ALD成膜装置のメーカーや取扱い企業、製品情報、参考価格、ランキングをまとめています。
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ALD成膜装置 - メーカー・企業と製品の一覧

ALD成膜装置の製品一覧

1~3 件を表示 / 全 3 件

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クリエイティブコーティングス『気相技術』

ワーク材質や膜種、膜厚から、弊社がご提案する技術や加工例をご紹介!

「気相技術」は、樹脂原料・燃料電池など『新素材・新材料』『エネルギー』、医療センサー・機器など『医療・ヘルスケア』、電子部品・新ディスプレイなど『モバイル端末』『ウェアラブル機器』『オートモーティブ』など多様な分野で活用されています。 また、多様なプロセス・膜厚・膜種で1nm~1000nmの成膜を実現。 蒸着方式やCVD方式、ALD方式、スパッタ方式でコーティングしています。 【特長】 ■ALDロボットCVA series  ALDでは難しいと言われている低温での高品質な成膜が可能 ■バレル型ALDロボットCVA-B series  低温ALD装置とバレル機構の融合 ■低温高周波励起DLC成膜装置CVC series  低温で、グラファイトからDLCまで密着性の良い成膜が可能 ■バブリングCVDロボットCVB series  液体→気体  低温で、低コスト&高品質成膜が可能 ■IBAD(イオンアシスト蒸着法)CVI series  IBADによる受託成膜例  低温での低エネルギー照射を可能にし、タッチパネルの透明導電膜(Zn O)や高融点金属電極形成の密着性が向上

  • 製造受託

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F.A.S.Tソリューション

高い成膜レートを有する高品質な酸化物、窒化物、メタル成膜が可能!

『KOBUS-F.A.S.T』は、ALDのカバレッジとPECVDの成膜レートを 両立させたF.A.S.Tプロセスのみならず、ALD成膜も可能な高品質 薄膜成膜プロセッシングを実現するソリューションです。 下地層SiO2、バリア層TiO2、メタル層Cu・Coや透明導電体ZnOxのALD及び 良好なカバレッジを維持したF.A.S.Tハイレート成膜の用途で使用。 ALD成膜において膜質やカバレッジを維持したまま成膜速度を向上させる 手法を模索しているエンジニアの方におすすめです。 【特長】 ■ALDのカバレッジとPECVDの成膜レートを両立させたプロセス ■ALD成膜も本装置で成膜可能 ■高い成膜レートを有する高品質な酸化物、窒化物、メタル成膜が可能 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。

  • その他

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粉体低温(室温)ALD成膜装置 CMP-400

ALDでは難しいと言われている低温(室温)&大気圧中で粉体成膜が可能!

特徴】  ・大気圧中で旋回流を利用した粉体成膜  ・用途に応じた膜厚の制御が可能  ・室温で成膜可能 【応用例】  ・全固体電池用粉体に対するSiO、Al2O3成膜 【成膜のご相談やテスト成膜可能です】  クリエイティブコーティングスでは、テスト成膜やサンプル作成を承っております。  お客様のご要望を聞きし、適した装置、膜種や膜厚のご提案も可能です。  まずはお気軽にご相談ください。 ++++++++++++++++++++++++++++++ 時代と環境が求める次世代の気相技術を提供します。 半導体向け低温(室温)ALD装置と粉体低温(室温)ALD成膜装置の二刀流技術で技術革新に貢献します。

  • プラズマ表面処理装置
  • 表面処理受託サービス
  • その他半導体製造装置

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