ダン科学の製品ラインアップ

ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ　：　シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径　 ：φ2”～φ8”　厚みについては要相談 ■透明ウエハにも対応 ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧ください。

• その他洗浄機
• 超音波洗浄機
• その他半導体製造装置

ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ　：　シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径　 ：φ2”～φ8”　厚みについては要相談 ■透明ウエハにも対応 ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧ください。

• その他洗浄機
• 超音波洗浄機
• その他半導体製造装置

ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ　：　シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径　 ：φ2”～φ8”　厚みについては要相談 ■透明ウエハにも対応 ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧ください。

• その他洗浄機
• 超音波洗浄機
• その他半導体製造装置

各種サイズ、各種ウエハの、界面活性剤、純水スクラブ、薬液スプレー、メガソニックスポットシャワー、スピン乾燥までを１チャンバーで行う枚葉装置です。 １つの洗浄層の中で洗浄が完結できる省スペース型のためスペースの限られた場所にも適しています。 単機能のスクラブ洗浄装置についてはご相談ください。 【特長】 ■洗浄・リンス・乾燥まで1か所で行える ■被洗浄対象ウエハ：シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径　 ：φ2”～φ4”　φ6”～φ8” ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧ください。

• その他半導体製造装置
• その他洗浄機
• 超音波洗浄機

各種ウェハの界面活性剤・純水スクラブ洗浄、薬液スプレー、メガソニックスポットシャワー、スピン乾燥までの工程を１つのチャンバーで行う枚葉装置 ◇　シングルチャンバーで完結する省スペース型 ◇　Si（シリコン）、LT（リチウムタンタレート）やSiC（炭化ケイ素）他、 　　各種ウェハに対応 ◇　異物（有機物・無機物）の除去、金属イオンの除去 ◇　洗浄項目・装置構成の変更に柔軟に対応 ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧ください。

• その他半導体製造装置
• その他洗浄機
• 超音波洗浄機

ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ　：　シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径　 ：φ2”～φ8”　厚みについては要相談 ■透明ウエハにも対応 ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧ください。

• その他洗浄機
• 超音波洗浄機
• その他半導体製造装置

使用する水の量が少なく水膜のできにくい 既存装置にも後付可能な洗浄ノズルユニット 最大30Hzで駆動する洗浄ノズル 5〜10MPaの高圧水を発生させるポンプ コントロールユニットの組合せ 従来の連続スプレーは、自ら作った水膜の上からスプレーで圧力を加えており、洗浄力を上げる＝圧力を上げる＝流量が増え水膜も厚くなる、という傾向がありますが、DP－Gunは間欠スプレーのため、同じ圧力（＝衝撃）でも少ない流量となり、水膜ができにくく、スプレーした水が対象物へダイレクトに衝撃を加えます。 断続スプレーが繰り返し衝撃を加えることで、被洗浄物の異物除去、マスク洗浄、カセット等の立体物（細い溝や入り組んだ形状）の洗浄などで、優れた洗浄効果を発揮します。 ポンプユニットはノズルの開閉による流量変化に合わせたフィードバック制御を行うことで、圧力調整での捨て水が少なく安定した水圧コントロールを実現しています。 ※液体の一定量をスプレーする 　測量＋スプレー塗布についてもご相談ください ※ノズル、ポンプは定期的なメンテナンスが必要となります。

• その他洗浄機
• 食品洗浄装置
• 高圧洗浄機

多関節ロボットで被洗浄物との距離を一定間隔に保ちながら、高圧パルスジェットによる各種ボックスの洗浄を行う洗浄装置です。洗浄~乾燥工程まで対応が可能です。 【特長】 ■フープ等の複雑な形状に合わせて洗浄 ■洗浄工程を自動化し、洗浄効果が安定 ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧ください。

• その他半導体製造装置
• その他洗浄機
• 超音波洗浄機

多関節ロボットで被洗浄物との距離を一定間隔に保ちながら、高圧パルスジェットによる各種FOSBの洗浄を行う洗浄装置です。洗浄~乾燥工程まで対応が可能です。 ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧ください。

• その他半導体製造装置
• その他洗浄機
• 超音波洗浄機

多関節ロボットで被洗浄物との距離を一定間隔に保ちながら、高圧パルスジェットによる各種ボックスの洗浄を行う洗浄装置です。洗浄~乾燥工程まで対応が可能です。 ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧ください。

