1～15 item / All 19 items
各種組成物の貯蔵安定性に優れる光カチオン重合開始剤！
『CPI-100P/CPI-101A』は、不純物の少ないトリアリールスルホニウム 塩タイプの光酸発生剤(光カチオン重合開始剤)です。 主成分はモノスルホニウム塩で、多量のビススルホニウム塩を含む従来品に 比べ、有機化合物への溶解性や、各種組成物の貯蔵安定性に優れています。 【特長】 ■不純物が少ない ■有機化合物への溶解性に優れる ■各種組成物の貯蔵安定性に優れる ■PFAS非含有 ※詳細についてはお問合せください。
感度と酸強度、溶解性を兼ね備えた開発品
i線・h線高感度のスルホニウム塩タイプの光酸発生剤。通常、光への感度を上げると溶解性が低下する傾向があるが、ES-1Bは感度と溶解性を両立させたイチ押しの開発品です。また、ボレートアニオンを使用しているためアンチモンアニオンと同等の酸強度を有し、高いカチオン重合性を示します。 ※PFAS非含有
紫外線照射で簡単かつ安全に酸を発生させる光酸発生剤。時間とエネルギーの効率化を実現します。PFAS非含有製品も取り扱いあり
当社では、光を照射することにより酸を発生する機能をもつ物質である 『光酸発生剤』を取り扱っております。 通常人が酸を加えたり、加熱することで酸を発生させることが主流でしたが 紫外線を照射するだけで簡単かつエネルギーがかからないのが特長です。 医薬品・医療・バイオ関係の分析機器などで活用も見込まれております。 生成した酸は様々な用途、触媒反応に使用でき、弱酸からオリジナルの超強酸まで発生可能。 長波長LEDなど各種光源に対応可能な製品をラインナップ。 また、近年課題となっているPFASを含まない製品も取り扱っております。 【用途例】 ・3Dプリンタ ・フォトレジスト ・偏光板接着剤 ・OLED封止剤 ※詳しくはPDFダウンロードまたは、お気軽にお問い合わせ下さい。
カチオン重合性樹脂混合時の貯蔵安定性に優れる！SbF6アニオン品と同等の酸強度
『CPI-210S』は、当社独自製法によるモノ体高純度のスルホニウム塩タイプの 光酸発生剤です。 カチオン重合性樹脂混合時の貯蔵安定性が良好。特殊リン系アニオンを 使用しているため、非Sb系でありながらSbF6アニオン品と同等の酸強度を有し、 高いカチオン重合性を示します。 また、非極性有機溶剤を含む様々な溶剤やモノマーへの溶解性に優れています。 50%プロピレンカーボネート溶液の「CPI-200K」もございます。 【特長】 ■モノ体高純度のスルホニウム塩タイプ ■カチオン重合性樹脂混合時の貯蔵安定性に優れる ■特殊リン系アニオンを使用している ■非Sb系でありながらSbF6アニオン品と同等の酸強度を有し、高いカチオン重合性を示す ■非極性有機溶剤を含む様々な溶剤やモノマーへの溶解性に優れている ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
高いカチオン重合性を示す！カチオン重合性樹脂配合時の貯蔵安定性が良好
『CPI-100B(40)』は、当社独自製法によるモノ体高純度のスルホニウム塩タイプの 汎用光酸発生剤です。 カチオン重合性樹脂配合時の貯蔵安定性が良好で、硬化物の低金属腐食性に 優れています。 ボレートアニオンを使用しているため非Sb系でありながらSbF6アニオン品と 同等の酸強度を有し、高いカチオン重合性を示します。また、無溶剤タイプの 「CPI-110B」もございます。 【特長】 ■モノ体高純度のスルホニウム塩タイプ ■カチオン重合性樹脂配合時の貯蔵安定性に優れる ■ボレートアニオンを使用している ■非Sb系でありながらSbF6アニオン品と同等の酸強度を有し、高いカチオン重合性を示す ■硬化物の低金属腐食性に優れる ■PFAS非含有 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
硬化物の低金属腐食性に優れる！非Sb系でありながらSbF6アニオン品と同等の酸強度
