千住金属工業 リフロー炉 SNR-850MB
マイクロボール専用微風循環式N２リフロー炉
SNRシリーズで好評の機能を搭載したマイクロボール実装用リフロー炉です。
- 企業：千住金属工業株式会社
- 価格：応相談
リフロー炉(加熱) - メーカー・企業と製品の一覧
更新日： 集計期間:2025年09月17日～2025年10月14日
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リフロー炉の製品一覧
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ギ酸・水素還元対応 卓上型真空はんだリフロー装置 RSO-200
金属の焼結にも使える最大昇温速度600K/min.の超高速昇温対応モデル。ユニテンプジャパン製
『RSO-200』は、最高0.01%のボイドフリーを可能にし、フラックスレスや 鉛フリーへの課題解決に好適な、卓上型真空はんだリフロー装置です。 接合する金属表面の酸化膜除去に”水素還元”の他、「ギ酸還元」に対応。 ギ酸の強力な還元作用で、フラックス無しでも濡れ性の向上を実現します。 また、業界最小クラスのコンパクト設計ながら、さまざまな試作開発に 対応する機能と性能を一台に凝縮。 リフロープロファイル設定の多彩さと抜群の温度コントロール性で、 パワーデバイスや航空宇宙開発などに求められる水準の高信頼性実装を実現します。 【特長】 ■毎秒10℃の超スピード昇温、さらに水冷式でタクトタイムを大幅削減 ■最大到達温度650℃対応 ■ギ酸・水素・窒素など様々な雰囲気環境に対応 ■設定した温度プロファイルをほぼそのまま実現 繰返し精度も高く、オーバーシュートも殆どゼロ ■加熱プレート上の面内温度差がほぼゼロで、大きなワークもムラなく加熱 ※無償デモのご依頼も承ります。お気軽にお問い合わせ下さい。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：日精株式会社 本社
- 価格：応相談
【超低価格】鉛フリープロファイル対応『コンパクト卓上リフロー炉』
＜研究開発や実験、評価など、非生産用途での大幅にコストを抑えたい＞という要望にお応え！最低限の機能が備わった搬送型卓上リフロー炉
超低価格を実現！ 加熱3ゾーン+250mm幅メッシュ搬送、最低限の機能が備わった 『コンパクト卓上リフロー炉』の販売を開始しました。 【特徴】 ■一般的な鉛フリープロファイルから均一加熱プロファイルまで対応 ■研究開発・実験・試作・評価など非生産用途での使用環境に好適 ■各種カスタマイズ対応はお問い合わせください 価格・納期・プロファイル測定・実機見学・デモ実施などお気軽にお問い合わせください。 ※加熱炉の新規用途も募集中。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、当社までお問い合わせください
- 企業：アントム株式会社
- 価格：応相談
スルーバッチ式簡易リフロー炉
卓上型の省スペースタイプながら大型コンベア式リフロー炉と同等性能を実現
特 徴 ・プロファイル作成が自由自在。 ・独自の加熱方式により急速昇温。高温半田にも対応。 ・準備時間、クールダウン時間を大幅短縮。余分な電力を使用しない省エネ設計です。 ・プリヒートゾーンを設け、生産タクトを大幅短縮。 ・スルーバッチ方式により大型コンベアタイプの性能を再現。
- 企業：JMPエンジニアリング株式会社
- 価格：応相談
はんだリフロー装置『RSS-160』
ギ酸ガス・水素ガス還元両対応！タッチパネル搭載多機能のはんだリフロー装置！
『RSS-160』は、カートリッジヒーターによる100K/minの昇温が可能な はんだリフロー装置です。 Φ6inch、150mm角対応で、鉛フリー・ボイドレス・フラックスレスを実現。 大気・窒素・真空・ギ酸・水素などの各リフローに1台で対応出来ます。 【標準ハードウエア仕様（一部）】 ■有効対象物サイズ（W×D×H）：155mm×155mm×35mm ■最大到達温度：400℃ ■最大昇温速度：100K/min（約1.7K/sec） ■加熱方式：カートリッジヒーター ■最大降温速度：100K/min（T＝400℃＞200℃） ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：ユニテンプジャパン株式会社
- 価格：応相談
はんだリフロー装置『RSS-110』
100V電源対応！Φ4inch、100mm角対応で業界最小クラスのコンパクトモデル！
