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メンテナンスフリー！アルゴン/ヘリウム中のオンラインPPBレベル微量窒素測定器
『LD8000 PLUS』は、高純度アルゴン/ヘリウムガス分析用に 設計されました。 ガスクロマトグラフを必要とせずに、オンラインで低ppbの 微量窒素の測定が可能。 コンパクトな筐体は、様々な産業用や研究開発用など、 多種多様なアプリケーションに適しています。 【特長】 ■デューティ比制御システムに基づく独自のプラズマ発光検出設計 ■PPBサブシステムを搭載 ■イーサネットを介したソフトウェアアップデート用のブートローダ ■4-20mA出力（標準） ■レンジインジケーションリレー ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
データは約1年間の継続的な記録が可能！幅広い産業のプロセスガス分析/制御、監視用に設計
マルチガスアナライザー Rapidox 7100（ラピドックス7100）は、プロセスガスの分析、制御、監視用に設計された高仕様の機器です。 特定のアプリケーションに合わせて複数のガス検知構成を選択することができます。 一連の高精度ガスセンサーを使用して最大6つのガスを同時に測定。 業界標準の試験装置ラックに簡単に取り付けられる19インチラックマウント筐体です。 各センサーはバックグラウンドプロセスガスとの相互干渉効果を避けるために特別に設計・調整されます。 【特長】 ■最大6つのガスを同時に測定 ■データはUSBメモリスティック経由でダウンロード可能 ■約1年間の継続的な記録が可能 ■オプションのポンプにより、2つの動作モードが可能 ■19インチラックマウントまたはベンチマウントバージョンの いずれかを選択可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
極微少量の「残留ガス」検知で半導体チップや車載センサの劣化防止｜超高性能「質量ガス分析装置」とは、業界動向・事例を紹介
この度、ものづくりや研究開発に携わる技術者のためのデジタル放送局 『アペルザTV』（運営：株式会社アペルザ）への出演が決定いたしました！ アペルザTVは、事前登録により無料でご視聴いただけますので、 下記URLよりご登録の上、是非この機会にご視聴ください！ ▼半導体・電子部品製造特集の視聴登録はこちらから https://tv.aperza.com/event/92?utm_source=di_10006492 ▽極微少量の「残留ガス」検知で半導体チップや車載センサの劣化防止 https://tv.aperza.com/event/92?webinar=828&utm_source=di_10006492 ※Internet Explorerではご覧いただけません（※推奨視聴ブラウザはGoogle Chromeです）
当社のラボにてサンプルをお預かりしてデバイスの残留ガスの受託分析サービスを行います。
分析アプリケーション例（蓄積法） 破壊分析 ●半導体チップの各積層間の残留・放出ガス測定 ●半導体ウェハ基板からのガス放出測定 ●MEMSデバイスチップ内の残留ガス測定 非破壊分析 ●封止デバイスのリークテスト・放出ガス測定
GC/MS：ガスクロマトグラフィー質量分析法
試料加熱時の発生ガスの温度プロファイルを得る方法としてEGA-MS法がありますが、この方法では発生したガスをGCのカラムを通さずに混合物のまま質量分析計に導入するため、化合物の同定が困難です。このような場合、ガスを一度トラップしてGC/MS測定を行う、ハートカットEGA法を用いることにより、化合物の分離、同定が可能になります。本事例ではポリ酢酸ビニルをハートカットEGA法で測定し、加熱温度による分解機構の違いを明らかにした例を紹介します。
GC/MS：ガスクロマトグラフィー質量分析法
試料加熱時の発生ガスの定性分析を行う方法として熱分解GC/MS法がありますが、ここで検出された各成分がそれぞれどのような温度で発生するかを調べる方法としてEGA*-MS法が有効です。この方法は、試料を昇温加熱して発生したガスをGCのカラムを通さずに直接質量分析計に導入する方法です。 本事例ではポリ酢酸ビニル加熱時の発生ガスの温度プロファイルを測定した例を紹介します。 * EGA：Evolved Gas Analysis
