】 ・パーティクル除去（サブミクロン～ミクロンオーダーまで対応可） ・有機物除去 【洗浄対象】 ・半導体デバイス（イメージセンサーなど） ・光学部品（光ファイバー、カメラレンズなど） ・電子部品（ハードディスクドライブ関連部品など） ・フィルム製造（製造装置ローラー、高機能フィルムなど） ・FPD部品（ガラス基板、有機EL基板など） ・自動車部品（ボディ部品、金属部品など） ※デモをご希望の方は、HPお問い合わせフォームより「デモ希望」と明記の上、お問い合わせ下さい。 ※「QuickSnow」のカタログは、ダウンロードからPDFデータをご覧下さい。
「洗う化学を学ぶ」をコンセプトに、「荒」川化学が、ものづくりに欠かせない「洗う」技術に関した様々な情報を集約しております。
http://ma.imsys.jp/r/1109037?m=20720&c=00000000 ◎洗浄学習塾 ・知っているようで知らない”洗浄”のメカニズムや体系、特徴などを分かり易く 解説しています。 ・実際の生産現場で起こりうる、洗浄不良モード・対策等についても掲載予定です。 ◎洗浄システム選定お助けツール ・短い設問にお答え頂くだけでお客様に適した洗浄システムをご案内致します。 ・導入検討のヒントとして是非ご利用下さい。 ◎洗浄導入事例集 ・基板洗浄、カメラモジュール等、各分野での実際の導入事例をご紹介し、 導入時のポイントや最新製品情報も掲載しております。 ◎洗浄実験依頼書 ・具体検討をお考えのお客様に対しては、HPより依頼書フォームをダウンロード頂き、 必要情報をご記入のうえ、弊社 大阪研究所での洗浄テスト対応も可能です。 ◎洗浄Ｑ＆Ａ ・お客様からよく寄せられるご質問など記載しておりますので、ご参考ください。
高圧少量の水で抜群の洗浄力！
ワンタッチで温水・スチーム・冷水などの切替が可能。安全性を重視した設計です。 高温水及びスチームの高圧噴射水流で、お使い頂いているパッカー車・重機・コンテナ類などが見違えるほどキレイになります。 また、除菌・殺菌にも絶大の効果を発揮します。
工場外の河川・排水溝への流出油対策や、場内の床・設備洗浄に！油の二次汚染防止、無毒性の為使って安心！！
本品は、汚染の最大原因である油を分散し、洗浄排水中の油が 二次汚染を引き起こさず、人体にも優しく毒性もありません。 軟水・硬水・海水と水を選ばず使用できます。 無毒性の為使って安心！東北地方において大手電子部品工場や 金型加工メーカーで高評価！生分解性（微生物などによる分解）が ９７％以上で油を加水分散できる『オイルカットクリーン』 【メリット】 ■人体にも優しく無毒性 ■希釈タイプなので場所を取らず、低コスト ■軟水・硬水・海水と水を選ばず使用可能 ■舗装や塗装面にも使用可能 ＊詳細は、お問い合わせ下さい。
ハンドガンタイプの超高圧洗浄機。デリケートな洗浄対象も傷つきません
【手軽で、強力なクリーナー】 ダイナジェット：350圧力35Mpa・水量21L/min ダイナジェット：350圧力35Mpa・水量15L/min ◆2機種とも専用温水スチーム発生装置ダイナBOXを 併用する事ができ、洗浄能力を更に高める事が可能です。 ◆設備コストはこの圧力・流量レベルでは最も廉価を誇ります。
母材を傷つけずに水のみで付着物を強力に剥がす！受託加工だから設備コスト不要！
『超高圧ウォータージェット洗浄』は、金属製品に固着した 付着物の剥離に最適なクリーニング加工。 鉄・アルミ・ステンレスなどに付着した樹脂、油脂、塗料、ゴム、コンクリートを 水のみで母材を傷つけずに剥離します。 接着剤付着治具の剥離洗浄、塗装治具・台車の剥離洗浄などに最適です。 【特長】 ■洗浄剤不要 ■排水処理不要 ■受託加工なので設備コスト不要 ■溶剤や機械式、ブラスト洗浄の代替に ※詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。
ドライアイスは不要です！液化炭酸ガスでドライブラスト洗浄します！
