更新日： 集計期間:2026年05月27日～2026年06月23日
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〈高品質・低コスト〉ワールドマシナリのプラントエンジニアリング対応事例のご紹介！
ワールドマシナリのプラントエンジニアリング事例(鋼片加熱炉／熱処理炉）のご紹介です。 【型式】 ウォーキングビーム式 ロータリーハース式 台車式(バッチ式) 等 【燃焼方式 】 従来バーナ燃焼式、リジェネレイティブバーナ燃焼式等があり、 加熱/降温は適切な加熱曲線に沿って昇温・降温を自動制御。 又、燃料等は自動にてプロセス制御されます。 最新の燃焼制御方式と燃焼技術を組み合わせ省エネを徹底的に追及いたします。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
メッシュコンベアで搬送！加熱！ インバータ可変速で簡単制御！
メリット ● 丈夫な構造 ● 納期が短い ● 取り付け簡単 ● メンテし易い ● 静かな運転音 ● モジュラーデザイン ● 一般環境に適用 ● ベルトに多様な選択で様々な産業に対応可能
タッチパネル操作方式を採用！各種研究開発・試作向けの遠赤外線加熱装置です
『MIGHTY STAR F1200』は、専用に開発されたタッチパネル ソフトウェアにより、作業効率及び管理に優れた環境を実現する 簡易型の遠赤外線加熱炉です。 セラミック溶射された遠赤外線シースヒーターにより、 樹脂フィルムなどの高分子化合物を効率的に加熱。 また、ワークの幅方向の制御にサイドヒーターを配置し 左右ムラを最小限に抑制します。 【特長】 ■ヒーター ・ご希望により近赤外線ヒーター等の組み込みも可能 ■コンベア（チェーン）搬送 ・タッチパネル上で数値制御 ・短い炉長においても加熱時間を常に正確に把握することが可能 ■タッチパネル操作 ・操作項目及び制御項目の変更、追加にもソフトウェア上で柔軟に対応 など ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
最大加熱量5トンから20トン！固定炉床バッチ式の加熱炉を4基保有しています
西日本最大クラスの大型リング鍛造を可能にする大丸鋼材の 設備をご紹介いたします。 加熱炉は、固定炉床バッチ式の4基を保有。 燃料は都市ガス13A、温度制御は自動です。 三建産業株式会社製と大協耐火株式会社製となります。 【特長】 ■タイプ：固定炉床バッチ式 ■燃料：都市ガス13A ■温度制御：自動 ■処理温度：1250℃（炉内最高温度）1300℃ ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
PID制御、4ゾーンの温調により、希望温度プロファイルの作成が可能！
「金属治具の加熱」における納入事例をご紹介いたします。 車載用電子部品を載せる治具の加熱。遠赤加熱にて治具の表面温度を 120℃キープし、固形ワックスを塗布しワークを乗せて次工程に繋げます。 量産時には、コンベア炉へと展開します。ワークは金属の治具(特殊鋼)です。 【推奨マシン】 ■品名：標準型卓上加熱炉 ■型式：STH－14Q ■使用熱源：クイックウルトラサーモQUT60＋下部遠赤棒状ヒーター使用 ■特長 ・クイックレスポンスの遠赤ヒーター採用予熱時間を短縮可能 ・PID制御、4ゾーンの温調により、希望温度プロファイルの作成が可能 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
鉄鋼、アルミで培った、熱処理技術を各分野に！独自の制御にて高精度な加熱を実現
宮本工業所が取り扱う『銅/各熱処理用設備』をご紹介します。 新型の銅ビレット加熱炉は衝撃加熱式を採用し、短時間昇温と 省エネを両立、同時に炉体のコンパクト化を実現しました。 独自のハイスリットバーナーを採用し、独自の制御にて高精度な 加熱を実現。鉄鋼、アルミにて培った、熱処理技術を銅設備に応用、 様々な温度域の設備に対応しています。 【ラインアップ（抜粋）】 ■加熱炉 ・メッシュベルト式熱処理装置 ・RH型黄銅棒軟化装置 ・黄銅の対流加熱（衝撃加熱） ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
2026年 最新【予算申請カタログ】現場の声をもとに、より選びやすく、比較しやすい構成へ刷新。
