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【精密位置決め装置】高分解能・高い位置決め再現性・位置決め後の位置保持性が高い位置決めステージ！
光学式リニアスケールをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 『 10nm 』分解能(*1)でストロークは『 200mm 』となっております。 自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。 スローダウンセンサを搭載しており、ストロークエンドでの停止時の衝撃を小さくできます。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-514との組み合わせ
真空中で使える 5nm分解能・高再現性・高保持性を持った高性能位置決めステージ
アウトガス対策を施した真空対応フィードバックステージです。 真空チャンバーにそのまま導入可能です。 自社開発したリニアスケールを内蔵しているため、薄型で軽量な設計、フルクローズドループ制御による高精度な繰り返し位置決め性能を持っています。 50mmストロークを5nm分解能で動作させることができます。
真空中で使える 5nm分解能で40mm動作の高性能位置決めステージ
アウトガス対策を施した真空対応フィードバックステージです。 真空チャンバーにそのまま導入可能です。 自社開発したリニアスケールを内蔵しているため、フルクローズドループ制御による高精度な繰り返し位置決め性能を持っています。 40mmストロークを5nm分解能で動作させることができます。
【真空対応】40mmの範囲を10nm分解能で動作する高性能位置決めステージ
アウトガス対策を施した真空対応フィードバックステージです。 真空チャンバーにそのまま導入可能です。 ステージ内蔵の光学式リニアエンコーダの位置情報によるフルクローズドループ制御を行っているため、高精度な繰り返し位置決め性能を持っています。 40mmストロークを10nm分解能で動作させることができます。
【10nm分解能】真空中で使用可能なリニアエンコーダ内蔵のロングステージ
アウトガス対策を施した真空対応フィードバックステージです。 真空チャンバーにそのまま導入可能です。 光学式リニアエンコーダを内蔵しており、エンコーダで検出した位置情報をもとにフルクローズドループ制御を行っているため、高精度な繰り返し位置決め性能を持っています。 移動範囲100mmと長いため試料の移動と精密位置決めが１台で可能だったり、広範囲のデータ（スペクトル等）が必要な場合に有効です。
【真空対応】リニアエンコーダ内蔵で10nm分解能のZ軸用位置決めステージ
光学式リニアエンコーダを搭載した高分解能Z軸用位置決めステージです。 10nm分解能でストロークは『 5mm 』又は『 10mm 』を用意。 アウトガス対策を施し、真空中で使用可能となっております。 テーブル面の傾きの変化を極力抑えた構成になっており、自社開発リニアエンコーダと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。
【真空対応】最小分解能0.00001°で±4°動作できるエンコーダ内蔵の微小回転ステージ
光学式リニアエンコーダを搭載した高分解能微小回転ステージです。 0.00001°分解能でストロークは±4° アウトガス対策を施し、真空中で使用可能となっております。 回転方向の調整用に適しています。
