FPDなどリジット/フレキシブルデバイスに対応した4.5世代のガラス基板成膜装置
FPDなどリジット/フレキシブルデバイスに対応した4.5世代ガラス基板成膜装置です。 【特徴】 ・低温(150～300℃)成膜 ・4.5世代ガラス基板に250℃で100nmのSiO2膜をスループット 25枚/h以上の成膜 ・シンプルメンテナンス ・低CoO(低ランニングコスト) ・高品質なSiO2膜の形成: 低ストレス、プラズマダメージレス、小パーティクル ・導入・維持コストの削減: 小フットプリント、真空・プラズマ処理不要 【用途】 ・FPD向け絶縁膜(NSG) ・酸化物半導体TFT パッシベーション膜(NSG) ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧ください。
この製品へのお問い合わせ
基本情報
成膜有効幅760mmのガスヘッド2基を搭載し、吸着式加熱ステージの採用により、温度制御性±3％以内を実現しました。 4.5世代ガラス基板に250℃で100nmのSiO2膜をスループット 25枚/h以上で成膜が可能で、膜厚均一性10％以内を確保できます。 ●装置サイズ(mm): 1300mm(W) x 7350mm(D) x 2000mm(H) ●ガス種: SiH4, O3/O2, PH3, B2H6 ●成膜温度: 150～300℃ ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧ください。
価格帯
納期
用途／実績例
【用途】 ・FPD向け絶縁膜(NSG) ・酸化物半導体TFT パッシベーション膜(NSG)
企業情報
1930年（昭和5年）に輸出入の専門商社として発足し2020年で創立90周年を迎え、渡辺商行グループの更なる発展に全力で取り組んでいるところでございます。 1960年代半ばより、半導体業界に対しケイ素(Si)関連製品を販売する方針のもと、石英加工品、シリコーンゴム成形品、洗浄装置などの自社製品を製造販売を開始いたしました。 モノづくり商社として、質の高い製品・サービスを提供することにより、IT社会の成長とともに成長してまいりました。 今後とも株式会社渡辺商行を中核とするグループ各社の社員が、毎日活き活きと働き、職場全体が学びの組織となる会社づくりを目指します。 そして、社会の真のニーズに応える強い意志を持ってこれからも日々あらゆる事業に邁進していく所存です。 今後とも益々のご支援とご愛顧を賜りますようお願い申し上げます。
