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最終更新日:2023年09月04日

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露光された表面の電気的特性を変化!半導体の回路形成についてご紹介

当社の半導体における、回路形成「イオン注入」についてご紹介します。 「イオン注入」は、半導体素子を形成するために チップ製造中に何度も使用。 イオン注入中ウェーハは、ドーパントと呼ばれる帯電した イオンのビームによって衝撃を受け、露光された表面の 電気的特性を変化させます。 【特長】 ■半導体素子を形成するためにチップ製造中に何度も使用 ■露光された表面の電気的特性を変化 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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【回路形成】イオン注入

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当社は1945年創設以来、ロータリージョイントの専業メーカーとして最高の製品をお客様に提供するという理念を堅持して参りました。 近年は、回転体に電気信号やデータ及び電力のやり取りを行うスリップリングにおいても、独自の設計思想による個性的な製品を生み出しております。 当社はお客様の構想を実現させるため、熟練したエンジニアリングチームと近代的な製造設備により、強力な解決方法をご提案して参ります。 ユーザー様が真にご納得戴ける、最善の製品をご用意致します。 日本語webサイトを公開しました。 https://www.deublin.com/ja-JP/

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