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シンプルな操作性！短時間かつ低コストで全く異なる目的の真空システムに再構築可能
当社が取り扱う『モジュール式真空成膜装置』についてご紹介します。 一般的な真空装置の場合、KFポートやCFポートが溶接されていて、 システム導入後はポート配置は固定され、チャンバー構成を 変更することはできません。 当製品の場合、すべてのパネルは取り外して交換可能。 まさにブロックを組み立てるような要領で、さまざまな チャンバー構成に変更することができます。 【優位性（一部）】 ■コンパクト設計（実験台の上に設置可能） ■シンプルな操作性 ■ポート配置、ポート数を変更可能 ■高い拡張性（成膜ソースやアクセサリーの追加） ■単純なコーティングから多層膜まで多目的に利用可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
試験研究に好適な小型ロールツーロール成膜装置！
『ロールツーロール式真空成膜装置』は、ロールツーロールにて フィルム基板上に連続的に薄膜形成が可能な装置です。 コンパクトでエコノミーな装置なので、研究開発に好適。 フィルム搬送系に工夫をすることで、高速成膜が可能になります。 ご要望の際はお気軽に、お問い合わせください。 【主な仕様】 ■成膜方式：DCマグネトロンスパッタリング（オプションにてRFに対応） ■基板搬送：ロールツーロール（張力制御付）、速度0.2~3.0m/min、 張力15~80N ■ローラー面長：140mm ■フィルム寸法：最大幅100mm、長さ100m（フィルム厚50μm） ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お問い合わせください。
大面積へのスパッタが可能！冷却なしでもフィルムへの成膜ができます
当社で取り扱う「真空成膜装置」についてご紹介いたします。 対向する円筒状の磁石にあって、磁気モーメントが保存されることにより 磁場に平行成分の運動エネルギー+磁場に垂直成分の運動エネルギー＝一定となることから、 荷電粒子は磁石の両端で跳ね返され両端の磁石の間に高密度プラズマが閉じ込められます。 これにより閉じ込められたプラズマによる高真空下でのスパッタが可能となります。 【特長】 ■低温成膜 ■高真空スパッタ ■独自のスパッタ技術(膜の組成制御・均一なプラズマ) ■独自のマグネトロンカソード ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
