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ポテンシャル窒化をコントロールする制御技術！金属処理レシピや炉体システムなど総合的なソリューションがご提供可能な熱処理装置！
ナイトレックス・メタルの熱処理装置「総合カタログ」は、ターンキーシステムやバッチ炉、プロセスコントロールシステム、プロセスコントロールソフトウェアなどご紹介しています。 ポテンシャル窒化をコントロールできる制御技術を保有しております。 【掲載内容】 ■ターンキーシステムとは ■規格品およびオーダーメイドの炉体 ■プロセスはパラメーター設定後、全自動によるオペレーション ■窒化・軟窒化のポテンシャル制御技術NITREG（R）／NITREG(R)-C／ONC（R）／NITREG(R)-S／NANO-S TM ■窒化及び軟窒化の典型的なアプリケーション ■熱処理専業メーカー向けP-シリーズシステム ■ナイトレックスのシステムの特徴 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。
インプロセス型の制御式ポスト窒化/ポスト軟窒化酸化処理！
「ONC（R）プロセステクノロジー」のONC（R）とは、様々なスチールグレードの耐腐食性と耐磨耗性を同時に向上させるために適用、実証済の窒化ポテンシャル制御式NITREG（R）ガス窒化処理並びに軟窒化ポテンシャル制御式 NITREG（R）-C軟窒化処理に酸化処理を組合せた最新の技術です。 【特長】 ■ONC（R）で全てのスチール種を処理することは可能 ■腐食抑制剤を含む液体ベースのCorr-Check（R）が表面へ浸透、乾燥し、艶出し仕上げをする事で、耐腐食性を更に向上 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください
機械の試作・開発のパートナー！お客様のイメージを具現化します
当社は加熱応用装置の専門メーカーとして、急速に発展する工業界に 対応すべく当社技術群も品質のレベル確立に全力をあげ、 自動化・省力化・省エネ化・対環境化に飽くなき追及を続けています。 設計⇒板金加工⇒組立加工⇒電気配線の全てを社内一貫生産で対応。 高性能、低価格、且つ短納期にて製品を製作出来ますので、 ご要望の際はお気軽にご相談ください。 【主な製品】 ■熱処理装置 ■省力化装置 ■環境対策装置 ■その他取扱い製品 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
良好な絶縁膜形成を実現するバイアススパッタリング装置！
『SPR-014-B』 は、基板側にバイアスを印加しながら スパッタリングを行い、絶縁層用の成膜が可能なロードロック式 バイアススパッタリング装置です。 ピンホール密度が低く、良好なステップカバレージ性を備えた 良好な絶縁膜形成ができます。 【特長】 ■低いピンホール密度 ■良好なステップカバレージ性 ■次の電極層に有利な平坦性 ・排気系はドライポンプと磁気浮上型TMPの排気システム ・基板側とターゲット(カソード)に高周波電力を同時に印可 ・ロードロック式の1元スパッタリング装置（容易に基板セット可能） ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
真空～大気環境でパーティクルレスでの熱処理を実現します。
有機EL等新しいパネル技術関連における真空・熱関連装置の設計、製造、販売を行っています。 大気・真空を繰り返す際に発生するパーティクルを対策した幸和独自の技術の真空ホットプレートの提案をいたします。 “目に見えない熱や圧力をコントロール”するために、技術と知識を駆使してお客様のニーズに合わせた装置、設備をトータルでコーディネートいたします。
温度プロセスを7段階変更可能！ニーズに合わせた温度管理が出来ます！
本製品は、全工程を自動運転可能にした小型真空熱処理装置(真空炉)です。 温度プロセスを7段階変更可能なため、200℃/30分、400℃/15分など ニーズに合わせた温度管理が出来ます。また、真空ポンプを シャットダウンせずに真空容器の大気解放が可能なため処理品交換後 すぐに、次処理が可能です。 【特長】 ■自前の真空機器を使いコストダウンが可能 ■温度プロセスを7段階変更可能なため、200℃/30分、400℃/15分など ニーズに合わせた温度管理が可能 ■全工程を自動運転可能。手動切替え機能付き ■真空ポンプをシャットダウンせずに真空容器の大気解放が可能なため 処理品交換後すぐ、次処理が可能 ■炉内冷却も任意の温度で窒素もしくはAirを導入し、プロセス時間短縮が可能 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
表面層の粒界酸化や浸炭ムラが無いので、細孔内面も可能！品質向上が望めます
『真空浸炭焼入』とは、真空炉内にて行う浸炭焼入方法です。 炉内に供給したアセチレンガスが熱分解し、発生した炭素が表面より 浸透・拡散。浸炭の効果に加え、表面層の粒界酸化や浸炭ムラが無いので、 細孔内面も可能です。 また、光輝色で仕上がる為、通常の浸炭焼入に比べ、品質向上が望めます。 【特長】 ■真空炉内にて行う浸炭焼入方法 ■浸炭の効果に加え、表面層の粒界酸化や浸炭ムラが無いため細孔内面も可能 ■光輝色で仕上がる ■通常の浸炭焼入に比べ、品質向上が望める ■JIS加工記号：HQV ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
