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【精密位置決め装置】5nmの高分解能・高い位置決め再現性・位置決め後の位置保持性が高い位置決めステージ！
光学式リニアスケールをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 『 5nm 』分解能(*1)でストロークは『 50mm 』となっております。 自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-611との組み合わせ
【エンコーダ内蔵】10nm分解能・高い位置決め再現性・位置決め後の位置保持性が高い位置決めステージ！
光学式リニアエンコーダをステージ中央に内蔵して位置検出誤差を少なくし、コントローラへ位置情報をフィードバックすることで高い分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。 『 10nm 』分解能(*1)でストロークは『 100mm 』となっております。 動作範囲が長いため移動と位置決めがこのステージ1台で行えます。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-511との組み合わせ
【真空で使用可能】1nm高分解能・高再現性・高保持性を持った高性能位置決めステージ
アウトガス対策を施した真空対応フィードバックステージです。 真空チャンバー内で使用可能です。 リニアエンコーダを内蔵しているため、クローズドループ制御による高精度な繰り返し位置決め性能を持っています。
[真空対応]1nm高分解能・高再現性・高保持性を持った高性能位置決めステージ
アウトガス対策を施した真空対応フィードバックステージです。 真空チャンバーにそのまま導入可能です。 自社開発したリニアスケールを内蔵しているため、薄型で軽量な設計、フルクローズドループ制御による高精度な繰り返し位置決め性能を持っており、大気用と同等の特徴を備えています。
ステージ中央にφ100mmの透過穴（開口）を追加したステージ
特注ステージ例の透過穴がテーブル部に空いているステージです。 テーブルサイズ、透過穴のサイズやストロークは変更が可能です。 内蔵のリニアスケールを用いたフィードバック制御による高い再現性が 実現できます。
光学式リニアスケール！ナノメートル分解能で位置決めをするシステム
フィードバックとはクローズドループ制御により、リニアスケールからの位置情報を監視し、位置決めの再現性を上げるシステムのことをいいます。 リニアスケールとステージ、及びコントローラによってフィードバックステージシステムが構成されています。 選定ガイドでは、お客様の仕様に合わせて、「動作タイプ」「分解能」「ストローク」の3つのポイントでのステージ選定方法をご紹介しております。 【フィードバックステージコントローラの特徴】 ○フルクローズドループ制御 ○モータードライバ内蔵 ○各種エラー検出機能 ○通信はRS-232C規格/ GPIB 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
リニアエンコーダ内蔵により1nm分解能で位置決め 可動範囲最大50mm
光学式リニアエンコーダに対して、1nm分解能と±2nmの再現性を実現した超精密位置決め装置（フィードバックステージシステム）。 ピエゾを利用した位置決め装置と比較し、 『安価』『簡単制御』『大きなストロークがとれる』ため、 幅広い用途で利用されています。 ストロークは『 20mm 』『 40mm 』『 50mm 』までラインアップ。 位置決めでお悩みでしたら、是非お問い合わせください。 ■詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。
5nm分解能で位置決め！再現性に優れ、可動距離がミリオーダー
■高分解能、再現性 コントローラ内蔵のモータードライバーにより5nm分解能でステージを動作させ、 ステージ内蔵の光学式リニアエンコーダで位置を読み取りフィードバック制御しているため、 高分解能で再現性に優れています。 ■長ストローク ボールねじ駆動のため最大50mmの可動ができます。 これにより精密位置決めと試料の退避が1台のステージで可能です。 ■制御 コントローラには通信インターフェースがいくつか用意されており、 コマンド文字列をPC等から入力することでステージを制御することができます。
真空チャンバー内での位置決め用途に リニアエンコーダ内蔵により5nm分解能で位置決め 可動範囲最大50mm
光学式リニアエンコーダに対して、5nm分解能と±10nmの再現性を実現した超高分解能位置決め装置（フィードバックステージシステム）。 真空度10^-4 Paまでの真空チャンバー内で使用できます。 ピエゾを利用した位置決め装置と比較し、 『安価』『簡単制御』『大きなストロークがとれる』ため、 幅広い用途で利用されています。 ストロークは『 20mm 』『 40mm 』『 50mm 』までラインアップ。 位置決めでお悩みでしたら、是非お問い合わせください。 ■詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。
真空チャンバー内での位置決め用途に サブミクロン分解能で位置決め 可動範囲最大100mm
ステージ内蔵の光学式リニアエンコーダに対して、サブミクロン分解能（0.1μm or 0.05μm）の再現性を実現した精密位置決め装置（フィードバックステージシステム）。 真空度10^-4 Paまでの真空チャンバー内で使用できます。 ピエゾを利用した位置決め装置と比較し、 『安価』『簡単制御』『大きなストロークがとれる』ため、 幅広い用途で利用されています。 ストロークは20mm～100mmまでラインアップ。 位置決めでお悩みでしたら、是非お問い合わせください。 ■詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。
【精密位置決め装置】1nmの高分解能・高い位置決め再現性・位置決め後の位置保持性が高い位置決めステージ！
光学式リニアスケールをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 『 1nm 』分解能(*1)でストロークは『 20mm 』となっております。 自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。 高トルクタイプはFS-1020SPX(MD) 高速度タイプはFS-1020UPX となっております。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-911との組み合わせ
【精密位置決め装置】1nmの高分解能・高い位置決め再現性・位置決め後の位置保持性が高い位置決めステージ！
光学式リニアスケールをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 『 1nm 』分解能(*1)でストロークは『 40mm 』となっております。 自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。 高トルクタイプはFS-1040SPX(MD) 高速度タイプはFS-1040UPX となっております。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-911との組み合わせ
【精密位置決め装置】高分解能・高い位置決め再現性・位置決め後の位置保持性が高い位置決めステージ！
光学式リニアスケールをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 『 10nm 』分解能(*1)でストロークは『 150mm 』となっております。 自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-511との組み合わせ
【精密位置決め装置】高分解能・高い位置決め再現性・位置決め後の位置保持性が高い位置決めステージ！
光学式リニアスケールをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 『 10nm 』分解能(*1)でストロークは『 200mm 』となっております。 自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。 スローダウンセンサを搭載しており、ストロークエンドでの停止時の衝撃を小さくできます。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-514との組み合わせ
真空中で使える 5nm分解能・高再現性・高保持性を持った高性能位置決めステージ
アウトガス対策を施した真空対応フィードバックステージです。 真空チャンバーにそのまま導入可能です。 自社開発したリニアスケールを内蔵しているため、薄型で軽量な設計、フルクローズドループ制御による高精度な繰り返し位置決め性能を持っています。 50mmストロークを5nm分解能で動作させることができます。
