更新日： 集計期間:2026年04月22日～2026年05月19日
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【10nm分解能】真空中で使用可能なリニアエンコーダ内蔵のロングステージ
アウトガス対策を施した真空対応フィードバックステージです。 真空チャンバーにそのまま導入可能です。 光学式リニアエンコーダを内蔵しており、エンコーダで検出した位置情報をもとにフルクローズドループ制御を行っているため、高精度な繰り返し位置決め性能を持っています。 移動範囲100mmと長いため試料の移動と精密位置決めが１台で可能だったり、広範囲のデータ（スペクトル等）が必要な場合に有効です。
真空チャンバー内での位置決め用途に リニアエンコーダ内蔵により10nm分解能で位置決め 可動範囲最大100mm
ステージ内蔵の光学式リニアエンコーダに対して、10nm分解能と±20nmの再現性を実現した精密位置決め装置（フィードバックステージシステム）。 真空度10^-4 Paまでの真空チャンバー内で使用できます。 ピエゾを利用した位置決め装置と比較し、 『安価』『簡単制御』『大きなストロークがとれる』ため、 幅広い用途で利用されています。 ストロークは20mm～100mmまでラインアップ。 位置決めでお悩みでしたら、是非お問い合わせください。 ■詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。
真空チャンバー内での位置決め用途に リニアエンコーダ内蔵により5nm分解能で位置決め 可動範囲最大50mm
光学式リニアエンコーダに対して、5nm分解能と±10nmの再現性を実現した超高分解能位置決め装置（フィードバックステージシステム）。 真空度10^-4 Paまでの真空チャンバー内で使用できます。 ピエゾを利用した位置決め装置と比較し、 『安価』『簡単制御』『大きなストロークがとれる』ため、 幅広い用途で利用されています。 ストロークは『 20mm 』『 40mm 』『 50mm 』までラインアップ。 位置決めでお悩みでしたら、是非お問い合わせください。 ■詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。
真空チャンバー内での位置決め用途に サブミクロン分解能で位置決め 可動範囲最大100mm
ステージ内蔵の光学式リニアエンコーダに対して、サブミクロン分解能（0.1μm or 0.05μm）の再現性を実現した精密位置決め装置（フィードバックステージシステム）。 真空度10^-4 Paまでの真空チャンバー内で使用できます。 ピエゾを利用した位置決め装置と比較し、 『安価』『簡単制御』『大きなストロークがとれる』ため、 幅広い用途で利用されています。 ストロークは20mm～100mmまでラインアップ。 位置決めでお悩みでしたら、是非お問い合わせください。 ■詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。
真空中で使用可能！回転方向調整用ステージ
光学式リニアエンコーダを内蔵しており、ステージの可動部分の位置を検出することができるため、その位置情報をもとにコントローラが降るクローズドループ制御を行うため位置の再現性に優れています。 分解能はコントローラによって「0.00005」または「0.0001」分解能で 動作させることができます。 アウトガス対策を施し、真空中で使用可能となっております。
【真空対応】最小分解能0.00001°で±4°動作できるエンコーダ内蔵の微小回転ステージ
光学式リニアエンコーダを搭載した高分解能微小回転ステージです。 0.00001°分解能でストロークは±4° アウトガス対策を施し、真空中で使用可能となっております。 回転方向の調整用に適しています。
【真空で使える】エンコーダ内蔵の高分解能位置決めステージ
内蔵の光学式リニアエンコーダでステージの位置を検出してフルクローズドループ制御を行っているため高分解能で位置再現性に優れています。 ステッピングモーターとボールねじを使用して駆動しているため 位置の保持性に優れています。 真空チャンバー内でアウトガスが発生しづらい部品などを使用しているため、真空チャンバー内にステージを配置することができます。 40mmの範囲を動作可能で「50nm」または「100nm」分解能で 制御することが可能です。（コントローラによって変わります）
【真空で使える】サブミクロン分解能のフィードバックステージ
内蔵の光学式リニアエンコーダでステージのテーブルの位置を検出して、コントローラに位置情報をフィードバックしているため高分解能で位置再現性に優れています。 ステッピングモーターとボールねじを使用して駆動しているため 位置の保持性に優れています。 アウトガス対策として潤滑材、線材やモーター等を真空対応品に変更しているため、真空チャンバー内で使用可能です。 20mmの範囲を動作可能で「50nm」または「100nm」分解能で 制御することが可能です。（コントローラによって変わります）
【真空対応】リニアエンコーダ内蔵で10nm分解能のZ軸用位置決めステージ
光学式リニアエンコーダを搭載した高分解能Z軸用位置決めステージです。 10nm分解能でストロークは『 5mm 』又は『 10mm 』を用意。 アウトガス対策を施し、真空中で使用可能となっております。 テーブル面の傾きの変化を極力抑えた構成になっており、自社開発リニアエンコーダと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。
真空中で使用可能！リニアエンコーダ内蔵でサブミクロン分解能のZ軸用位置決めステージ！
光学式リニアスケールを搭載した高分解能Z軸用位置決めステージです。 『 50nm 』(*1)又は『 100nm 』(*2)分解能でストロークは『 5mm 』又は『 10mm 』を達成しております。 アウトガス対策を施し、真空中で使用可能となっております。 独自の設計により、Z軸にありがちなテーブル面の傾きの変化を極力抑えた構成になっており、自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-411との組み合わせ (*2)フィードバックステージコントローラFC-111との組み合わせ
光学用途の高精度位置決めに。小型・分解能 10 nm、電源OFF時セルフロック。
光学業界では、レンズやミラーなどの精密な位置調整が、システムの性能を左右します。特に、微小な調整が求められる場面では、高精度な位置決め能力が不可欠です。調整の精度が低いと、光軸のずれや焦点のズレが生じ、システムの性能低下につながります。U-723は、小型ながら22mmの動作量と10nmの分解能を実現し、光学系の精密な位置調整を可能にします。 【活用シーン】 ・顕微鏡の対物レンズ調整 ・レーザー加工機の光軸調整 ・光学測定器のサンプル位置決め 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる光学性能の向上 ・省スペース化による装置全体の小型化 ・電源OFF時の位置保持による安全性の向上