アルゴン、ヘリウムおよび粗アルゴン中のオンライン微量窒素/酸素分析器！
LD8000は、アルゴン/ヘリウム/粗アルゴン中の微量窒素/酸素をモニタリングするオンライン測定器です。 19インチ・ラックマウント筐体で最適なソリューションを提供するために、さまざまな技術を搭載しています。 フロントパネルにサンプリングラインをパージするためのサンプルバイパスフロー用調整バルブを設置。 また、19インチ・ラックマウント筐体で好適なソリューションを提供するために、さまざまな技術を搭載しています。 【特長】 ■アルゴン/ヘリウム/粗アルゴン中の微量窒素と酸素測定 ■小型3Uラックマウントの筐体 ■4-20mA出力（標準） ■LAN/Web制御 ■レンジ確認用リレー ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
GC/MS：ガスクロマトグラフィー質量分析法
発生ガス濃縮装置はチャンバー内に入れた試料から発生したガスを捕集管にトラップさせる装置です。捕集管にトラップすることで微量の脱ガス成分を濃縮し、GC/MSで高感度に測定できます。試料の種類に合わせて、適したサイズのチャンバーを選択することができ、最大350℃までの加熱に対応しています。 ○ 比較的大きいサイズ（数ｃｍオーダー）のサンプルに対応 ○ ヘッドスペース法と比較して2～3桁程度感度良く測定が可能 ○ ウエハ両面からの有機汚染評価が可能 ○ フォトマスク（レチクル）の有機汚染評価が可能 ○ ヘキサデカン、デカメチルシクロペンタシロキサンなどを用いた換算定量が可能
燃焼設備の燃焼効率管理！ポータブルで4ガス同時測定可能な排ガス分析計
燃焼設備の燃焼効率管理 排ガス管理に testo 340は、最大4種のセンサ（O2/CO/NO/NO2/SO2）を搭載できるポータブル排ガス測定器です。 ハンディータイプですが、4種のガス濃度測定ができ工業炉、コージェネレーション、ディーゼルエンジンなどの排ガス測定に適しています。 ・ ユーザーで簡単にセンサ交換が可能 ・ 最大4種類のガスを同時測定 ・ 測定範囲を5倍に拡大できる希釈機能 ・ ドレンの満水アラーム ・ ロガー機能で自動記録 ★デモ機無料貸し出しも行っています。 お気軽にお問い合わせください。 TEL.050-1880-0439
高精度の四重極型質量分析システムによる受託分析サービス。封止デバイス内部や接合ウェハー界面のガス分析を行います。
当社では、高精度の四重極型質量分析システムにより、お客様から受領した サンプルのガス分析（リーク量測定）を行うサービスを提供しております。 分析装置に“低ガス放出”の0.2％BeCu合金製の真空構造材を採用しており、 デバイスの破壊試験による10^-15Pa・m3/s(He)以下という極微小リークの検出が可能。 封止デバイス内部や接合ウェハー界面のガス分析を行います。 半導体デバイスの不良解析、品質改善、品質管理に貢献します。 【測定例】 ■半導体チップの各積層間の残留・放出ガス測定 ■半導体ウェハー基板からのガス放出測定 ■接合ウェハー界面のガス分析 ■MEMSデバイスチップ内の残留ガス測定 ■封止デバイスの極微小リークチェック ※「PDFダウンロード」より本サービスの紹介に加え、 分析システムに関する解説を掲載した資料をご覧いただけます。 お問い合わせもお気軽にどうぞ。
小型ボイラーや厨房設備のメンテナンスに
testo 310 IIはプローブ一体型のコンパクトな排ガス分析計です。 日本語対応のカラーディスプレイを搭載し、簡単な操作で、スピーディな測定を実現します。必要に応じてスマートフォンのアプリとBluetoothでつながり、測定結果の記録や文書化にも対応します。 【特長・機能】 ■O₂/CO₂/排ガス温度/周囲温度/ドラフト圧/差圧 ■排ガスプローブ付き（6×180mm） ■モバイルアプリtesto Smartで測定 ■記録・文書化 ■簡単に操作可能なメニューとカラーディスプレイ ■現場で測定結果を印刷（Bluetoothプリンタ） ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