薄物のプレートや刃物にも適用できる歪の少ない処理方法として、ソルトマルクエンチ法、サブゼロ処理を採用しております！
【ソルトマルクエンチ法】 私たちのピット式浸炭雰囲気炉やケース式浸炭雰囲気炉はバッチ式のため、少量多品種の焼入れに対応できます。 無酸化処理、浸炭焼入れだけでなく、焼鈍、調質など幅広く処理いたします。鋼種や浸炭深さ、母材硬度など、仕様の違いから短納期でできないとお困りのお客さま、是非ご相談ください。 【サブゼロ処理】 深冷処理とも言われ、0度以下に冷却し残留オーステナイトをマルテンサイト に変態させる処理です。サブゼロ処理のメリットは、(１)硬さの上昇、(2)置き狂いの防止、(3)耐摩耗性の向上などがあります。金型や冶工具の高付加価値化に最適な処理といえます。 ※詳しくは資料をDL、もしくはお問合せください。
高速熱処理装置（RTP/RTA装置） AccuThermo シリーズ
LED，VCSEL等の化合物半導体や、太陽電池 セルの高速熱処理に最適な、デスクトップ型の最新型高速熱処理装置 【特徴】 ○強力な可視光線により、2インチ〜8インチまでのシングルウェハを 短時間かつ正確にコントロールされた温度で加熱処理 ○優れた加熱均一性 ○高度な温度制御 ○広域レンジパイロメータ（ERP）による高精度温度計測（オプション） ○パイロメータまたは熱電対温度センサーによる クローズドループ温度コントロール ○温度制御範囲+100℃ 〜 +1,250℃ ○高速加熱100℃/sec，高速冷却100℃/sec ○高いウェハ間プロセス再現性 ○特定のプロセス条件に対応した温度−時間プロファイル ○省スペースかつ、高いエネルギー効率 ●その他機能や詳細については、お問合わせ下さい。
削り加工を考慮した厚みが不要！加熱スケジュール設定後は最後まで全自動運転！
『MPシリーズ』は、乾燥時の「ひねり」を解消し、厚みを残したまま 商品化できる高周波平板化熱処理装置です。 削り代を考慮しなくて良いため、厚みが薄い状態で乾燥可能。 加熱スケジュール設定後は最後まで全自動で運転します。 また、含水率が均一になるので、処理後の戻りは最小限に抑えられます。 【特長】 ■乾燥時の「ひねり」を解消 ■厚みを残したまま商品化できる ■歩留まり改善 ■乾燥コスト削減 ■全自動運転 ■戻りは最小限 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
ウェハプロセス対応 本格量産システム アニール・シンター・ポリイミドキュア ミニバッチ＋急速冷却機構でハイスループット対応
クリーンな真空中で均一加熱。高いクリーンネスや低酸素濃度を求められるプロセスに最適。縦型石英管型アニール装置。 最大８インチ相当のウェハや各種基板に対応。ＣｔｏＣシステム採用による自動化＆クリーンシステム。 中温から高温まで安定した温度分布性能と急令機構による短タクト処理 真空だけでなく各種雰囲気（不活性、酸化、還元）雰囲気処理も可能な多機能型熱処理装置
急速昇降温が特徴の小型熱処理装置。有機基板の乾燥・脱ガス・ベーキングなど低温熱処理に最適なコンパクト型真空熱処理装置
実績豊富な真空半田付装置の基本構成を応用。半田付用の熱板加熱で高速熱処理。 高密度実装基板・プリント板の成膜前の脱ガス・乾燥。セラミックス材料の乾燥など多用途に最適。 太陽電池セルの低温べ―クや薄膜のアニールにも有効でインライン化にも対応。
磁場中熱処理装置
【概要】 本装置は超伝導マグネットと組合せ強磁場中(20T)に於いて真空、高温で金属材料の熱処理試験を行う目的にて開発された装置であります。 電気炉は強磁場の影響を受けない構造が特長になっております。 【製品仕様】 １．最高加熱温度 max 1100℃ 10φ×30L ２．電気炉外筒(ＳＵＳ３０４) １）ＯＤ95φ×312L 外筒内水冷、真空断熱層 ２）上部超ストロークベローズ、真空室(電極、引口付) ３）下部試料交換用ＩＣＦフランジ付 ３．ヒーター(Ｔａ) 無誘導巻き21φ×94L ４．反射板(Ｔａ、Ｍｏ) 24φ×31φ×98φ ５．架台(ＳＵＳ３０４) 1330W×1460D×1820H
5Ton迄の拡散接合などの多目的の実験炉として使用することができるプレス付真空熱処理装置
『PRESS-VAC-2S型』は、さまざまな熱処理が可能な真空装置です。 真空の状態でプレスを行うことで、通常の状態でプレス加工するのとは 違った処理をすることが可能です。 また、熱処理に関しましてはプログラム制御を行いますので、細かい 温度管理が可能。今までのものとは異なる新しい製品の開発などに 利用することができます。 【特長】 ■プレスユニットの圧縮能力については任意の設定することができる ■0.3Kg3/cm2の圧力雰囲気処理も可能 ■高真空で使用できるだけではなく、複数の不活性ガスでも使用できる ■狭いスペースにも置けるようなコンパクトな装置 ■金属ヒーターと反射板を使用した構造を採用 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
真空アニール装置
液晶ディスプレイの注入後の気泡や色ムラ等の不良を解消するための装置です。 注入前に加熱して真空引きすることにより、セル内部の水分や有機ガスを除去できるので、パネルの品質も向上させることが出来ます。内部ヒーターやファンの改良により、クリーン度の高い槽内環境を実現しました。 当社独自の技術により、真空加熱中の温度分布がよく、プロセス時間も短縮されます。