『CPI-310B』は、i線高感度のスルホニウム塩タイプの光酸発生剤です。 ボレートアニオンを使用しているため非Sb系でありながらSbF6アニオン品と 同等の酸強度を有し、高いカチオン重合性を示します。 また、硬化物の低金属腐食性に優れています。 【特長】 ■i線高感度のスルホニウム塩タイプ ■ボレートアニオンを使用している ■非Sb系でありながらSbF6アニオン品と同等の酸強度を有し、高いカチオン重合性を示す ■硬化物の低金属腐食性に優れている ■PFAS非含有 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
非極性有機溶剤を含む様々な溶剤やモノマーへの溶解性に優れる！スルホニウム塩タイプ
『CPI-410S』は、i線・h線高感度のスルホニウム塩タイプの光酸発生剤です。 特殊リン系アニオンを使用しているため、非Sb系でありながらSbF6アニオン品と 同等の酸強度。高いカチオン重合性を示します。 また、非極性有機溶剤を含む様々な溶剤やモノマーへの溶解性に優れています。 【特長】 ■i線・h線高感度のスルホニウム塩タイプ ■特殊リン系アニオンを使用している ■非Sb系でありながらSbF6アニオン品と同等の酸強度を有する ■高いカチオン重合性を示す ■非極性有機溶剤を含む様々な溶剤やモノマーへの溶解性に優れている ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
硬化物の低金属腐食性に優れる！i線・h線高感度のスルホニウム塩タイプ
『CPI-410B』は、i線・h線高感度のスルホニウム塩タイプの光酸発生剤です。 ボレートアニオンを使用しているため非Sb系でありながらSbF6アニオン品と 同等の酸強度。高いカチオン重合性を示します。 また、硬化物の低金属腐食性に優れています。 【特長】 ■i線・h線高感度のスルホニウム塩タイプ ■ボレートアニオンを使用している ■非Sb系でありながらSbF6アニオン品と同等の酸強度を有する ■高いカチオン重合性を示す ■硬化物の低金属腐食性に優れる ■PFAS非含有 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
可視光（g線、h線）の吸収を抑え、i線にのみ大きな吸収を持つ！透明用途向けグレード
『VC-1S』は、i線高感度のスルホニウム塩タイプの光酸発生剤です。 可視光（g線、h線）の吸収を抑え、i線にのみ大きな吸収を持つ透明用途向け グレード。特殊アニオンを使用しているため、非Sb系でありながら HSbF6アニオン品と同等の酸強度を有し、高いカチオン重合性を示します。 また、非極性有機溶剤を含む様々な溶剤やモノマーへの溶解性に優れています。 【特長】 ■i線高感度のスルホニウム塩タイプ ■可視光（g線、h線）の吸収を抑え、i線にのみ大きな吸収を持つ ■透明用途向けグレード ■特殊アニオンを使用している ■非Sb系でありながらHSbF6アニオン品と同等の酸強度を有する ■高いカチオン重合性を示す ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
硬化物の低腐食性、高温加熱時の低着色性に優れる！i線高感度のスルホニウム塩タイプ
『VC-1FG』は、i線高感度のスルホニウム塩タイプの光酸発生剤です。 可視光（g線、h線）の吸収を抑え、i線にのみ大きな吸収を持つ透明用途向け グレード。特殊アニオンを使用しているため、非Sb系でありながらHSbF6 アニオン品と同等の酸強度を有し、高いカチオン重合性を示します。 また、硬化物の低腐食性、高温加熱時の低着色性に優れています。 【特長】 ■i線高感度のスルホニウム塩タイプ ■可視光（g線、h線）の吸収を抑え、i線にのみ大きな吸収を持つ ■透明用途向けグレード ■特殊アニオンを使用している ■非Sb系でありながらHSbF6アニオン品と同等の酸強度を有する ■高いカチオン重合性を示す ■PFAS非含有 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
