昇華原料対応ALDシステム『TFALD-201』
詳細なカスタマイズが可能！高アスペクト比の三次元構造に対して均一な成膜
『TFALD-201』は、昇華原料に対応した研究開発用ALDシステムです。 金属酸化物、貴金属、複合金属膜の成膜に対応。 また、様々な原料や反応ガスの圧力に応じて、適したガス供給ユニットを 選択することができます。さらに原料ユニットおよびガス供給ユニットは 必要に応じて追加することも、取り外すことも可能です。 【特長】 ■昇華原料に対応 ■研究開発用 ■金属酸化物、貴金属、複合金属膜の成膜に対応 ■高アスペクト比の三次元構造に対して均一な成膜 ■詳細なカスタマイズが可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
- 企業：株式会社テクノファイン
- 価格：応相談