• その他半導体製造装置
• その他洗浄機
• 超音波洗浄機

多関節ロボットで被洗浄物との距離を一定間隔に保ちながら、高圧パルスジェットによる各種キャリア（カセット）の洗浄を行う洗浄装置です。洗浄~乾燥工程まで対応が可能出です。 ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧ください。

• その他半導体製造装置
• その他洗浄機
• 超音波洗浄機

液晶ディスプレイにおけるスペーサ散布工程のドライ散布技術を発展させた、ナノ粒子にも対応可能な粒子の分散・散布装置です。 散布時の帯電量を元にしたフィードバック制御により、散布量の制御を行います。ノズルは固定式のマルチプレクサーノズルを使用し、ノズルを動かすことなく、エアーの切り替えのみで各方向へ均一に粒子を散布します。また、壁面への高電圧を印加することで、粒子の壁面付着を抑え、粒子の利用効率を改善するとともに、大きなサイズのワークにおいても均一な分散性能を確保します。 100mm×100mm〜300mm✕300mm程度のワークサイズに対応した、研究開発・試作用の卓上散布機です。 （1500mm✕1500mm等の大型ガラスへの対応、インライン向けの量産装置も製造可能） ※詳しくはお問い合わせください。

• 液晶ディスプレイ
• タッチパネル
• 粉体供給装置

液晶ディスプレイにおけるスペーサ散布工程のドライ散布技術を発展させた、ナノ粒子にも対応可能な粒子の分散・散布装置です。 散布時の帯電量を元にしたフィードバック制御により、散布量の制御を行います。ノズルは固定式のマルチプレクサーノズルを使用し、ノズルを動かすことなく、エアーの切り替えのみで各方向へ均一に粒子を散布します。また、壁面への高電圧を印加することで、粒子の壁面付着を抑え、粒子の利用効率を改善するとともに、大きなサイズのワークにおいても均一な分散性能を確保します。 100mm×100mm〜300mm✕300mm程度のワークサイズに対応した、研究開発・試作用の卓上散布機です。 （1500mm✕1500mm等の大型ガラスへの対応、インライン向けの量産装置も製造可能） ※詳しくはお問い合わせください。

• 液晶ディスプレイ
• タッチパネル
• 粉体供給装置

使用する水の量が少なく水膜のできにくい 既存装置にも後付可能な洗浄ノズルユニット 最大30Hzで駆動する洗浄ノズル 5〜10MPaの高圧水を発生させるポンプ コントロールユニットの組合せ 従来の連続スプレーは、自ら作った水膜の上からスプレーで圧力を加えており、洗浄力を上げる＝圧力を上げる＝流量が増え水膜も厚くなる、という傾向がありますが、DP－Gunは間欠スプレーのため、同じ圧力（＝衝撃）でも少ない流量となり、水膜ができにくく、スプレーした水が対象物へダイレクトに衝撃を加えます。 断続スプレーが繰り返し衝撃を加えることで、被洗浄物の異物除去、マスク洗浄、カセット等の立体物（細い溝や入り組んだ形状）の洗浄などで、優れた洗浄効果を発揮します。 ポンプユニットはノズルの開閉による流量変化に合わせたフィードバック制御を行うことで、圧力調整での捨て水が少なく安定した水圧コントロールを実現しています。 ※液体の一定量をスプレーする 　測量＋スプレー塗布についてもご相談ください ※ノズル、ポンプは定期的なメンテナンスが必要となります。

• その他洗浄機
• 食品洗浄装置
• 高圧洗浄機

液晶パネル製造におけるスペーサ散布工程のドライ散布技術を発展させた、ナノ粒子にも対応可能な粒子の分散・散布装置です。 散布時の帯電量を元にしたフィードバック制御により、散布量の制御を行います。ノズルは固定式のマルチプレクサーノズルを使用し、ノズルを動かすことなく、各方向へ均一に粒子を散布します。また、壁面への高電圧を印加することで、粒子の壁面付着を抑え、粒子の利用効率を改善するとともに、大きなサイズのワークにおいても均一な分散性能を確保します。 100〜200mm角程度の研究開発用途からG6サイズ等の量産装置まで対応します。（クラスタークリーナー、検査装置などを組合せたインライン装置のご提案・製造も対応可能です。） 20〜30μmなどの大粒径スペーサーの散布、調光ガラス、スマートガラスなどのプロセスにも対応可能。粒子の入手などについてもご相談ください。 ※詳しくはお問い合わせください。

