UVオゾンクリーナー UV-1
UV/O3クリーナー・UVオゾンクリーナー
UV-1は、フォトレジストアッシング、シリコンウエハークリーニング、クロムマスククリーニングなど各種半導体プロセスの完全ドライ処理を高濃度オゾンと紫外線照射の相互作用で効率よく行うことを目的として開発された研究開発用の洗浄装置です。
- 企業：サムコ株式会社
- 価格：応相談
オゾンクリーナ - 企業3社の製品一覧
製品一覧
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UVオゾンクリーナー UV-300
UV/O3クリーナー・UVオゾンクリーナー
UV-300は、フォトレジストアッシング、シリコンウエハークリーニング、クロムマスククリーニングなど各種半導体プロセスの完全ドライ処理を高濃度オゾンと紫外線照射の相互作用で効率よく行うことを目的として開発された洗浄装置です。
- 企業：サムコ株式会社
- 価格：応相談
UVオゾンクリーナー UV-300H
UV/O3クリーナー・UVオゾンクリーナー
UV-300Hは、フォトレジストアッシング、シリコンウエハークリーニング、クロムマスククリーニングなど各種半導体プロセスの完全ドライ処理を高濃度オゾンと紫外線照射の相互作用で効率よく行うことを目的として開発された洗浄装置です。本装置は従来のUV/O3処理に比べ、高速処理が可能です。
- 企業：サムコ株式会社
- 価格：応相談
UVオゾンクリーナー
2波長による紫外線とオゾンのダブル効果で有機汚染物質を除去！
『UVオゾンクリーナー』は、ダメージフリーの乾式洗浄法で、基板に付着 している有機汚染物質を、光化学的酸化分解プロセスによって除去できます。 洗浄室内が0.02MPaの加圧状態に保持することができる安心の密閉構造です。 また、その他の機種では標準装備のオゾンキラー（オゾン分解装置）に 接続することで、外部へのオゾン漏れを防ぎます。 【特長】 ■超音波洗浄だけでは除去できなかった基板上の有機汚染物質を容易に除去 ■湿式洗浄で使用した有機溶剤も除去 ■基板表面に損傷を与えないで、有機汚染物質の除去が可能 ■薄膜の製膜が容易 ■大気圧で使用可能な、真空装置不要のドライクリーニング装置 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：フィルジェン株式会社
- 価格：応相談
UVオゾンクリーナー レンタル
設備導入検討用にUVオゾンクリーナー（紫外線オゾンクリーナー）のレンタルをご提供いたします。
小型UV洗浄装置のレンタルをご提供いたします。 下記のようなレンタルならではのメリットがあります。 短期的な研究の為、一時的に使用したい。 購入することなく、自社内で洗浄改質効果をじっくり試してみたい。 購入と異なり経費処理ができるので、社内決済が比較的容易。 固定資産税の納付や減価償却の事務処理が不要。
- 企業：株式会社あすみ技研
- 価格：応相談
