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ゼビオス(XEVIOS CORP.,)の企業情報
ゼビオスは、液晶・半導体装置関連のニーズとシーズを捉え、提案型の装置設計、製造を目的として設立された会社です。
EXTENSIVE VISION ON SYSTEM (幅広い視野に立ったシステム構築) を目的として、独自性の高い製品を作るという意味から名づけられた社名です。 現在の技術革新には目覚ましいものがあり、時代の要求は常に高度なものになっております。熟成化された今の装置産業に革命を起こすべく、常に他社との差別化をなした装置の提案を行い、産業界に貢献する会社であることが我々ゼビオスの使命だと考えております。

事業内容
◆スペーサ散布・分散装置 洗浄装置 静電気除去装置 ◆各種装置の開発・設計・製造・販売
おすすめ情報

ウェハ端面鏡面加工装置(エッジポリッシュ)
スラリー不使用 濾過水、純水を媒体として鏡面研磨、粗研磨から洗浄まで行う研磨装置(エッジポリッシュ)
■装置概要 スラリーや長い研磨ベルトを使用せずに、濾過水・純水を媒体として鏡面研磨、粗研磨、洗浄等を行う端面研磨装置(エッジポリッシャー) スラリー不使用・長い研磨ベルト不使用により省メンテナンス・省スペース・シンプルな機構を実現 ■用途例 鏡面仕上げ加工・鏡面仕上げ加工・端面異物洗浄 ■対象物 ・薄い材料150~200μに好適 ・各種ウェハ:化合物、酸化物、ガラス、石英、シリコン、セラミック 対応 実機での評価・確認後に装置採用のご検討をお願いします。 オリフラ対応(Vノッチは対応不可) 自動化・仕様打合せによる特注設計製作に対応します。
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