＜CO2スノージェット洗浄装置とは＞ 液化炭酸ガスボンベまたはタンクがメディア供給源です。 洗浄装置の特殊なノズルから粉末状のCO2スノーを放射します。 CO2スノーの温度は約-78度。基材に当たると、4つの効果でドライ洗浄します。 １）ブラストの衝撃で洗浄 ２）スノーが膨張するエネルギーで付着異物を除去 ３）スノーが気体に気化するエネルギーで洗浄 ４）スノーの低い表面張力で表面リンス効果 CO2スノークリーニング技術により、基材の表面に付着した様々な汚染物質を除去することができます。溶剤を使用しない環境に優しい技術で、表面に残留物や傷は残りません。 ＜ドライアイス洗浄機との違い＞ 従来のドライアイス洗浄機は、金型や設備の洗浄を主眼に置いた洗浄機でした。 CO2スノージェット洗浄装置は、" 製品の洗浄 "がメインです。 電子部品やプリント基板の接点のような部品もダメージレスでドライ洗浄します。レンズやガラス製品、塗装前の樹脂成型品など様々な製品のドライ洗浄に適用できます。
一液で、高品質な洗浄を実現、安価で回収率も高く、「品質と経済性を両立」させた高性能洗浄剤 ”スカイクリーン”。
油性・水溶性脱脂洗浄、基板・高機能デバイス用フラックス洗浄、光学レンズ、樹脂、パーティクル洗浄など、様々な洗浄ニーズに豊富な洗浄剤ラインアップでお応えする環境対応型の１液高性能洗浄剤です。 《作業環境と地球環境に優しい≫･･･オゾン破壊、地球温暖化の懸念なし、 ＰＲＴＲ法、安衛法・有機則などに非該当、ＲｏＨＳ規制クリア。 《高品質》･･･様々な汚れに対応する優れた洗浄力と乾燥性、豊富な洗浄剤ラインアップで幅広い洗浄分野をカバー。 《低ランニングコスト》･･･蒸留再生によるリサイクル洗浄が可能、高い回収率と液単価も安価で経済性に優れます。 （⇒ラインナップ詳細はダウンロードまたはコメント記入の上、お問い合わせください。）
遠隔地から橋脚やベント、法面などの変動を24時間観測
傾斜センサーを設置して橋梁現場におけるベントやサンドル、橋脚、橋台や、法面の傾斜変位を観測するシステムです。無線でデータを取り込み、WEBブラウザに表示します。 緊急性が高い現場において、常時傾斜計測することで現場の安全を守ります。電源を繋げることで常に稼働し、遠隔地のパソコンから任意の時間に計測指示、計測設定の変更が可能です。 NETIS：KT-170096-A
工場や商業施設において発生する水や空気関連の設備・機器のトラブルを解決する方法、システムを考え実行する会社です
つの洗浄工法で工場プラントやパイプ、タンク、熱交換器、スクラバー他、安定稼動をお約束します
フォトリソ工程装置内（ノズル、 搬送ローラー、 槽壁等）に固着したレジストスカムをスプレイ処理を施す事で簡単に除去が可能です
ドライフィルムレジスト(DFR)現像槽、剥離装置、ソルダーレジスト(SR)現像装置に付着したスカムをスプレイ処理により擦らず、簡単に除去可能なフォトリソ工程洗浄剤です。消泡剤不要であり、溶解許容量まで繰り返し使用する事が可能です。
焼き付いたフラックスを確実に除去でき、低臭気・低ランニングコスト！
ATRON SP 300 は水系のアルカリ性界面活性剤で、特にリフロー炉部材、パレットなどから焼きついたフラックスを除去するために開発されたものです。 【特長】 ■パレット・リフロー炉部品などの固着したフラックス洗浄に好適 ■液の長寿命化によるコスト・入替の手間などの削減、洗浄性能の安定化 ■低揮発性・低臭気による労働環境の改善 ■ATRON SP 300（希釈品）は水系のため引火性がなく、作業安全性の改善 ■低VOCのため、地球環境保全への貢献 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
脱IPA、安全で環境に優しい！不織布に対する優れた濡れ性により、クリーム半田の裏周りを大幅に軽減。
VIGON UC 160は、メタルマスクのクリーム半田を除去するため専用設計された印刷機内用水系洗浄剤です。 不織布に対する優れた濡れ性を持っており、洗浄性が向上し、クリーム半田の裏周りを大幅に軽減させます。 その結果、基板上の半田ブリッジを抑制することができ、信頼性の高い印刷結果をもたらします。 また、健康及び安全性にも優れているため、IPAの代替に理想的な製品です。 【特長】 ■プリンタ内メタルマスク裏拭洗浄 ■環境に優しく安全性の高い水系洗浄 ■ペーストの印刷性に悪影響なし ■ペーパーの使用量低減による工程コストメリット ■高い洗浄性による不良率の低減 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