米倉製作所の最新・予算申請カタログが完成しました。 現場の声をもとに、より選びやすく、比較しやすい構成へ刷新。 新規の加熱装置・実験機器の検討から申請書作成まで、 必要な情報を“最短距離”で確認できます。 ■ご導入例 ・コンパクトサイズのIRイメージ炉で実験効率を向上 ・小型高温加熱装置でリアルタイム観察 ・集光加熱方式で急速昇温・急速冷却での挙動を確認 ⇒特注システム製品も承ります！ 今年度の予算計画に向けて、ぜひ最新カタログをご活用ください。
ウエハの直接加熱などステンレスの高剛性、耐摩耗性を生かした使用が可能！
『SHBU-K』は、優れた温度分布を有する高温均熱ヒーターユニットです。 ステンレスではあきらめていた均一な温度分布を当社独自の技術により 可能としました。 さらに、従来のアルミでは対応が難しい500℃までの仕様が可能。 アルミと違い熱膨張率が小さい為、加熱時の変形量が小さく プレス等の熱源に好適です。 【特長】 ■優れた温度分布 ■高温域で性能を発揮 ■500℃までの仕様が可能 ■低熱膨張 ■加熱時の変形量が小さくプレス等の熱源に好適 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
Wetter直結の加湿制御＋真空置換で、露点・酸素分圧・ガス種を精密制御
当社では、露点×酸素分圧を自在に設計できる「マルチ雰囲気炉」を 取り扱っております。 加湿がブレやすい/切替が遅く再現性が出ない、結露・逆流・汚染・腐食が 怖くて踏み出せない、チューブ炉では並列自由度が低く条件出しに時間がかかる などといった課題を解決。 また、仕様につきましては、お客様の要望によりカスタム可能ですので、 詳細はご相談ください。 【当社カーボン炉が効く理由】 ■ガス種に依存しない加湿系：N2/Ar/空気/(少量H2も可)へWetter直結で 加湿量を設定 ■真空置換→ガス置換：試料内部空気を事前除去し、立ち上がりから狙いの 湿潤雰囲気へ ■切替えの速さ：乾燥・湿潤、N2/Ar・空気(少量H2)を簡便に切り替え可能 ■棚積み×角型サヤ：同条件多検体で並列試験を短サイクル化 ※さらに詳しい情報については資料をダウンロードいただくか、お気軽にお問い合わせください。
赤外線集光加熱により秒速・高温・均一加熱が可能です。お客様のニーズに合わせて製作致します。
「IR-FP Series」は、Max1100℃まで加熱可能な平板型の赤外線加熱炉です。 各ゾーンごとの出力調整が可能なため、色々な温度環境での加熱が可能です。 クリーンな加熱で真空対応やガスフロー、観察も可能です。シリコンウエハ、化合物半導体及び薄版鋼板加工の加熱に最適です。 樹脂やフィルム、接着剤の耐熱・変形・観察の用途に使用できます。 試料サイズにより炉サイズの対応が可能です。 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。
化学材料用加熱炉 ロータリキルン
気密度が高く、精度の高い安定した雰囲気制御が可能な化学材料用加熱炉 【特徴】 ○独自の温度測定機能で原料の実体温度の測定を可能にし 正確な温度コントロールを実現 ○高温でクリーンな雰囲気ガスの持続が可能 金属ドラム表面の特殊処理により、高温での酸化・摩耗を抑制 クリーンな雰囲気ガスを持続し、コンタミを防止 ○各種雰囲気ガスに対応 独自の特殊高シール機構により、炉内の気密性を保ち 雰囲気ガス中における焼成に対応 ○環境に優しい 炉内を流れる空気量及びダスト発生が少ないため、排気処理が容易 環境に対する負担を軽減 ●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。
二珪化モリブデンヒータを採用！常用1800℃まで昇温可能な縦型抵抗加熱炉
『T11-18VR』は、アルミナチューブ内を不活性ガス又は酸化大気雰囲気で、 高温に加熱し、試料を合成するための抵抗加熱装置です。 縦型抵抗加熱方式を採用する事で、チューブ内への大気巻込みを極力低減し、 装置占有面積も小さくする事が可能となりました。 また、二珪化モリブデンヒータを採用しており、常用1800℃（最大1830℃）まで 昇温可能です。 【特長】 ■縦型抵抗加熱方式を採用する事で、装置占有面積も小さくする事が可能 ■二珪化モリブデンヒータを採用しており、常用1800℃（最大1830℃）まで昇温可能 ■坩堝昇降軸の動作を精動作から粗動作までシームレスな動作が可能 ■坩堝昇降機構を装備しているため、より安全かつ容易に坩堝の脱着が行える ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
