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目的の相組成も容易に形成でき精度と再現性に優れたシステム！
『ユニナイトコントロールシステム』は、炉内の水素濃度を分析し、最適な 窒化ポテンシャルになるよう供給ガス量を自在に自動制御する全く新しい システムです。 雰囲気管理により品質を保証し、消費ガス量の大幅削減を実現すると共に CO2削減にも貢献する環境にやさしい製品となっております。 工具や金型に対し、脆弱な化合物層（白層）を形成させずに靭性のある拡散 層のみを形成させる制御を簡単容易かつ、安定して行うことが可能です。 【特長】 ■窒化+酸化複合処理に対応可能 ■部品から金型工具等の窒化処理炉に最適 ■圧倒的な分析応答速度を達成 ■優れた精度と再現性を実現 ■ガスコストを大幅に削減 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
油冷鋼・空冷鋼・ハイス鋼の熱処理が１台で可能な全自動型熱処理装置です
また、従来それぞれに専用機を必要とした油冷鋼と空冷鋼に加え、高温加熱を要するハイス鋼の熱処理が この一台で処理可能な複合型熱処理装置です。 全密閉構造の中に加熱室・ガス冷却室・油槽が一体化されており、窒素雰囲気中で熱処理することにより ワークの酸化を軽減できます。 【特徴】 ▶ 油冷鋼、空冷鋼、ハイス鋼の焼入れが一台で処理可能 ▶ 省スペースで設置 ▶ プログラムで自動運転のため、誰でも簡単操作 ▶ ヒーターは6面設置のため、良好な温度分布 ▶ マッフルレス方式やユニットヒーターにより、メンテナンスが簡易 ◎お気軽にお問い合わせ下さい。
新素材の生産、開発に最適です！
本装置は真空および不活性ガス雰囲気に於いて、種々形状の対象試料をヒーターによって均一に加熱し各種熱処理を行うと共に油圧プレスによる ２ＴＯＮまでの加圧処理を可能にした多目的実験炉です。 【特徴】 ■多機能整備の熱処理が可能 ■プレスユニットによる圧力能力の自由設定が可能 ■雰囲気の万能性で高真空および不活性ガスに使用可能 ■金属ヒーター、反射板を使用した構造で昇温が早い ■有効容積が大きい ■節電タイプ ■安全回路設計 など 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。
0.3Kg3/cm2の圧力雰囲気処理も可能！製品をつくる時の装置としても使用できます
『プレス付真空熱処理装置』は、真空及び不活性ガス雰囲気において、 さまざまな形状の試料をヒーターによって均一に加熱する真空装置です。 真空の状態でプレスを行うことで、通常の状態でプレス加工するのとは 違った処理をすることが可能。 また、サーボプレスにより50KNまで加圧ができ、拡散接合にも好適な 「真空ホットプレス装置」もご用意しております。 【特長】 ■さまざまな熱処理が可能 ■プレスユニットの圧縮能力については任意の設定することができ、 自由な実験を行うことができる ■0.3Kg3/cm2の圧力雰囲気処理も可能 ■高真空で使用できるだけではなく、複数の不活性ガスでも使用可能 ■金属ヒーターと反射板を使用した構造を採用 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
電子、複合、構造、先進材料の熱処理装置。1800℃まで30秒で急速昇温。真空・ガスフロー雰囲気中での超高速昇温。消費電力2kW
・独自のガスフロー機構の採用で試験材料に直接ガスを放射、昇温。 ・卓上型で操作性も向上させた低価格製品。 ・より多くの研究者にお使いいただける製品です。
トレイ搬送にも対応可能！優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現
『RTA装置』は、減圧プロセスから加圧プロセス（0.9MPaG）まで対応できる 製品です。 基板表面の高速熱酸化、結晶化、アニーリング処理等が可能。 優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現します。 半導体をはじめ、MEMSや電子部品にご利用いただけます。 【特長】 ■減圧プロセスから加圧プロセス（0.9MPaG）まで対応可能 ■基板表面の高速熱酸化、結晶化、アニーリング処理等が可能 ■優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現 ■トレイ搬送にも対応可能 ■マルチチャンバ仕様や各種オーダーメイドも製作可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
これまでの硬質皮膜形成法と比較して“約2倍の金型高寿命化”を実現！テスト加工受け付け中！
