大面積へのスパッタが可能！冷却なしでもフィルムへの成膜ができます
当社で取り扱う「真空成膜装置」についてご紹介いたします。 対向する円筒状の磁石にあって、磁気モーメントが保存されることにより 磁場に平行成分の運動エネルギー+磁場に垂直成分の運動エネルギー＝一定となることから、 荷電粒子は磁石の両端で跳ね返され両端の磁石の間に高密度プラズマが閉じ込められます。 これにより閉じ込められたプラズマによる高真空下でのスパッタが可能となります。 【特長】 ■低温成膜 ■高真空スパッタ ■独自のスパッタ技術(膜の組成制御・均一なプラズマ) ■独自のマグネトロンカソード ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
この製品へのお問い合わせ
基本情報
【展示会 出展概要】 展示会名「ものづくりワールド東京（機械要素技術展）」 会期：2026年7月1日（水）～7月3日（金） 会場：東京ビッグサイト 小間番号：E28-10 【活用メリット】 ■冷却なしでもフィルムへの成膜が可能 ■ち密な膜 ■安定した反応性スパッタ(組成制御) ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
価格帯
納期
用途／実績例
【このようなお客様に】 ■薄膜製造各社 ■樹脂フィルムへの薄膜製造会社 ■研究所など ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
カタログ（1）
カタログをまとめてダウンロード
企業情報
次世代技術において薄膜作製の必要性はますます増えてまいります。薄膜作製においては低温下で、かつ緻密な、またそうであって生産性も高い、そんな技術が求められています。弊社は従来の対向ターゲット式スパッタ方式ではなしえなかったアーク放電対策を可能にし、上記の条件を満たすユニフォームプラズマスパッタ装置を製作販売しております。
