CVDダイヤモンド基板
ダイヤモンド基板、diamond
CVDダイヤモンド基板(Chemical Vapor Depositionダイヤモンド基板)は、化学気相成長(CVD)法を用いて製造されるダイヤモンドの薄膜を基板として使用する材料です。 CVD法では、ダイヤモンドをガス状態の炭素源(通常はメタン)を使用して化学反応によって基板上に成長させます。 このプロセスにより、高品質のダイヤモンド薄膜を作り出すことができます。
- 企業:株式会社豊港 先端材料事業部
- 価格:応相談
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ダイヤモンド基板、diamond
CVDダイヤモンド基板(Chemical Vapor Depositionダイヤモンド基板)は、化学気相成長(CVD)法を用いて製造されるダイヤモンドの薄膜を基板として使用する材料です。 CVD法では、ダイヤモンドをガス状態の炭素源(通常はメタン)を使用して化学反応によって基板上に成長させます。 このプロセスにより、高品質のダイヤモンド薄膜を作り出すことができます。
レーザー出力ウィンドウ等に最適
ダイヤモンドウィンドウは、ポンプ波長で優れた光透過率を有するだけでなく、その熱伝導率も他の材料に匹敵しません。 CVD ダイヤモンドの超⾼い熱伝導率により、レーザー媒体によって生成された熱を周囲の環境に素早く分散させることが できます。精密な研磨プロセスにより、ダイヤモンドウィンドウとレーザー結晶が密着することで熱伝導がさらに強化され、レーザー出力の効率と精度が向上します。
多結晶超高熱伝導光学グレードウェハー/シート
レーザー、光電子デバイス、⾼出力放熱およびその他のハイエンド用途
⾼出力エレクトロニクス、レーザー冷却、放熱管理などに
結晶配列を最適化し、材料の一貫性を向上させます。 カスタマイズで 金属化対応可能