【回路形成】イオン注入
露光された表面の電気的特性を変化！半導体の回路形成についてご紹介
当社の半導体における、回路形成「イオン注入」についてご紹介します。 「イオン注入」は、半導体素子を形成するために チップ製造中に何度も使用。 イオン注入中ウェーハは、ドーパントと呼ばれる帯電した イオンのビームによって衝撃を受け、露光された表面の 電気的特性を変化させます。 【特長】 ■半導体素子を形成するためにチップ製造中に何度も使用 ■露光された表面の電気的特性を変化 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：有限会社デュブリン・ジャパン・リミテッド 本社
- 価格：応相談