• 液晶ディスプレイ
• タッチパネル
• 粉体供給装置

ポリッシュ後の研磨スラリーをディスクスクラブ洗浄で除去し、薬液スプレー、メガソニックスポットシャワー、スピン乾燥できる枚葉洗浄装置です。 強固着物の除去と薬液スプレーによる金属汚染除去が可能で、オプションで端面同時のスクラブ洗浄も対応できます。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ　：　シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径　 ：φ2”～φ4”　厚みについては応相談 ■透明ウエハにも対応 ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧ください。

• その他洗浄機
• 超音波洗浄機
• その他半導体製造装置

『300mmウェハカセットレス洗浄装置』は、ファイナルポリッシュ後の 化学研磨工程で使用する製品です。 25枚のWfの隙間に25枚を入れハーフピッチにし50枚を一括処理しており、 65nμm／5個の高清浄度を達成しています。 【主な仕様】 ■被洗浄物：300mm 厚み 0.75t ■処理方法：カセットレスによるDip処理 ■処理速度：50 枚/5min（可変） ■装置内清浄度：0.1μm クラス1 ■パスライン：FL+900±5mm フープによる手動セット ■搬送方式：前面搬送 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他洗浄機

当製品は、GaAsウェハを専用バスケットで自動搬送及びエッチングする 装置です。 ローダ部よりバスケットに入れたGaAsウェハを投入すると、搬送機により ローダ部からエッチング槽、リンス槽、アンローダ部へと自動搬送。 また、装置下側に薬液供給タンクがあり、自動で薬液を調合して エッチング槽に必要量投入します。 【主な仕様】 ■被加熱物：GaAs（ガリウムと砒素）ブロック ■カセット：PTFE専用カセット ■搬送機：自動ロボット搬送（サーボモーター駆動） ■制御方式：シーケンサ制御 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• エッチング装置

『IR乾燥炉』は、ローラー搬送によるタクト搬送で処理を行う製品です。 洗浄、エアブロー後の基板を加熱することにより、基板上の微水分を 蒸発させ、乾燥を実施。 ガラス基板をクリーン遠赤外線ヒーター（クラス100）で加熱乾燥します。 【主な仕様】 ■被加熱物：TFT用ガラスパネル（2880×3130×0.6t） ■処理方法：ローラー搬送によるタクト搬送（6°傾斜） ■処理速度：75mm/s（Tact Time：56sec） ■加熱条件：ガラス表面温度 70 ℃以上到達 ■パスライン：FL+1800±25mm ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 乾燥機器
• 加熱装置

当社が取り扱う、『OLED用処理装置』のご紹介です。 有機EL製造ラインの洗浄装置を提供。 基板サイズは370×470×1.1を処理致します。 装置としては、受入洗浄・純水洗浄・現像装置・ハクリ装置・ Crエッチング装置・ITOエッチング装置で構成しています。 【主な仕様】 ■被洗浄物：ガラス基板 370×470 厚み 0.6～1.1t ■処理方法：枚用処理 ■処理速度：0.6～5.0m/min（可変） ■パスライン：FL＋1100mm ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他洗浄機
• エッチング装置

当社が取り扱う、『PDP向けカセット洗浄装置』をご紹介します。 PDP用基板を搬送するカセットを温水高圧シャワー⇒液切り⇒温風乾燥させる 自動洗浄装置で、カセットに合わせ設計・製作致します。 処理方法は純水高圧洗浄＋温風乾燥となっております。 【主な仕様】 ■被加熱物：PDPカセット（2800W×4700D×1500H）重量：1000kg ■処理方法：純水高圧洗浄＋温風乾燥 ■処理速度：100mm/s（Tact Time：28min） ■加熱条件：100℃±5℃ ■パスライン：FL+2400 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他洗浄機

当製品は、Siナゲットの洗浄を目的とした装置です。 ワーク（Siナゲット）の入ったコンテナは専用の洗浄バスケットに 移し替えられ、洗浄設備内に自動搬送。 その後、バスケットは化学研磨・酸切・高品位水洗の処理を通しワークは 洗浄されます。このとき、洗浄バスケットを揺動して洗浄効率を向上しています。 洗浄後は乾燥専用バスケットに移され、150℃の温風で予備乾燥されます。 【主な仕様】 ■被洗浄物：Siナゲット ■処理方法：水洗⇒薬液洗浄⇒リンス⇒予備乾燥 ■搬送方法：搬送ロボットによる自動搬送 ■使用薬液：フッ酸、硝酸 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他洗浄機

