細孔内部に均一に奥まで材料を充填できるパターンドメディア製造方法
細孔内部に均一に奥まで材料を充填できるパターンドメディア製造方法
ナノサイズの微細孔に磁性材料等を埋込み、パターンドメディア等を製造する技術です。 【特徴】 ●イオン照射を併用したスパッタリング法によって、細孔の奥まで 効率よく磁性体等を充填することができ、空隙や不純物の極めて 少ない磁性体等の層を形成可能 ●超臨海流体または亜臨海流体を用いためっき法により、低粘性、 高拡散性、表面張力０の性質によって、大面積のディスク全面に 分布する細孔内部に均一に磁性材料等を充填可能 ◇◆詳細は資料請求またはカタログをダウンロードして下さい◆◇
- 企業：有限会社山口ティー・エル・オー
- 価格：応相談
