大型基板用全自動フォトリソ処理装置
フォトリソプロセス一貫処理が可能
■G8.5世代の超大型重量基板に対応します。 ◎対応基板サイズ：1.3m X 1.5m X15mm t ■フォトリソ一プロセスの一貫処理に対応。 ◎処理工程：LD⇒現像⇒エッチング⇒剥離⇒洗浄⇒ULD ■国内の複数メーカーに複数台の実績がございます。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 枚葉式洗浄装置、基板洗浄装置、スピン洗浄装置、半導体製造装置、半導体、洗浄装置、レジスト、フォトレジスト、フォトリソ工程、有機EL、表面処理、ウエハ剥離装置、ウエハ洗浄装置、ウエハ洗浄機
- 企業：株式会社ソフエンジニアリング
- 価格：応相談
