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NF3最大流量8slm、独自のPEOプラズマブロック設計によりプロセス性能と寿命を向上！
「Paragon（R）」は、量産実績のあるMKS低磁場トロイダルプラズマ源の特性を基に、次世代ナノプロセス開発と製造に、より適したデータ転送と制御性を実現しました。 CVDおよびALD／ALEプロセスチャンバークリーニングに対応し、8slmのNFガス流量および最大10Torrの圧力条件においても高い分析効率（＞98％）が得られます。 【特長】 ■NF最大流量8slm、コンパクトな設計でクリーニング時間短縮 ■PEOコーティングを採用した独自のプラズマブロック設計により、プロセス性能と寿命を向上 ■RoHS適合、CE、S2、F47 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
ON-WAFER処理のためのインテリジェントプロセスコントロール
『R*evolution V』は、実績のある低磁場トロイダルプラズマ技術、 高度な通信機能、高精度パワー制御機能を一体化した製品です。 当シリーズのリモートプラズマソースは、フォトレジストストリップや 様々な表面処理など、酸素ラジカルベースのアプリケーションに適しています。 またEtherCAT通信プロトコルにより、クリティカルなプラズマソース動作 パラメータをプロセスツールや工場ネットワークへほぼリアルタイムに 情報提供することを可能としています。 当製品は、プロセスツールの高稼働率を維持するためのプロセスパラメータの モニターや変更と稼働状況診断 (APC/FDC) アプリケーションをサポートする ための情報をプロセスツールや工場データベースへ流通させることができます。 【特長】 ■チャンバに直接設置できる機能内蔵一体型ユニット ■高密度酸素系プラズマ用石英アプリケータ ■最大6kWの出力 ■高い出力再現性 ■高精度出力コントロール＜1％ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