クリーム半田やSMTボンドを除去！水系洗浄剤のため引火点がなく、高い安全性。
VIGON SC 202は、メタルマスク洗浄においてクリーム半田やSMTボンドを確実に除去する水系洗浄剤です。 また、印刷ミス基板の洗浄にも優れています。 スプレー洗浄機及び超音波洗浄機での使用を推奨します。 【特長】 ■樹脂・接着剤・インキ・はんだペースト・フラックス汚れを効果的に除去 ■水系洗浄剤のため引火点がなく防爆仕様不要 ■１液で洗浄・リンス可能 ■界面活性剤非含有 ■ハロゲン化合物含有なし ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
洗浄が必須とされていたのはなぜか。無洗浄はんだの洗浄需要などについて解説
当資料では、はんだの進化と洗浄についてご紹介しております。 なぜはんだ付けを行なった後、製品の洗浄が必要とされていたのか の解説や、無洗浄はんだを洗浄することはなぜ難しいのかについて掲載。 また、はんだの金属組成や、MPC洗浄剤の無洗浄はんだへの対応力に ついてもご紹介しております。是非、ご一読ください。 【掲載内容(一部)】 ■文明発展の立役者「はんだ」の軌跡 ■洗浄が必須とされていたのはなぜか？ ■はんだの金属組成 ■無洗浄はんだの洗浄需要はなぜ生じるのか？ ■「無洗浄はんだ」の洗浄が難しいのはなぜか？ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
既存洗浄方式の限界、難関洗浄への挑戦！低スタンドオフの洗浄などについて解説
当資料では、「低スタンドオフ」を例として、難化しつつある洗浄に 対しての実情とそれを解決する当社洗浄プロセスをご提案しております。 多方面での技術的革新がなされる昨今で、エレクトロニクス洗浄は 新たな段階に進んでおり、「難化」しております。 洗浄需要の背景とポイントや洗浄方式の重要性などについて 解説しておりますので、是非ご一読ください。 【掲載内容(一部)】 ■はじめに～洗浄需要の動向変化～ ■洗浄の難化－製品の高性能化－ ■低スタンドオフの洗浄需要の背景とポイント ■低スタンドオフの洗浄 ぬれ性・洗浄性の確保 ■MPCを用いた洗浄のメリット ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
デジタル社会は新たな境地へ！5G下に求められるパワー半導体の姿や洗浄工程の重要性などを掲載
当資料は、5Gにおけるフラックス洗浄の課題について解説しております。 注目を浴びる5Gの展望と、未来世界には欠かせない1つである 「パワー半導体」にスポットをあてご紹介。 5G下に求められるパワー半導体の姿や「洗浄工程」の重要性、 洗浄課題に向けた取り組みなどを掲載しております。 是非、ご一読ください。 【掲載内容(一部)】 ■はじめに ■5Gの展望 ■5G下に求められるパワー半導体の姿 ■パワー半導体＝「洗浄工程」の重要性＝ ■パワー半導体における洗浄課題に向けた取り組み ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
洗浄後評価が問われる時代に！外観検査以外の有効な分析手法などを掲載
当資料は、フラックス洗浄後の清浄度評価方法について解説しております。 既存の主流評価方法としては、信頼性評価をパスした後、実際の製造工程 ではAOIによる外観検査を行うことで、製品不良の可否を判断しており、 製品検査後において不良が生じてしまう事例が増加している現状があります。 このような事例の発生要因と、外観検査以外の有効な分析手法に関して ご紹介しておりますので是非、ご一読ください。 【掲載内容】 ■洗浄技術と同様に洗浄後評価が問われる時代に ■フラックス残渣成分の多様化 ■複合化した成分の切り分けと分析手法 ■今後の展望・洗浄の付加価値 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
スプレー(シャワー)・超音波・噴流洗浄や、洗浄方法選定におけるポイントについて解説