『DAN-3502』は、防振性能の高い、入出庫ロボット内蔵のインキュベーターです。 分注が終わった結晶化プレートを自動で恒温容器（インキュベータ）に 格納し、恒温容器（インキュベータ）内の結晶化プレートを取り出して 自動で観察を行い、画像としてデータを保存することが可能な統合システム。 X線によるタンパク質の結晶構造解析は、タンパク質の発現、精製、結晶化、 X線回折実験、データ処理という手順で行われています。 【特長】 ■蛋白質結晶化研究など防振性が要求される自動搬送に対応 ■内蔵ロボット・冷凍庫の振動をプレートに伝えない機構 ■ノングリップ・スクーパーで優しくハンドリング ■棚情報管理、バーコード管理にも対応 ■内部雰囲気を優先し入出ゲートは、2重扉で外気を遮断 ■その他、収容品、収容量、サイズ、制御温度湿度範囲など仕様変更可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• インキュベータ
• 恒温槽

当社が取り扱う、『ウェハ移載装置』をご紹介します。 左右2台のキャリアハンドラーにより、1～6個のキャリアを高速搬送。 オリフラ合わせは、上合せ、下合せがスイッチにて切替可能です。 中央部で偶数列のウェハを反転させることができ、奇数列反転は オプションとなっております。 【主な仕様】 ■対象ウェハ：4 OR 5 OR 6インチの専用機 ■移載キャリア数：1～6個任意 ■オリフラ合わせ：スイッチにて切替可能（上合せ、下合せ） ■移載時間：6個で9分以内 ■装置寸法：1600mmX725mmX1450mm（4インチ仕様） ■装置重量：150Kg ■電源：AC100V、15A ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他搬送機械

当社が取り扱う、『フリット乾燥炉』をご紹介します。 ガラスパネルに塗布されたフリットペーストの乾燥を行う乾燥装置で、 ガラスSIZEに合わせ製作が可能。 処理速度は15m/min（36m/min）となっており、乾燥炉及び冷却部で構成され PDP用ガラス42“（964×570）～50“（1150×680）を2列ローラー搬送処理します。 【主な仕様】 ■被加熱物：PDP用ガラスパネルに塗布されたペースト ■処理方法：ローラー搬送によるタクト搬送（1段×2列） ■処理速度：15m/min（36m/min） ■加熱条件：ガラス表面温度95℃±15℃ 44秒以上（保証値） ■パスライン：FL+1150±30mm ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 乾燥機器

当社が取り扱う、『マスクガラス洗浄装置』をご紹介します。 マスクガラスをオリジナルカセットに収納しSPMと中性洗剤＋USにより 洗浄し、温水引き上げで乾燥。 工程は、LD → 水中 → SPM → Rinse → Rinse → 中性洗剤+US → Rinse＋US →Rinse → SC-1 → Rinse → Rinse＋MUS → Rinse → 温水引上 → ULDといった順に行います。 【主な仕様】 ■搬送方向：左left → 右light ■passline：400mm（LD.ULD） ■基板Mask：min 9”×9” ～ max 24”×24” ■本体寸法（材質） ・PVC巻き（アイボリー）：8000W×2350D×2600H（2900H） ・架台：SUS304製 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他洗浄機

当社が取り扱う、『ユタカドライ乾燥装置』をご紹介します。 カセット入りWf25枚×2を表面張力の原理を応用しスロー引き上げで乾燥。 リフターと液面をコントロールしWfと液面が離脱する際、液残りが出ない 制御をしウォーターマークが発生しません。 パスラインは洗浄ラインに合わせ設計致しますので、ご用命の際は お気軽にお問い合わせください。 【主な仕様】 ■被洗浄物：200mm 厚み 0.75t ■処理方法：カセットによるDip処理 ■処理速度：5min（可変） ■装置内清浄度：0.1μm クラス1 ■パスライン：洗浄ラインに合わせ設計 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 乾燥機器