このたび、当社は従来のPVD処理と組み合わせたプラズマ窒化技術「DCコートR」を開発致しました。この新技術は、他の窒化処理と比較し処理時間の短縮ができます。また、長寿命化と応力限界や疲労耐性を飛躍的に向上させます。しかも、処理の際、直接二酸化炭素の排出がない地球環境に優しい表面改質プロセスです。 ■特長 ◎Cr系膜による酸化摩耗低減（耐高温酸化） ◎処理前後の仕上げ加工による低摩擦係数 ◎制御されたプラズマ窒化処理によりCrN膜の密着性向上 ◎制御されたプラズマ窒化処理で下地の圧縮耐圧が上がり、耐高面圧強度向上 ■具体的な製品例 ◎冷間鍛造型 ◎プレス型（高張力鋼板、SUS材全般、絞り型など） 【効果】 耐疲労強度、密着性、耐摩耗性、耐熱性 【対象鋼種】 鉄系金属の全てに適用 ※詳細は資料請求して頂くか、ダウンロードからPDFデータをご覧下さい。
真空加圧注液含浸装置
リチウムイオン電池セルに真空中で電解液を注ぎ、 加圧により含浸させる真空加圧注液含浸装置のご紹介です。 ■□■特徴■□■ ■加圧することにより、セパレータや電極表面物質に電解液を確実に 高速含浸することができる ■真空度と圧力の管理が行える その他機能や詳細については、カタログダウンロード もしくはお問い合わせ下さい。
新時代の『乾燥装置』の誕生です！
真空加圧乾燥装置は、大気圧または加圧下での熱風循環により温度分布を整えてから真空引き。冷却時に加圧する高速冷却機能（オプション）もご用意しております。詳しくはカタログをダウンロードしてください。
AC100Vの周波数を50〜65Hzに調整可能な小型周波数調整器
商用AC100Vの周波数を50〜65Hzの範囲において調整可能な装置です。 パネルにある2個のボリウムで周波数と電圧を設定できます。 【特長】 ◆入力電源：ＡＣ100V 50/60Hz ◆出力容量：40Ｗ（ピーク出力300Ｗ） ◆出力範囲：周波数 50〜65Hz 電圧 ＡＣ75〜135Ｖ ◆設定精度：周波数 ±0.9％ 電圧 ±8％
アニール処理後急速冷却機構！Annealsys社の高速熱処理装置をご紹介
『AS-One 100/150』は、大気・真空下プロセス対応のRTP装置です。 ターボポンプを搭載可能で、マスフローコントローラーは最大5と なっております。 ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。 【特長】 ■アニール処理後急速冷却機構 ■大気・真空下プロセス対応 ■ターボポンプ搭載可能 ■マスフローコントローラー：最大5 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
多様な巻姿に対応可能！高精度な制御技術と、先端の金蒸着透明電気炉
『SD-RW2F-N』は、安定した“張力制御と炉内温度”により 好適な熱処理加工を実現する装置です。 シンプルでスマートなシングルダンサ型張力制御の採用により、 炉内搬送に必要な低張力を付与することが可能。 精密なトラバース制御技術でフラット巻はもちろんのこと、 台形巻きや大ピッチ巻など多様な巻姿に対応できます。 【特長】 ■低張力制御：炉内搬送に必要な低張力を付与可能 ■温度制御：優れた均熱性を実現 ■速度制御：巻き始めから巻き終わりまで好適な熱処理速度を維持できる ■巻取制御：多様な巻姿に対応可能 ■先端の金蒸着透明電気炉：小さい電力で早い昇温が得られる ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
４本の独立した排気操作が可能なオイルフリー保管装置です。コンタミネーションの付着を大幅に低減します。
本装置はＴＥＭホルダーをオイルフリー真空下で保管する装置です。本装置を使用することにより、コンタミネーションの付着を大幅に減らすことが可能です。 独立した真空室に保管するため、個別に出し入れが可能です。ＴＥＭホルダーポートはお客様のお使いのＴＥＭホルダーに合わせて製造いたします。
誘導加熱技術を用い、お客様の仕様に合わせた設備をテーラーメードで仕上げます
アジャックストッコ・マグネサーミックジャパンでは『高周波熱処理装置』を 取り扱っております。 誘導加熱技術を用い、お客様の仕様に合わせた設備をテーラーメードで 仕上げることが可能。常に時代の先を見据え、新テクノジーでお客様の 要求に応え続けます。 是非ご用命ください。 【取扱製品(一部)】 ■等速ジョイント(CVJ) ■ドライブライン(インナー/アウターレース) ■クランクシャフト ■ステアリングラック ■3Dプリンター製焼入コイル など ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
半導体や太陽電池の生産・研究開発設備！独自の高温処理技術による高温熱処理炉
大村技研では、独自の高温処理技術による高温熱処理炉を生産設備および 研究開発向けに提供します。 主要製作装置としては、拡散炉、エピタキシャル装置、CVD装置、 エッチング装置、半導体製造設置用コントローラーなどがあります。 また、小口径基板に適した縦型電気炉や、太陽電池製造用横型拡散炉、 横型CVD装置・LC6400シリーズなどもラインアップされています。 【特長】 ■生産設備・研究開発向けの高温処理炉 ■半導体製造や太陽電池製造などに好適 ■多様なラインアップ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