グローブボックス内作業を最小に◎固体電解質材料スクリーニング/温度特性別インピーダンス評価◎複数均一・短時間・正確に試験評価
固体電解質の材料スクリーニング、温度特性に応じたインピーダンス評価等に力を発揮します！ ▼特徴▼ 1.無機電解質の加熱・焼結プロセスを短時間で様々な加熱パターン再現 ・50℃~1200℃の温度範囲の中で±1℃の精度で温度調整可能 ・昇温スピードもMAX300℃/minなので、RTからでも、短時間で様々な加熱パターンを試せる 2.リチウムイオン導電率(伝導度)評価のためのインピーダンス測定を複数個同時評価で効率的に ・コインセルの上下に、電極を取り付けた状態で加熱できる構造 ・コインセルホルダは4スロット用意 ・4サンプル同時に同条件で均一に加熱/測定 ・コインセル径はΦ20~Φ8mm各種ご用意 3.簡便な操作かつ、大気非暴露設計/雰囲気制御 ・グローブボックス内での作業はサンプルセットだけ ・石英管の中は、石英製のコインセルホルダが保持され、コインセルだけが正確に加熱される構造 ・完全密閉された透明石英管の中を、光加熱で外から加熱 ・ガス導入系統も加熱中の雰囲気コントロールも容易に 詳細はお問い合わせください
コンベア式遠赤外線加熱炉
ワークを加熱硬化処理するためのものであり、コンベア式遠赤外線加熱炉及びその制御盤より構成される。 標準機仕様 ■装置本体 ：W1300mm×L４０００ｍｍ×H２２００ｍｍ ■加熱炉本体：W1300mm×L３０００ｍｍ×H１０４０ｍｍ ■最高使用温度：赤外線ヒーター MAX450℃ 熱風循環 MAX350℃ ※お客様の仕様、寸法等変更可能です。 お客様の仕様に合わせた装置にカスタマイズ可能
高機能マイクロ波コントローラ付きマイクロ波オーブン
『MOH-1500HP』は、専用のコントローラを搭載した高機能なマイクロ波 オーブンです。 各種温度センサとの組み合わせが可能で、加熱炉内のワークを目的の温度まで、 任意の昇温カーブで加熱することができます。 また、昇温カーブや投入パワーなどの遷移を記憶してグラフ表示するので、 実験や研究に最適です。 実際に投入されているマイクロ波電力をモニタリングして制御するので、 安定した温度コントロールが可能です。 【特長】 ■温度コントロール ■加熱条件の設定 ■加熱データのロギング ■パワーモニタフィードバック ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
技術のご紹介や、ファイバーキャスト注入方法の施工風景の写真などを掲載！
熱産ヒート株式会社は、加熱装置、工業炉、熱処理のエキスパート企業として、 工業炉の改造、補修による省エネ化、効率化、更新、電化等の提案を させていただきます。 当資料では、「弊社技術」のご紹介をはじめ、「ファイバーキャスト注入方法」の 説明や施工風景の写真などを掲載しております。 【掲載内容】 ■弊社技術 ■ソリューション事例 ■ファイバーキャスト注入方法 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
小型・低価格で汎用性が高い！上下ヒーター式で優れた作業効率を発揮
当社では、様々な加熱、硬化、乾燥に対応する低価格の 「卓上汎用加熱炉」を取り扱っております。 テスト機として新製品の開発・設計用途にもご利用可能。 即熱式 遠赤外線ヒーター QUTヒーター採用で、素早い昇温を 実現します。 ご用命の際は、当社までお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■ネットコンベア式採用でインライン化可能 ■即熱式 遠赤外線ヒーター QUTヒーター採用で、素早い昇温を実現 ■上下ヒーター式で優れた作業効率を発揮(下部ヒーターはオプション) ※下火オプションで設定した場合温度制御が4回路 ※その他機能や詳細については、お問い合わせください。
ガイドワイヤーの熱処理に好適！炉体の小型化により、省スペース・省エネが実現可能