『磁気ヘッド洗浄装置』は、放射状に12トレイ設置されたパレットを用いて、 磁気ヘッドのファイナル洗浄を目的とする製品です。 アルカリ温水溶液(10%)を使用し、3方向より超音波を照射し傾斜間欠回転揺動洗浄。 リンス乾燥は純水ディップ、QDR、純水シャワー、スピンドライヤを1槽に 組み込んだ複合リンス乾燥処理としています。 ファイナル乾燥はBOX内ホットプレートにて加熱乾燥を行うもので、ローダ1、 U/S揺動洗浄2槽、リンス3槽、加熱乾燥1槽、アンローダ1より構成されます。 【仕様】 ■パレットは50mm×50mmが標準で他にも7種類あり交換可能 ■ヘッドサイズは1mm□で厚みが0.3mm、パレット内に500個 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他洗浄機

当社が取り扱う、『自動搬送カセットクリーンオーブン』をご紹介します。 8″ウェハ25枚1カセットを6個1セットとし、1台のクリーンオーブンと ローダ、アンローダ側の搬送ロボットを使用。一度に1セット分を処理できる 搬送機付となっております。 搬送方式は自動または手動が可能で、クリーンオーブン内温度はMAX140℃。 外形寸法は2590（W）×1400（D）×2400（H）となっております。 【主な仕様】 ■処理ウェハ：8”石英ウェハ25枚入りカセット×6 ■搬送方式：自動／手動 ■クリーンオーブン内温度：MAX140℃ ■クリーンオーブン内清浄度：クラス10　0.3μmRTにて ■外形寸法：2590（W）×1400（D）×2400（H） ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他搬送機械

当社が取り扱う、『真空乾燥装置』をご紹介します。 φ600×D585のSUS304製真空チャンバー内に、特殊シーズヒーター3本を 設置してチャンバー内を加熱。オイルフリーの状態で真空乾燥を行う装置です。 真空槽の前面扉は片開きで開口が広く部品の出し入れが容易に行えるほか、 客先の仕様に合わせ、乾燥炉内のワーク設置台を専用設計しています。 【主な仕様】 ■乾燥物：一般部品 ■チャンバーサイズ：φ600×D585 ■チャンバー容量：約142L ■外観寸法：850W×1049D×1800H ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 乾燥機器
• 真空機器

当社が取り扱う、『精密部品洗浄装置』をご紹介します。 HHD用モーター部品（Hub・ケース等）を脱脂洗浄する装置で、 洗剤＋US（脱脂洗浄）→純水リンス＋US→温風乾燥→真空乾燥で構成。 用途に合わせ製作致します。 ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。 【主な仕様】 ■被洗浄物：HHD用モーター部品（Hub・ケース等） ■処理方法：専用バスケットによるDip処理 ■処理速度：2.5min（2kg×4 バスケット） ■パスライン：FL+750±10mm ■搬送方式：タクト送り ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他洗浄機

『薬液供給装置』は、HFの自動調合供給装置です。 各薬液の装置への供給は薬品メーカーの原液ポリタンク又は、CCSSからの 直接供給が可能。供給された薬液はポンプにて秤量タンクへ移送し、 規定の比率で、薬液と純水を自動調合します。 また、調合されたHFは供給タンクに貯蔵され、供給要求信号にて、 ユースポイントへ自動供給します。 【主な仕様】 ■本体フレーム：軽量型鋼溶接組立、一体構造焼付塗装仕上げ ■外装色：アイボリーホワイト ■外装被膜：PVC ■構造：本体ドラフト構造、前面、背面、PVC透明パネル ■供給薬品：HF（収納部クリーンエア供給機能付） ■制御部：装置組込み式制御盤 ■供給タンク本体フレーム ・SUS溶接組立、2分割構造＋耐蝕樹脂塗装アイボリーホワイト ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他半導体製造装置

当社が取り扱う、『有機溶剤洗浄装置』をご紹介します。 6″ウェハカセット用の自動エッチング洗浄装置で、制御方式はPLC。 装置本体とポンプユニットと制御盤からなっています。 洗浄プロセスはバッチ洗浄、流れ方向は左→右の3機ロボット搬送です。 ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。 【主な仕様】 ■搬送：6″ウェハの2カセット搬送 ■洗浄プロセス：バッチ洗浄 ■流れ方向：左→右の3機ロボット搬送 ■制御方式：PLC ■薬液供給方法：CCSS 方式 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他洗浄機