強アミンへの耐性や熱安定性に優れる！酸の拡散性を抑えることが可能
『NA-CS1』は、i線対応の非イオン性光酸発生剤です。 嵩高いカンファースルホン酸を発生するため、酸の拡散性を抑えることが可能。 トリエチルアミンといった強アミンへの耐性や熱安定性に優れています。 365nmでのモル吸光係数が低く、透過性が高いため、厚膜(50μm以上)での使用に 適しています。もちろん薄膜でもご使用いただけます。 【特長】 ■i線対応の非イオン性 ■嵩高いカンファースルホン酸を発生するため、酸の拡散性を抑えることが可能 ■トリエチルアミンといった強アミンへの耐性や熱安定性に優れている ■PFAS非含有 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
光を照射することにより酸を発生する機能をもつ物質です！PFAS非含有製品も取り扱いあり
当社では、光を照射することにより酸を発生する機能をもつ物質である 『光酸発生剤』を取り扱っております。 生成した酸は様々な用途、触媒反応に使用でき、弱酸からオリジナルの超強酸まで発生可能。 長波長LEDなど各種光源に対応可能な製品をラインナップ。 イオン性光酸発生剤の「CPI-100,200シリーズ」や、 非イオン性光酸発生剤の「NA-CS1」などをご用意しております。 また、PFASを含まない製品も取り扱っております。 【用途例】 ・偏光板接着剤 ・光造形用樹脂 ・OLED封止剤 ・半導体レジスト ※詳しくはPDFダウンロードまたは、お気軽にお問い合わせ下さい。
さまざまなアニオンとの組み合わせが可能！可視光域の吸収が小さいため透明性に優れています
『VC-1シリーズ』は、カチオン部に最適化した感光部位を導入することで、 高い光分解率と可視光域での透明性を両立した光酸発生剤です。 高圧水銀灯の主な輝線であるi線(波長365nm)に対する吸収が大きく、 対して可視光域(380nm以上)の吸収は小さいため透明性に優れており、 エポキシ樹脂を用いた光硬化性評価において、CPI-400シリーズ同等の 硬化性を示すことから高い酸発生率を有しています。 また、CPI-400シリーズのさらなる構造最適化により、同様の光吸収特性を 有していながらより高い光分解率を示す「ES-1シリーズ」もご用意しております。 【特長】 ■高い光分解率と可視光域での透明性を両立 ■透明性に優れている ■高い酸発生率 ■さまざまなアニオンとの組み合わせが可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
高熱安定性と高溶剤溶解性を兼ね備えた非イオン性光酸発生剤！
『NPシリーズ』は、トリフラート（TfOH）発生型の非イオン性光酸発生剤です。 透過率が高く膜厚への適用が可能な「NP-TM2」、長波長（g線、h線）に 対応する「NP-SE10」などをラインアップしています。 【特長】 ■トリフラート（TfOH）発生型 ■高熱安定性 ■高溶剤溶解性 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
生成した酸は様々な触媒反応に使用される！反応機構や選定の目安について解説
『光酸発生剤（Photo Acid Generator：PAG）』とは、光を照射することにより 酸を発生する機能をもつ物質です。 構造的に分類すると、オニウム塩型のイオン性光酸発生剤、非イオン性 光酸発生剤の二つのグループに分けられます。 スルホニウム塩タイプの光酸発生剤に光照射すると、カチオン部位が 光エネルギーを吸収してC－S+結合が開裂し、ラジカル種が生成。 イミドスルホネートタイプの光酸発生剤では、イミド側の構造が光吸収部位と なります。 【イオン性光酸発生剤 特長】 ■弱酸から強酸まで、発生酸を選択できる（発生酸が対アニオンに応じて決まる） ■熱安定性が高い ■溶剤溶解性は低い傾向にある ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