当コラムでは、フラックス洗浄方法を検討する上で、ポイントの1つである 「洗浄方式」の種類と選定方法についてご紹介します。 フラックス洗浄とは、プリント基板、パワーモジュール、半導体パッケージ、 リードフレームなどを保護しながらフラックス残渣(コンタミ)を 除去する事です。 フラックス残渣があることにより、マイグレーションの発生やモールディング の密着不良などの不具合が起きる可能性があり、フラックス洗浄が必要な ケースがあります。 ※コラムの詳細内容は、関連リンクより閲覧いただけます。 詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。
基板洗浄の必要性・イオン残渣や金属塩の影響を含む最新の課題・分析手法も解説します。
基板洗浄とは？ 基板洗浄は不要？ フラックス洗浄が必要な分野 などを詳しく解説しています。 日本では、無洗浄ペーストを採用しているケースが多いですが、 高信頼性を確保するためには、洗浄は必須となってきています。 イオン残渣・金属塩の影響による絶縁抵抗性など、 最新の洗浄課題も当コラムでご案内。 こんな方へおすすめ！ *「洗浄しているのに不良が出る」原因を探りたい * 最新の洗浄課題・評価基準が知りたい * 基板洗浄を社内で説明・展開したい方 など 続きは関連リンクからご覧ください。 ※コラムの詳細内容は、関連リンクより閲覧いただけます。 詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。
引火点なし！中性水系洗浄剤 銅表面の酸化膜除去にも優れます
『VIGON PE 180』は、スプレー装置用にてパワーエレクトロニクスや プリント基板のフラックス除去用として開発された中性の水系洗浄剤です。 フラックスを確実に除去し、材料適合性に優れた製品。 リードフレーム、ディスクリート部品、パワーモジュール、 パワーLED、プリント基板などのフラックス除去として用いられます。 また次工程のワイヤボンディング/接着ボンディングやモールディング性 向上のため銅表面の酸化膜除去にも優れています。 【特長】 ■フラックス除去に優れた効果を発揮 ■銅表面をシミなく活性化 ■中性のため、優れた材料適合性を示す ■MPC 組成によりリンス性が良好 ■引火点を持たないため防爆設備を必要としない ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
材料適合性にも優れる！ダイアタッチ時などに発生するフラックス残渣を除去し後工程を最適な表面状態に仕上げることが可能
『HYDRON SE 220』は、浸漬工程用一相タイプ水系洗浄剤です。 リードフレーム、ディスクリート部品、パワーモジュール、パワーLED、 フリップチップやCMOS といった各種の半導体パッケージから ダイアタッチ時などに発生するフラックス残渣を除去。 一相構造のため、非常に優れた工程管理性と良好なリンス性を示し、 ワイヤボンディングやモールディングなどの後工程を好適な表面状態 に仕上げることができます。 【特長】 ■浸漬工程において優れた性能を発揮 ■イオン交換水でのリンス性が良好で残渣を残さない ■チップパッシベーションへのアタックもない ■活性化された表面を一定期間保持 ■引火点がなく、低臭気のため、防爆仕様なしで浸漬洗浄槽に導入 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
高いコンタミ許容量！長い液寿命、低いメンテナンスコスト、洗浄部品あたりのコストを低減
『VIGON A 201』は、低スタンドオフ部品下部など微細空間において スプレー洗浄で優れた性能を発揮するフラックス洗浄剤です。 低濃度で使用し、MPCベース洗浄剤である当製品は共晶・鉛フリー 無洗浄はんだのフラックス残渣除去に特に好適。 洗浄後に添加物なしで光沢のあるはんだ接合面を保ちます。 また、フリップチップおよびCMOSから粘着性フラックスを 除去するのに適しています。 【特長】 ■低スタンドオフ部品もきれいに洗浄できる ■特に鉛フリー無洗浄はんだに効果的 ■洗浄後の基板上はんだ付け部の光沢を保る ■長い液寿命、低いメンテナンスコスト、洗浄部品あたりのコストを低減 ■リンスが簡単で、表面に残渣を残さない ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
浸漬洗浄での使用も適した製品！リンス回数を減らすことができます
