300mmカセットレス洗浄装置
ファイナルポリッシュ後の化学研磨工程で使用 / 50枚を一括処理 / 19nμm/5個の高清浄度を達成
<装置概要> 本装置はファイナルポリッシュ後の化学研磨工程で使用する装置です。特徴は25枚のWfの隙間に25枚を入れハーフピッチにし50枚を一括処理します。19nμm/5個の高清浄度を達成しています。
- 企業:株式会社ゼビオス(XEVIOS CORP.,)
- 価格:応相談
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ファイナルポリッシュ後の化学研磨工程で使用 / 50枚を一括処理 / 19nμm/5個の高清浄度を達成
<装置概要> 本装置はファイナルポリッシュ後の化学研磨工程で使用する装置です。特徴は25枚のWfの隙間に25枚を入れハーフピッチにし50枚を一括処理します。19nμm/5個の高清浄度を達成しています。