『RSS-110』は、鉛フリー、ボイドレス、フラックスレスを実現した はんだリフロー装置です。 タッチパネル搭載多機能で、大気・窒素・真空・ギ酸・水素などの 各リフローに1台で対応。 装置サイズは260×420×220mm（W×D×H）で、装置重量は約10kgです。 【標準ハードウエア仕様（一部）】 ■有効対象物サイズ（W×D×H）：105mm×105mm×35mm ■最大到達温度：400℃ ■最大昇温速度：120K/min（2K/sec） ■加熱方式：カートリッジヒーター ■最大降温速度：180K/min（T＝400℃＞200℃） ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：ユニテンプジャパン株式会社
- 価格：応相談
ギ酸還元真空リフロー炉
ギ酸分子がワーク表面にアプローチし、能動的に酸化膜を除去(還元)
当社で取り扱う『Flux-less Vacuum Reflow』をご紹介いたします。 フラックスに代わり、ギ酸ガスが金属表面の酸化膜を除去するため 後工程でのフラックス洗浄が不要となります。 (はんだ箔・専用ペースト等使用時) また、真空/復圧を用いることで、はんだ飛散やボイド低減に 効果を発揮します。 【特長】 ■ギ酸の直接気化 ・高速気化(4g/sec) ・キャリアガス不要 ■輻射熱による高速昇温 ・最高到達温度：400℃以上 ・輻射熱による高い加熱効率 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
- 企業：株式会社オリジン
- 価格：応相談
【納入事例】卓上リフロー炉
炉長が短く、上下温度変更可のため、量産前のデータ収集にも好適！
「卓上リフロー炉」は、基板予備加熱やハンダ付工程で使用されています。 最近では破壊試験用途で使用されるケースが多くなっております。 昇温曲線から160℃～180℃キープ(第一段階)、240℃～260℃キープ (照射エンド)。基板の形状によっては、熱風を併用したものも提案可能。 また炉長が短く、上下温度変更可のため、量産前のデータ収集にも好適で、 高精度の温度分布とコンパクト設計で人気の機種です。 【推奨マシン】 ■品名：卓上リフロー炉 ■型式：USTR-1210-NET III ■使用熱源：ウルトラサーモIII A 上下各5枚 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
- 企業：TPR商事株式会社
- 価格：応相談
『N2リフロー装置 VFR-4010N』
特殊フィルタで簡単メンテナンスを実現！熱風／微熱風／微熱風＋遠赤の使い分けが可能！
『N2リフロー装置 VFR-4010N』は、特殊遠赤外線パネルヒータの採用により、熱風循環と 併用したユニークな加熱方法を組み合わせた装置です。 基板（板厚）や実装部品に応じて、熱風循環のみではなく、遠赤外線効果 での優位性を活かした生産も可能。 基板や部品に配慮した装置になります。 【特長】 ■遠赤併用熱風循環リフロー炉 ■特殊遠赤外線パネルヒータ採用 ■炉内フラックス溜まりを最小限に抑えメンテナンス期間延長 ■特殊フィルタで炉内ミスト回収（洗浄にて繰り返し使用可能） ■高効率断熱構造で熱損失低減による省電力化 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社弘輝テック
- 価格：応相談
はんだリフロー装置『RSO-300/200』
ギ酸ガス・水素ガス還元両対応！鉛フリー、ボイドレス、フラックスレスを実現！
『RSO-300/200』は、大気・窒素・真空・ギ酸・水素などの各リフローに1台で 対応し、タッチパネルを搭載した多機能なはんだリフロー装置です。 ホットプレート下部に、縦12本・横12本の高速赤外（IR）光ヒーターを 交差するように（クロス配列）装備することで、対象物の熱容量に 左右されづらい、安定した加熱と高速昇温を実現。 通常のリフローの他、金属ナノペーストなどの焼結にも好適です。 【特長】 ■高純度石英チャンバー：オプション対応 ■クロス配列：高速赤外（IR）光ヒーター搭載 ■7インチタッチパネルを標準装備 ■窒素パージによる冷却 ■真空はもちろん、ギ酸や水素など多彩なリフロー環境を設定可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：ユニテンプジャパン株式会社
- 価格：応相談
超小型真空ハイパワーリフロー炉 TR-125VH3
世界最小クラスのリフロー炉シリーズに､超小型真空ハイパワーリフロー炉（TR-125VH3）登場！
株式会社タイセーの超小型真空ハイパワーリフロー炉（TR-125VH3）は、弊社従来品に比べ、昇温スピードが３倍！(21℃/min) 冷却リフロー板と組み合わせる事で、冷却性能が向上！真空、窒素雰囲気で酸化を防いで高品質なはんだ付けができ、低温加熱のため、部品の劣化や歪みを防ぎます。フラックスやクリーニング剤が不要で、コストや環境負荷の削減につながります。最先端の技術を追求する研究開発者の皆様の、開発の向上と開発スピードを速めるのに欠かせない1台です。
- 企業：株式会社タイセー 本社
- 価格：50万円 ~ 100万円
