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処理速度は75mm/s！ガラス基板をクリーン遠赤外線ヒーターで加熱乾燥します
『IR乾燥炉』は、ローラー搬送によるタクト搬送で処理を行う製品です。 洗浄、エアブロー後の基板を加熱することにより、基板上の微水分を 蒸発させ、乾燥を実施。 ガラス基板をクリーン遠赤外線ヒーター（クラス100）で加熱乾燥します。 【主な仕様】 ■被加熱物：TFT用ガラスパネル（2880×3130×0.6t） ■処理方法：ローラー搬送によるタクト搬送（6°傾斜） ■処理速度：75mm/s（Tact Time：56sec） ■加熱条件：ガラス表面温度 70 ℃以上到達 ■パスライン：FL+1800±25mm ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
ガラスSIZEに合わせ製作！ガラスパネルに塗布されたフリットペーストの乾燥を行います
当社が取り扱う、『フリット乾燥炉』をご紹介します。 ガラスパネルに塗布されたフリットペーストの乾燥を行う乾燥装置で、 ガラスSIZEに合わせ製作が可能。 処理速度は15m/min（36m/min）となっており、乾燥炉及び冷却部で構成され PDP用ガラス42“（964×570）～50“（1150×680）を2列ローラー搬送処理します。 【主な仕様】 ■被加熱物：PDP用ガラスパネルに塗布されたペースト ■処理方法：ローラー搬送によるタクト搬送（1段×2列） ■処理速度：15m/min（36m/min） ■加熱条件：ガラス表面温度95℃±15℃ 44秒以上（保証値） ■パスライン：FL+1150±30mm ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
