簡易型UVナノインプリント装置 ImpFlex Essential
ナノインプリントリソグラフィー。徹底的なコストダウンで、低価格実現
高微細化、低コスト、高スループットを実現した ナノインプリントリソグラフィー 【特徴】 ○低残膜、膜厚均一性の高いImpFlexと共通のインプリントエンジン搭載 ○徹底的なコストダウンにより低価格を実現 ○バブル消去ガスプロセス対応 ○多種モールドに対応可能 モールドサイズ□10ｍｍから最大90mmまでの転写が可能 また、モールド材料は石英の他にオプションで Ni電鋳などの他の材料も使用可能 ○豊富なオプションによりアップグレードが可能 ●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。
- 企業：三明電子産業株式会社
- 価格：応相談
