更新日： 集計期間:2025年03月26日～2025年04月22日
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材料特性は磁場解析と温度解析用が必要！高周波コイルは加熱ON/余熱OFFが設定できます！
ＩＨクッキングは誘導加熱原理を使っています。高周波コイルで発生した磁場をお鍋の底に当てると渦電流が発生します、ここまでが磁場解析。渦電流は発熱を起こしお鍋の底からお水へ熱が伝わり温度が上昇します、ここは熱解析。誘導加熱は狙った場所を短時間で加熱できるので、様々なところに利用されています 詳細は【解析ノウハウ.com】の「NO.019 ex誘導加熱版の紹介 」をご覧ください ポイントはこちら ・誘導加熱によりワークの温度変化を見ます ・渦電流は磁場解析で求めるのでモデルに空間が必要 ・渦電流はワーク表面を薄く流れるので、メッシュを細かく ・材料特性は磁場解析と温度解析用が必要 ・高周波コイルは加熱ON/余熱OFFが設定できる
材料特性は磁場解析と温度解析用が必要！高周波コイルは加熱ON/余熱OFFが設定できます！
ＩＨクッキングは誘導加熱原理を使っています。高周波コイルで発生した磁場をお鍋の底に当てると渦電流が発生します、ここまでが磁場解析。渦電流は発熱を起こしお鍋の底からお水へ熱が伝わり温度が上昇します、ここは熱解析。誘導加熱は狙った場所を短時間で加熱できるので、様々なところに利用されています 詳細は【解析ノウハウ.com】の「NO.019 ex誘導加熱版の紹介 」をご覧ください ポイントはこちら ・誘導加熱によりワークの温度変化を見ます ・渦電流は磁場解析で求めるのでモデルに空間が必要 ・渦電流はワーク表面を薄く流れるので、メッシュを細かく ・材料特性は磁場解析と温度解析用が必要 ・高周波コイルは加熱ON/余熱OFFが設定できる
材料特性は磁場解析と温度解析用が必要！高周波コイルは加熱ON/余熱OFFが設定できます！
ＩＨクッキングは誘導加熱原理を使っています。高周波コイルで発生した磁場をお鍋の底に当てると渦電流が発生します、ここまでが磁場解析。渦電流は発熱を起こしお鍋の底からお水へ熱が伝わり温度が上昇します、ここは熱解析。誘導加熱は狙った場所を短時間で加熱できるので、様々なところに利用されています 詳細は【解析ノウハウ.com】の「NO.019 ex誘導加熱版の紹介 」をご覧ください ポイントはこちら ・誘導加熱によりワークの温度変化を見ます ・渦電流は磁場解析で求めるのでモデルに空間が必要 ・渦電流はワーク表面を薄く流れるので、メッシュを細かく ・材料特性は磁場解析と温度解析用が必要 ・高周波コイルは加熱ON/余熱OFFが設定できる
材料特性は磁場解析と温度解析用が必要！高周波コイルは加熱ON/余熱OFFが設定できます！
ＩＨクッキングは誘導加熱原理を使っています。高周波コイルで発生した磁場をお鍋の底に当てると渦電流が発生します、ここまでが磁場解析。渦電流は発熱を起こしお鍋の底からお水へ熱が伝わり温度が上昇します、ここは熱解析。誘導加熱は狙った場所を短時間で加熱できるので、様々なところに利用されています 詳細は【解析ノウハウ.com】の「NO.019 ex誘導加熱版の紹介 」をご覧ください ポイントはこちら ・誘導加熱によりワークの温度変化を見ます ・渦電流は磁場解析で求めるのでモデルに空間が必要 ・渦電流はワーク表面を薄く流れるので、メッシュを細かく ・材料特性は磁場解析と温度解析用が必要 ・高周波コイルは加熱ON/余熱OFFが設定できる
電磁波解析、電磁場解析、流体解析向け、直交格子メッシュ作成のプリポストシステム！
ＡｉｒＣｕｂｅは、流体解析、電磁波解析、音場解関などで多く用いられている有限差分法に対応した、直交格子専用のプリポストシステムです。 お客様のソルバーに簡単にリンクできます。 従来のソフトウエアに比べ、シンプルで使いやすく、且つ多機能を併せ持ち様々なニーズに対応できます。 また、大規模モデルにも高いパフォーマンスを発揮し、複雑な形状への対応も可能にします。 【プリ機能】 ・ＰＭＬなど境界条件対応 ・ＣＡＤ入力 ・円柱・直方体など形状ライブラリ ・高速自動セル分割 ・時間刻みや出力ステップなどのソルバー制御 【ポスト機能】 ・カット面コンター ・グラフ ・抽出点プロット ・半分モデルの全体化 ・セッションファイルによる自動処理 ・アニメーション機能 ※詳細は資料請求して頂くかダウンロードからPDFデータをご覧ください。
電磁波解析、電磁場解析、流体解析向け、直交格子メッシュ作成のプリポストシステム！
ＡｉｒＣｕｂｅは、流体解析、電磁波解析、音場解関などで多く用いられている有限差分法に対応した、直交格子専用のプリポストシステムです。 お客様のソルバーに簡単にリンクできます。 従来のソフトウエアに比べ、シンプルで使いやすく、且つ多機能を併せ持ち様々なニーズに対応できます。 また、大規模モデルにも高いパフォーマンスを発揮し、複雑な形状への対応も可能にします。 【プリ機能】 ・ＰＭＬなど境界条件対応 ・ＣＡＤ入力 ・円柱・直方体など形状ライブラリ ・高速自動セル分割 ・時間刻みや出力ステップなどのソルバー制御 【ポスト機能】 ・カット面コンター ・グラフ ・抽出点プロット ・半分モデルの全体化 ・セッションファイルによる自動処理 ・アニメーション機能 ※詳細は資料請求して頂くかダウンロードからPDFデータをご覧ください。