『kolleii GDK-500』は、抗ウイルス・抗菌・消臭を目的とした ミストシャワーユニットです。 超音波加湿ユニットを6個搭載しており、粒径3μm～4μm、毎時3.4Lで 霧化することが可能。装置正面に停止すると自動でミストシャワーが 噴霧されます。 噴霧液が不足時には供給タンク空警報ランプが点灯。当社推奨の噴霧液他、 種々の除菌・抗菌用液にもご利用いただけます。 【特長】 ■抗ウイルス・抗菌・消臭 ■超音波加湿ユニット搭載 ■人感センサーで自動噴霧 ■供給不足を知らせるアラート機能付き ■さまざまなシーンをクリーンで安全にする ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他安全・衛生用品

『kolleii GDK-500』は、カテキンの希釈液を衣服等に噴霧することで ウイルス、菌類の増殖や拡散を抑制することできるミスト除菌装置です。 カテキンは茶葉から抽出される食品添加物のため無害。当社推奨の噴霧液の 他、除菌・抗菌用液でも当装置をご利用いただくことができます。 当社は「感染症終息応援キャンペーン」を実施しており、先着10台限定で 初月無償貸出を行っています。1ヶ月ごとの延長、解約も可能ですので、 この機会にぜひ利用ください。 【キャンペーン概要】 ■対象製品：ミスト除菌装置『kolleii GDK-500』 ■キャンペーン内容 ・1ヶ月レンタル費用 月々33,000円(税込)⇒初月0円 ・先着10台限定 ・設置には100Vコンセントが必要 ・配送料、引取手数料、設置費、ご返却費は全て当社負担 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他安全・衛生用品

当社は、クリーンテクノロジーを中心とした 洗浄技術・清浄技術・計測技術を核とする製品を提供しております。 半導体、FPD、乾燥炉、真空、精密洗浄、その他装置まで 各種製造装置を取り扱っています。 5、6、8 ” ウェハカセット洗浄装置、CF用処理装置、真空乾燥装置 R to R熱処理連続乾燥炉、精密部品洗浄装置、エアーシャワー等 幅広くラインナップしています。 また、空中搬送洗浄装置や非接触搬送洗浄装置も新たに加わりました。 【各種製造装置】 ■半導体 ■FPD ■乾燥炉 ■真空 ■精密洗浄 ■その他装置 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

• その他洗浄機
• 乾燥機器

『DNCC-320』は、ガラス基板を流体で浮上移動させながら、 洗浄からリンス、乾燥処理まで行う洗浄装置です。 本来洗浄媒体である純水等で浮上させ且つ洗浄し、 垂直端面だけで駆動制御させ、川幅方面のサイズ変更も可能です。 従来のローラー搬送の様なスリップ等によるキズがガラス面に付かず ガラス全面に洗浄液が均一に接触流水しスプレー洗浄の様なムラがありません。 【特長】 ■ガラス基板にローラー痕ゼロ ■表面、裏面同時洗浄乾燥が可能 ■薄板軽量基板（0.5t以下）の搬送に好適 ■機能水＋超音波洗浄 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

• その他洗浄機
• 超音波洗浄機

『DPC-700』は、ワークを高圧パルスジェット噴射にて洗浄及び すすぎを行い、エアーブロー（配管内液抜き）により水切りする装置です。 オプションで温水洗浄、すすぎ、水切りを同一槽内で連続して 処理を行うこともできます。（温度範囲はお打合せで決定） 専用治具を用いることにより、サイズの異なる容器や蓋なども洗浄できます。 プラスチック容器の鋭角溝の汚れや、アルミ合金を組み合わせた 局面や角度を持つ2段構造の裏側などもパルスジェットで落とすことができます。 【特長】 ■高圧パルスジェットは高圧水圧が減衰しない洗浄 ■凹凸、先端封じ穴加工のあるワークの洗浄 ■洗浄水の使用量が少ないエコ洗浄 ■35～45m／sの速度による高速洗浄 ■6軸多関節ロボットの採用で、より人間の動きに近い洗浄 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

• その他洗浄機
• 高圧洗浄機

『DBC-1700』は、容器を純水噴射にて洗浄及びすすぎを行い、 エアーブロー（配管内液抜き）後、高速回転により水切りする装置です。 温水洗浄、すすぎ、水切りを同一槽内で連続して処理を行います。 専用治具を用いることにより、サイズの異なる容器や蓋なども洗浄できます。 洗浄シャワーは、40℃に温度制御された温水を0.25MPa以上の水圧で洗浄します。 洗浄液はタンク循環され無駄な純水消費を抑えています。 【特長】 ■多品種洗浄対応可能 ■洗浄力 ■安全対策 ■レシピ運転 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