『MOH-100V 140W』は、ガイドワイヤー等の線材を対象とした小型加熱炉です。 赤外線輻射及び高温雰囲気の対流加熱により急速加熱が可能。 素早いヒーターレスポンスにより設備の暖機時間の短縮ができます。 また、線材など細い対象物に対して大型炉を使用せず設備の小型化、 省エネに貢献いたします。 【特長】 ■加熱可能ワーク：φ10mm以下 ■加熱温度：常温～400℃程度 ■炉体の小型化により、省スペース・省エネが実現 ■ヒーターを連結するだけでワークの搬送速度に対応 ■電源コントローラ：HYK-210Lと組み合わせ、±2℃の温度制御可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
精密な温度分布を出すことが可能です
アルミは軽くて強くて錆びにくい金属で、電気や熱を伝えやすいなど優れた特性がありますが、熱処理をすることによりその特性を強化することができます。設計時に熱計算のシミュレーションや電気容量の計算を行うことで炉内の温度を正確に制御することができ、ご希望通りの処理物の出来ばえや特性を得ることができます。 【特長】 ● AMS規格（米国航空宇宙用熱処理規格）に対応可能です。 ● 精密な温度分布を出すことが可能です。 ● バッチ連続式の炉の取扱いがあります。 【おもなアルミ熱処理炉】 ■ ポット型アルミ溶体化時効炉（T5、T6） ■ ローラーハース式アルミ時効炉（T5） ■ トレー式アルミ溶体化時効炉（T5、T6） ■ トレープルプッシャー式アルミ溶体化時効炉（T5、T6） ■ トレー式アルミ砂焼炉 省エネ化、自動化、環境配慮、安全性など新しい課題やご相談がありましたら、お気軽にお声がけください。
塩素炉/カーボン炉/メタル炉/マルチ雰囲気炉/管状炉の“できる雰囲気・到達温度・向いている用途"を超かんたん解説
当社で取り扱う、5つの炉の雰囲気対応・温度めやす・代表用途について ご紹介いたします。 Cl2/HClなどハロゲンに対応した「塩素炉」をはじめ、極低酸素×高温の 「カーボン炉」、クリーン＆俊敏な「メタル炉」、湿潤も含む幅広さがある 「マルチ雰囲気炉」、まず“当たり"を見る小スケールの「管状炉」を ラインアップ。 当社では、テスト機もご用意いたしております。 また、小型機以外にも量産スケールの炉も製作実績があります。 【特長】 ■塩素炉 ・対応雰囲気：Cl2/HCl/不活性(N2・Ar) ・温度：〜1800℃級(機種・材質による) ・主な用途：塩素化/塩化揮発/ハロゲン化精製/表面改質 ■メタル炉 ・対応雰囲気：真空/空気/N2・Ar/少量H2 ・温度めやす：〜1800℃前後(機種による) ・主な用途：焼結・拡散接合/酸化・還元アニール/金属・セラミックスの結晶化 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。
集光加熱方式で約50℃/secの急速昇温、加熱ランプOFFで急冷も可能。各種雰囲気への対応
世界中の様々な研究機関で使用されている、米倉製作所の集光式加熱炉「IR Series（アイアールシリーズ）」は、近赤外線集光加熱を利用したIRイメージ炉です。 クリーンな環境構造で、超高速加熱冷却が行えます。 製品ラインナップとしては、6方向からの急速加熱冷却で従来の加熱炉に比べ、温度分布領域を飛躍的に拡大した「IR-HP（6放物面輻射）」、4方向からの急速加熱冷却で従来の加熱炉に比べ2倍の温度分布領域と急加熱「IR-QP（4楕円共有集光）」、2方向からの急速加熱冷却で従来の加熱炉に比べ顕微鏡観察を可能にした「IR-TP（2楕円共有）」を取り揃えております。 【主な特徴】 ○クリーン・省エネ・高性能 ○真空・ガス置換＋観察 ○低電力で高速加熱（わずか4kwで1500℃/30sec） ○ヒータはタングステンフィラメントで、発熱温度は3400Kと高温 ○ワット密度はニクロムヒータに比べ、10～20倍 ○リアルタイムで温度制御が可能 ○コンパクトサイズ 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。
温度・塩素分圧・圧力を制御し、Au・Cu・Sn・Fe・Niなどを塩化揮発で選択分離
