フラッシュランプアニーリング装置 FLA
半導体など各種材料に！数ミリ秒から数百ミリ秒の超短時間でアニーリング可能です
フラッシュランプアニーリング装置 FLAは、DTF-FLA ウルトラショートタイムアニーリング用にデザインされたスタンドアローン装置です。半導体材料、その他の材料に対して、数ミリ秒から数百ミリ秒の超短時間のアニーリングをすることが可能です。非常に短いパルス（マイクロ/ミリ秒レベル）のキセノンフラッシュランプにより、超高速昇温レートで表面のみ加熱しますので、フレキシブル基板、 耐熱温度の低い基板上の膜のアニ－リング処理等に使用できる研究開発用の小型装置です。コンパクトで使い勝手がよく、各種アプリケーションの研究開発に最適です。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
- 企業：株式会社マツボー
- 価格：応相談
