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お客様のご要望に合ったシリコンウェハーを短納期・低価格で提供いたします！最短即日発送。
当社では、装置の条件出し、ダイサーやBGのプリカット、搬送テストなど の用途にご使用いただける『シリコンウェハー』を取り扱っております。 モニターウェハーはもちろんのこと、各種サイズ、各種厚み、 パーティクルウェハーにも対応可能です。 小口径２インチ～６インチモニターウエハー、８インチ～１２インチモニターウエハーも格安で販売致します。 P型/N型・オリフラ/Vノッチ・結晶方位などお気軽にご相談ください。 【用途】 ■装置の条件出し ■ダイサーやBGのプリカット ■搬送テスト など ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
熱酸化膜やパターン加工膜、多層膜加工膜など！膜厚につきましては、都度ご相談に応じます
当社で行う、「薄膜成膜加工」をご紹介いたします。 ダスト保証品も可能な「熱酸化膜」をはじめ、「Poly膜(ノンドープ、 ドープド)」や「チッカ膜(LP・プラズマ)」、「TEOS膜」など 様々な膜に加工。膜厚につきましては、都度ご相談に応じます。 【膜種】 熱酸化膜（ダスト保証品も可能です）／Poly膜（ノンドープ、ドープド）チッカ膜（LP・プラズマ）※12″も対応可能です。 TEOS膜／BPSG膜／TI、TIN膜／CU膜／W膜／パターン加工膜／多層膜加工膜／各種IC種類 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
バンドギャップの広さとスイッチングの速さ、オン抵抗が低いことも有利なポイント！
当社では「GaN基盤」の製造販売を行っております。 GaN(窒化ガリウム)という半導体を使用した基盤。青色発光ダイオードの 材料として世に広まりましたが、絶縁破壊電解強度や熱伝導率の高さが 注目され、近年では先進パワー半導体の材料として応用されています。 ご用命の際は、当社までお気軽にお問い合わせください。 【基本仕様(一部)】 ■直径：Φ2"、Φ3"、Φ4"、Φ6" ■GaN膜厚：3μm、3.5μm、4μm、4.5μm、6μm、～100μm特別指定可能 ■結晶方位：C-axis(0001) ■導電タイプ：Un Dope、N-type、P-type ■XRD：(002)≦300arsec、(102)≦400arsec ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
光通信用バタフライパッケージや低速＆低コスト型HTCCパッケージなどをご紹介！
当社では「オプトエレクトロニクス部品」の製造販売を行っております。 好適なワイヤー濡れ性を確保したプレーティング加工の「光通信用Min-DiL, Min-Flat＆Min-Pin;パッケージ・低速＆低コスト型HTCCパッケージ」や AuSn共晶パッドの「Optica Platform＆サブマウント・ブレージングAssy メタル＋セラミック」などをラインアップ。 ご用命の際は、当社までお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ＜Optica Platform＆サブマウント・ブレージングAssy メタル＋セラミック＞ ■CuW/ヒートシンク ■Al2O3,ALN,SiC基板 ■高信頼性薄膜技術 ■AuSn共晶パッド ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