都市鉱山には、Au、Cu、Sn、Fe、Niなどの有価金属やベースメタルが複雑に混在しています。 これらを湿式処理で分離・回収する場合、薬液使用、廃液処理、前処理工程、乾燥工程などが課題となる場合があります。 当社の小型塩素炉は、Cl2/HClを用いた乾式塩素化により、金属成分を揮発性塩化物へ変換し、温度・塩素分圧・圧力を制御しながら選択的に分離・回収する条件を検討できます。 例えば、低温域ではFeCl3、SnCl4など揮発しやすい塩化物を先行除去し、中温域ではAuCl3などの蒸気圧差を利用した貴金属分離を検討できます。 【特長】 ■ Cl2/HClによる乾式塩素化・塩化揮発に対応 ■ Au、Cu、Sn、Fe、Niなど複数金属の選択分離を検討可能 ■ 温度・塩素分圧・圧力を制御した段階処理に対応 ■ 湿式処理に伴う廃液・乾燥工程を低減 ■ 少量サンプルで都市鉱山リサイクル条件を探索可能 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。
露点・酸素濃度を管理し、金属表面の酸化防止・改質・前処理に対応
金属部品や粉末材料の表面処理では、温度だけでなく、雰囲気ガス、露点、酸素濃度、処理時間が表面状態や品質に大きく影響します。 特に、酸化防止、表面改質、コーティング前処理、親水化・疎水化処理などでは、乾燥雰囲気・湿潤雰囲気・還元雰囲気を切り替えながら、再現性よく条件を検討することが重要です。 当社のマルチ雰囲気炉は、真空置換により炉内空気を排出した後、N2、Ar、Air、H2、NH3などの雰囲気ガスを切り替えて処理できます。また、Wetterを接続することで、湿潤雰囲気や露点を管理した表面処理条件の検討が可能です。 【特長】 ■ 真空置換後に各種ガス雰囲気へ切替可能 ■ Wetter接続により湿潤雰囲気・露点制御に対応 ■ 乾燥→湿潤→乾燥など雰囲気履歴を管理可能 ■ 金属表面の酸化防止、表面改質、前処理に適用 ■ 露点計・O2計を組み合わせた条件管理も検討可能 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。
酸化物・窒化物材料の脱ガス・脱水・脱炭を、極真空〜還元雰囲気で制御
当社で取り扱う「メタル炉」は、極真空雰囲気での高純度熱処理に対応した電気炉です。 炉内のホットゾーンをメタル材で構成することで、黒鉛材・断熱材・有機物由来のアウトガスやカーボンコンタミを抑制し、 酸素・炭素・水分の影響を低減したクリーンな熱処理環境を形成します。 メタル炉では、金属ヒーター・金属チャンバー構造により、極真空からAr/N₂/H₂などの雰囲気制御まで対応し、 高純度粉末やセラミック部材の脱ガス、脱水、脱炭、還元処理に適用できます。 【特長】 ■ 極真空雰囲気に対応 ・10^-3〜10^-5 Paの真空到達に対応 ■ メタルホットゾーン構成 ・金属ヒーター、金属チャンバー構造により、炉材の混入を抑制 ■ 高精度な温度・雰囲気制御 ・真空、Ar、N₂、H₂など、目的に応じた雰囲気制御に対応 ■ 小型から大型へのスケールアップに対応 ・小型機で条件確認後、大型炉への展開も検討可能 また、設備導入前の条件確認として、実サンプルを用いた焼成テストにも対応可能です。 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。
真空置換→N2/Ar/H2/NH3/加湿まで、雰囲気を切替えて反応条件を再現
当社では、酸化・還元・窒化・加湿など、複数雰囲気での材料評価に対応した「マルチ雰囲気炉」を取り扱っております。 真空置換後にN2/Ar/H2/NH3/Air/加湿ガスなどを切替え、雰囲気×温度の二軸で反応条件を精密に設計できます。 炉内には真空システムを内蔵し、処理後の真空置換や所定ガス置換が可能です。雰囲気履歴を管理することで、炉内残留ガスリスクを低減します。 【特長】 ■ 真空置換後、各種ガス雰囲気へ切替可能 ■ H2/NH3/加湿ガスなど反応性ガスに対応 ■ 温度と雰囲気をプログラム制御 ■ 排気・除害・安全機器との連携も検討可能 ■ 研究開発からスケールアップ条件検討まで対応 ■設備導入前の焼成テストも可能 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。
真空・Air・NH3などの雰囲気制御で、環境浄化材料の焼成と排ガス評価をサポート