低圧条件のガス流れの解析ができる 希薄気体(希薄流体)にも対応した解析ソフト
【特長】 ■非構造メッシュを採用しているので、複雑な実際の装置の形状そのままを計算することが可能 ■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られる ■粒子法を採用しているため流体モデルと異なり，品質の悪い計算格子が有っても，必ず収束解を得られる ■充実した技術サポートにより、シミュレーションが始めての方や実験で忙しい方々も確実に結果を出すことが可能 ◆さまざまな事例に対応◆ ・真空チャンバー内の希薄なガス流れシミュレーション ・半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ・化学蒸着 (CVD)、有機EL (OLED)、分子線エピタキシー (MBE ) ・CVD のような化学反応を含む成膜シミュレーション などの半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・化学反応の計算 ・アレニウス形式の反応データから化学反応を計算 ・解離・再結合・分子（原子）交換反応計算 ・GUI 上で，複数の反応式を設定も可能 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
「シャワーヘッド型CVD」解析にも対応した 希薄流体解析ソフトウェア『DSMC-Neutrals』
シャワーヘッド型CVD装置内のガス流れのシミュレーション解析 はじめ様々なシミュレーションに対応 【特長】 ■非構造メッシュを採用しているので、複雑な実際の装置の形状そのままを計算することが可能 ■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られる ■粒子法を採用しているため流体モデルと異なり，品質の悪い計算格子が有っても，必ず収束解を得られる ■充実した技術サポートにより、シミュレーションが始めての方や実験で忙しい方々も確実に結果を出すことが可能 ◆さまざまな事例に対応◆ ・真空チャンバー内の希薄なガス流れシミュレーション ・半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ・化学蒸着 (CVD)、有機EL (OLED)、分子線エピタキシー (MBE ) などの半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・化学反応の計算 ・アレニウス形式の反応データから化学反応を計算 ・解離・再結合・分子（原子）交換反応計算 ・GUI 上で，複数の反応式を設定も可能 ※受託解析もしておりますので、お気軽にお問い合わせ下さい。
「コンタミネーションに影響するダスト挙動」解析にも対応した 希薄流体解析ソフトウェア『DSMC-Neutrals』
「コンタミネーションに影響するダスト挙動」のシミュレーション解析 はじめ様々なシミュレーションに対応 【特長】 ■非構造メッシュを採用しているので、複雑な実際の装置の形状そのままを計算することが可能 ■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られる ■粒子法を採用しているため流体モデルと異なり，品質の悪い計算格子が有っても，必ず収束解を得られる ■充実した技術サポートにより、シミュレーションが始めての方や実験で忙しい方々も確実に結果を出すことが可能 ◆さまざまな事例に対応◆ ・真空チャンバー内の希薄なガス流れシミュレーション ・半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ・化学蒸着 (CVD)、有機EL (OLED)、分子線エピタキシー (MBE ) などの半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・化学反応の計算 ・アレニウス形式の反応データから化学反応を計算 ・解離・再結合・分子（原子）交換反応計算 ・GUI 上で，複数の反応式を設定も可能 ※受託解析も行っておりますので、お気軽にお問い合わせ下さい。
低圧条件のガス流れの解析ができる 希薄気体(希薄流体)にも対応した解析ソフト