• その他洗浄機
• 洗浄剤

『DACC-061-3L』は、4インチ（61mmx124mm）から7インチ （140mmｘ200mm）のパターン付き小判ガラス両面の各種汚れを 洗浄除去する装置です。 洗浄液は一般の洗剤やクリーナーに含まれる界面活性剤や化学合成物質 BOD/CODなどの環境汚染物質の含有量がゼロの機能水を生成する装置を搭載。 成分の99.9%が純水でありながら合成洗剤と同等、 またはそれ以上の洗浄効果を発揮します。 【特長】 ■ガラス基板にローラー痕ゼロ ■多品種生産対応可能 ■優れた洗浄力 ■機能水＋超音波洗浄 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他洗浄機

『薬液スクラブスピン洗浄装置』は、 高圧スプレーや超音波スプレー、薬液等の非接触洗浄、 ブラシ等の接触洗浄など、様々な組み合わせが可能な洗浄機です。 1つのチャンバーで洗浄からスピン乾燥まで完結し、 省スペース設計のため、設置スペースとコストの削減に貢献します。 各種装置構成、薬液構成、目的とする洗浄性能やご予算など、 ニーズに応じて適した装置構成をご提案可能です。 【特長】 ■各種洗浄方法・薬液を組み合わせ可能 ■研究開発用途や小～中規模の現場に対応 ■SiC、GaN、LTなどの小径ウェハ、 　パワー半導体の新素材を開発・生産している現場にも好適 ■対応ウェハサイズ：3インチ～6インチ（8～12インチも別途ご相談により対応） ※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。

• その他半導体製造装置

『1チャンバー型薬液スピン・スクラブ洗浄機』は、 高圧スプレーや超音波スプレー、薬液等の非接触洗浄、 ブラシ等の接触洗浄など、様々な組み合わせが可能な洗浄機です。 1つのチャンバーで洗浄からスピン乾燥まで完結し、 省スペース設計のため、設置スペースとコストの削減に貢献します。 各種装置構成、薬液構成、目的とする洗浄性能やご予算など、 ニーズに応じて適した装置構成をご提案可能です。 【特長】 ■各種洗浄方法・薬液を組み合わせ可能 ■研究開発用途や小～中規模の現場に対応 ■SiC、GaN、LTなどの小径ウェハ、 　パワー半導体の新素材を開発・生産している現場にも好適 ■対応ウェハサイズ：3インチ～6インチ（8～12インチも別途ご相談により対応） ※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。

• その他半導体製造装置

■装置概要 　スラリーや長い研磨ベルトを使用せずに、濾過水・純水を媒体として鏡面研磨、粗研磨、洗浄等を行う端面研磨装置（エッジポリッシャー） 　スラリー不使用・長い研磨ベルト不使用により省メンテナンス・省スペース・シンプルな機構を実現 ■用途例 　鏡面仕上げ加工・鏡面仕上げ加工・端面異物洗浄 ■対象物 　・薄い材料150～200μに好適 　・各種ウェハ：化合物、酸化物、ガラス、石英、シリコン、セラミック 対応 実機での評価・確認後に装置採用のご検討をお願いします。 オリフラ対応(Vノッチは対応不可) 自動化・仕様打合せによる特注設計製作に対応します。

• その他半導体製造装置

本装置はHDD用モーター部品（HUB・ケース等）を脱脂洗浄する装置です。 構成：洗剤＋US（脱脂洗浄）→純水リンス＋US→温風乾燥→真空乾燥　用途に合わせ製作致します

• その他半導体製造装置
• その他洗浄機

本装置は、Siナゲットの洗浄を目的とした装置です。ワーク（Siナゲット）の入ったコンテナは本装置で専用の洗浄バスケットに移し替えられ、洗浄設備内に自動搬送されます。 その後、バスケットは化学研磨・酸切・高品位水洗の処理を通しワークは洗浄されます。このとき、洗浄バスケットを揺動して洗浄効率を向上しています。 洗浄後は乾燥専用バスケットに移され、１５０℃の温風で予備乾燥されます。

• その他半導体製造装置
• その他洗浄機