コンパクト設計・高精度・低価格・高安定・高再現性
インライン式周波数調整装置 「SFE-X2012」は、処理室と取出室を別にし、イオンソースもＨ／Ｌを各々搭載したことで、アイドルタイムの少ない効率的な動作が可能になりました。 ＳＦＥ‐Ｂ０３に搭載したＩＧＦ－２０１型 １００ｍｍビームのイオンソースを２基搭載しています。 イオンソース１台あたり最大２４個、計４８個同時処理が可能です。 ＳＦＥ－Ｂ０３で実績のある高精度・高安定・高再現性の搬送機構を本装置にも採用しております。 今までインラインでは困難であった小型ワーク(2.0×1.6、1.6×1.2）の周波数調整も、安定して量産できます。 ユニット毎に各機器の分解が可能で、メンテナンス性を考慮した設計となっています。 【装置性能】 ○タクトタイム ：０．３ｓｅｃ/ｐｃ以下 ※１８MHz以上のワーク、１列２４個以上の場合 ○調整精度 ：±１．５ｐｐｍ以下 ○処理数 ：最大２４列(ｐ４．０)×３２列 ○生産量 ：12000pcs /時間 以上 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
この製品へのお問い合わせ
基本情報
【仕様】 ○ワークサイズ ： ＳＭＤ ２０１６以下の小型サイズにも適応可能 ○装置構成 ： ３室（仕込室、処理室、取出室） インライン式 ※オプションで ＬＤローダー（Ｏオーバー.Ｄドライブ付属）、 ＵＬＤとドッキングが可能 ○搬送系 ： ＳＦＥ－Ｂ０３型と同じくＸ軸搬送をＨ／Ｌに各々採用 ○排気系 ： 処理室 １２インチＣＰ 仕込室/取出室 ＲＰ＋ＭＢＰ ○イオンソース ： １００ｍｍビーム矩形型 ×２式 ⇒最大４８個同時処理 ○計測器 ： ネットワークアナライザー ４台 ○ＰＣ ： Windows PC ×２台、DOS PC×２台 ○周調工程 ： ２段階(Ｈ,ＬＬ) ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
価格情報
お問い合わせ下さい。
納期
※お問い合わせ下さい。
用途／実績例
水晶デバイス周波数調整 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
企業情報
株式会社昭和真空は、真空中で特定の基板に薄膜を形成させる装置を主とした、真空蒸着装置やスパッタリング装置等の真空技術応用装置（真空装置）を製造販売しております。