【特長】 ■非構造メッシュを採用しているので、複雑な実際の装置の形状そのままを計算することが可能 ■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られる ■粒子法を採用しているため流体モデルと異なり，品質の悪い計算格子が有っても，必ず収束解を得られる ■充実した技術サポートにより、シミュレーションが始めての方や実験で忙しい方々も確実に結果を出すことが可能 ◆さまざまな事例に対応◆ ・真空チャンバー内の希薄なガス流れシミュレーション ・半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ・化学蒸着 (CVD)、有機EL (OLED)、分子線エピタキシー (MBE ) などの半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・化学反応の計算 ・アレニウス形式の反応データから化学反応を計算 ・解離・再結合・分子（原子）交換反応計算 ・GUI 上で，複数の反応式を設定も可能 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
低圧条件のガス流れの解析ができる 希薄気体(希薄流体)にも対応した解析ソフト
【特長】 ■非構造メッシュを採用しているので、複雑な実際の装置の形状そのままを計算することが可能 ■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られる ■粒子法を採用しているため流体モデルと異なり，品質の悪い計算格子が有っても，必ず収束解を得られる ■充実した技術サポートにより、シミュレーションが始めての方や実験で忙しい方々も確実に結果を出すことが可能 ◆さまざまな事例に対応◆ ・真空チャンバー内の希薄なガス流れシミュレーション ・半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ・化学蒸着 (CVD)、有機EL (OLED)、分子線エピタキシー (MBE ) ・CVD のような化学反応を含む成膜シミュレーション などの半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・化学反応の計算 ・アレニウス形式の反応データから化学反応を計算 ・解離・再結合・分子（原子）交換反応計算 ・GUI 上で，複数の反応式を設定も可能 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
左図のような、励磁コイル、検出コイルを組合せた解析モデルの起電力計算では、独自な手法により、卓越した計算結果が期待できます。
●[ F-MAG ]はプリ・ポスト・プロセッサ [ Simcenter Femap ]と[ 磁界解析プログラム ]を組合せた製品です。 ●[Femap]が長年に渡り蓄積してきた多くのメッシングのノー・ハウを利用することができます。 ●静解析、過渡応答解析、周波数応答解析に対応 ●コイルを含むモデルの解析精度向上 ●複数の解析モデル間の連成解析 ●スライドインターフェイス：並進／回転 ●運動定義：移動方向／速度／メッシュ変形 ●着磁解析
国内外の研究機関や企業で幅広く活用されている磁場解析ソフト！
『Magnet7』は、電磁デバイスおよび電気機械デバイスのモデル化と性能評価 を迅速に行うことができる磁場解析ソフトです。 精度が高く速度の速いMaxwell方程式の有限要素技術を採用し、 それぞれのモジュールは2D又は3D設計用に別れて用意されています。 その他にも、Infolytica社製品専用の電磁機器の最適化を目的とした 「OptiNet7や、汎用有限要素法の熱伝導解析ソフトウェア「ThermNet7」 なども取り扱っております。 【特長】 ■使いやすいGUI ■自動メッシュ生成機能 ■2D、3D CADインポート・エクスポート機能 ■スクリプトを使用したカスタマイズ機能 ■永久磁石の減磁、着磁 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
FloEFDは、設計者が利用しやすい熱・流体解析ソフトウェアです！
例えば、LEDの熱冷却を考える場合、ブレードの概念設計をする場合、新しい熱交換機の効率をデザインレビューで発表する場合、FloEFDが設計者のあなたのよきアシスタントになります。 3次元CAD（CATIA V5、Creo（旧Pro/ENGINEER)、NX）に完全統合されているので、別途操作習得の必要なくそのままモデルに条件を設定して、すぐに熱流体解析することができます。
空気と金属のフローシミュレーション！特にダイキャストを対象とした解析ソフトウェア
『Castle Body』は、ダイキャストのための先進的な演算機能を持つ 革新的な解析ソフトウェアです。 極端に密度差が異なる非圧縮性と圧縮性を、液状の金属と気体の空気を 合わせて解析する事ができ、非常に精度の高い、優れた結果を提供するために、 金属溶射と真空と排出の現実的な効果を分析する機能が組み込まれています。 非常に強力な計算エンジンと、とても簡単でわかりやすいユーザーインタフェース 画面が提供されます。 【特長】 ■多種のCADを直接取り込み ■モデルの準備と計算の設定は1分以内に完了 ■マルチCPUやクラウド計算に対応 ■金属と空気の流動を同時に計算、分析可能 ■真空や排出口かを考慮した金属充填の忠実な解析 ■高度な計算式を採用しているが実際の鋳物経験を使った言葉で表現 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