『VIGON N 640』は、プリント基板のフラックス除去のために専用設計 された中性洗浄剤です。 バッチ式スプレー洗浄機での使用に好適。一般に除去するのが難しい 先進のクリーム半田やフラックスに対して優れた洗浄性があります。 また、銅やニッケルなどの感作性の高い金属との優れた材料適合性も 持ち合わせています。 【特長】 ■バッチ式スプレー洗浄機での使用に好適 ■運用性に優れ、タンクとチャンバー間の濃度を一定に保つ ■除去するのが難しいクリーム半田にも効果的 ■イオン交換水で簡単にリンスを行うことができる ■中性のため高い材料適合性がある ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
スプレー洗浄工程用！銅やアルミなどの感作性の高い金属に対し材料適合性が優れます
『VIGON N 680』は、水系で、スプレー洗浄(インライン・バッチ)用に 専用設計された中性洗浄剤です。 電子基板から多様なフラックス残渣を除去し、低スタンドオフ部にも 非常によく浸透して洗浄することが可能。 さらに感作性の高い銅などの金属に対しても優れた材料適合性があります。 ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■特に低スタンドオフ部品下部の洗浄に優れる ■高いリンス性が広い適用範囲をもたらす ■銅やアルミなどの感作性の高い金属に対し材料適合性が優れる ■工程によっては低濃度でも十分な効果がある ■中和処理なく廃水処理へ送り込みできる ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
弱アルカリ性フラックス洗浄剤、リンス性に優れ泡立ちせず、スプレーや浸漬装置用に好適！
『VIGON PE 194A』は、スプレー・浸漬装置用に専用設計された 水系弱アルカリ性洗浄剤です。 感作性が高い金属、特にダイとの材料適合性に非常に優れており、 さらに短時間での銅の酸化膜除去が可能。 MPCテクノロジーを基にパワー半導体やリードフレーム、 ディスクリート部品、パワーLED、プリント基板から フラックス残渣を確実に除去します。 【特長】 ■パワー半導体やプリント基板からフラックス残渣を確実に除去 ■弱アルカリ性で、特にダイや感作性が高い金属への材料適合性に優れる ■ボンディング接合などに対し、銅表面を活性化したきれいな状態に整える ■引火点を持たないため防爆設備を必要としない ■様々なタイプのスプレー装置でご使用可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
コンタミ成分が増加しても正確に測定！シンプルかつ迅速な使用手順
『ZESTRON Bath Analyzer 10』は、アルカリ系洗浄液向け 濃度測定キットです。 シンプルで使いやすく、コンタミ成分含有の薬液に対しても 同様に、正確に濃度を測定することが可能。 最小限の器具とわずかなスペースで使用できます。 ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■正確な濃度測定 ・コンタミ成分が増加しても正確に測定 ・新液でもコンタミ成分含有の液でも正確に使用可能 ■色素変化によりアルカリ度を示す ■シンプルかつ迅速な使用手順 ■どこでも使える持ち運び可能な携帯ケース入り ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
粘着性フラックスを除去することで、ボイドのないアンダーフィルに！画像解像度も改善
『ATRON AC 205』は、基板からフラックス残渣を除去するため 設計されたFASTテクノロジー系の洗浄剤です。 当製品はより短い処理時間かつ長寿命。 特に短い処理時間が要求される高圧インライン洗浄装置に好適。 また、パワーLEDやフリップチップパッケージ、CMOS、 BGAにも効果を発揮します。 【特長】 ■先進の鉛フリー・共晶はんだフラックス残渣などをより素早く除去 ■マイルドな組成のため、はんだ付け部やパッド外観の輝きを保つ ■パワーLEDの光変換や寿命、ワイヤーボンディングの質を向上させる ■エタノールアミン他の有害物質が含まれていない ■非常にVOC 値が低い ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
