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マイクロ孔領域の細孔分布評価の信憑性を向上！NLDFT/GCMC法についてご紹介
「非局在化密度汎関数法」および「コンピューターシミュレーション法」は、 多孔性材料の細孔分布の新しい評価方法として近年発達してきました。 この理論により多くの材料や吸着質の吸着が説明され、マイクロ孔や メソ孔の細孔分布解析に利用されるようになりました。この新しい 細孔分布評価方法は、従来メソ孔とマイクロ孔で使い分けていた理論を、 単一の理論での全領域の細孔分布の解析を可能としました。 また従来、信頼性に欠けていたマイクロ孔領域の細孔分布の精度を向上。 これらの理論の特長は、古典的細孔分布解析理論では細孔内吸着相が 液体状態であると仮定（Kelvin理論）していたものを、固体表面からの 吸着密度の周期的な変化を解析したことです。 当社のホームページでは、図を用いて詳しくご紹介しています。 ぜひご覧ください。 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
表面凹凸のあるサンプルでのキャリア拡散層の均一性評価
BSF型結晶Si太陽電池について、表面側テクスチャ部および裏面側BSF部のキャリア拡散層分布をSCMにて評価した事例を紹介いたします。テクスチャ部では表面凹凸に沿ってpn接合が形成されているのに対し、BSF部ではキャリア分布に途切れがあり不均一であることが確認できます。
高分子フィルムの延伸時配向変化のその場観察に！面内分布として定量評価が可能です
応力負荷試験機である『ISL-T300』と、複屈折分布評価装置である 『WPA-200』の組み合わせについてご紹介します。 高分子フィルムの延伸による分子配向の変化は、複屈折を測定することで 光学的に評価できます。しかしながら、引張りながら同時に複屈折を、 しかも面分布情報として評価することは困難でした。 本提案の装置組み合わせなら、延伸過程での配向変化を面内分布として 定量評価が可能です。 【装置仕様】 ＜ISL-T300＞ ■最大荷重：300N ■移動距離：最大30mm ■試験速度：0.08～8mm/min ■チャック間隔：2～32mm ■試験片厚さ：1.5mm以下 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