環境浄化材料や触媒材料の開発では、焼成時の雰囲気、温度、排ガス成分が材料性能に影響する場合があります。 特に、有機成分を含む材料の焼成、触媒の活性化、NH3・COなどの発生ガスを伴う処理では、炉内雰囲気の制御と排ガス処理設備の検討が重要です。 弊社のマルチ雰囲気炉は、真空・Air・N2・Ar・NH3など複数の雰囲気に対応し、材料の焼成条件や排ガス発生条件に応じてカスタム設計が可能です。 環境浄化材料、触媒材料、吸着材、セラミックス材料などの焼成・熱処理において、炉本体からガス供給、排気、除害設備まで一貫して検討できます。 ■ 環境浄化材料や触媒材料の焼成条件を検討したい ■ NH3・COなどの発生ガスを想定した排気設備を検討したい ■ 真空・Air・N2・Ar・NH3など複数雰囲気で処理したい ■ 既製炉ではガス種、炉内寸法、排ガス処理条件が合わない ■ 研究開発から試作、量産前評価まで相談したい ※資料では、マルチ雰囲気炉の基本構成、対応雰囲気、温度仕様、ガス供給・排気設備、排ガス処理を含めた検討ポイントを掲載しています。
露点・酸素濃度を管理し、セラミックス焼結・緻密化条件を再現性よく評価
セラミックスの焼結・緻密化では、温度だけでなく、雰囲気ガス、露点、酸素濃度、昇温条件が、密度・気孔率・粒成長・表面状態に影響します。 特に、湿潤雰囲気での焼成、酸化・還元雰囲気の切替、乾燥→湿潤→乾燥などの雰囲気履歴を管理したい場合、通常の電気炉や管状炉では条件再現が難しくなることがあります。 当社のマルチ雰囲気炉は、真空置換により炉内空気を排出した後、N2、Ar、Air、H2、NH3などの雰囲気ガスを切り替えて処理できます。また、Wetterを接続することで、湿潤雰囲気や露点を管理したセラミックス焼成条件の検討が可能です。 【特長】 ■ 真空置換後に各種ガス雰囲気へ切替可能 ■ Wetter接続により湿潤雰囲気・露点制御に対応 ■ 乾燥→湿潤→乾燥など雰囲気履歴を管理可能 ■ セラミックスの焼結・緻密化・高密度化条件を検討可能 ■ 露点計・O2計を組み合わせた条件管理も検討可能 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。
真空・還元雰囲気で、材料開発や高温熱処理をサポート
研究開発や試作評価では、材料ごとに温度・雰囲気・処理時間を細かく検討できる高温炉が必要です。 特に、セラミックスと金属の接合、ろう付け、アニール、焼成、還元雰囲気処理では、炉内の清浄性や雰囲気制御が品質に影響します。 弊社のメタル炉は、Mo・Wなどの金属ヒーターを用いた高温雰囲気炉で、真空・N2・Ar・H2などの雰囲気に対応可能です。 大学・研究機関・企業研究所での材料評価、試作、量産前検討まで、処理物の材質・サイズ・温度・雰囲気に応じてカスタム設計します。 ■ 研究開発用の高温炉を探している ■ セラミックスと金属の接合・封着を検討したい ■ ろう付け、アニール、焼成条件を評価したい ■ 真空・N2・Ar・H2雰囲気で処理したい ■ 既製炉では温度、炉内寸法、雰囲気条件が合わない
温度・流量・圧力・排気を同期記録し、触媒活性化条件を見える化
当社では、触媒活性化や反応挙動評価に適した「管状炉」を取り扱っております。 触媒処理では、温度、圧力、ガス流量、雰囲気切替のわずかな違いが活性や再現性に影響します。 汎用管状炉では焼成前後の分析に留まり、反応開始・終了やガス発生挙動を把握しにくい場合があります。 本設備では、MFC、圧力計、物温熱電対、サンプリングラインなどを用途に応じて組み込み、温度・流量・圧力・排気データを同期ロギングできます。 【特長】 ■ 温度・流量・圧力・排気データを同時記録 ■ 反応開始、終了、ガス発生のタイミングを把握 ■ MFC、圧力計、物温熱電対を用途に応じて実装 ■ サンプリングポート、排気分析ラインを設計可能 ■ 触媒活性化条件の比較・再現性確認に好適 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。
小スケールでは見えにくい排ガスリスクを、炉・排気・除害設計でスケールアップ対応
当社では、NH3・CO・NOxなどの有害ガス発生を伴う焼成に対応した「マルチ雰囲気炉」を取り扱っております。 有機物を含む原料、樹脂系材料、触媒担体、電池材料などの焼成では、昇温・保持中にNH3、CO、NOx、HCN、炭化水素系ガスなどが発生する場合があります。 小型管状炉や小スケール試験では問題にならなかった発生ガスも、トレイ段数や処理量が増えることで、排気濃度・発生量・腐食性・安全対策が大きな課題になることがあります。 当社のマルチ雰囲気炉は、真空置換、雰囲気制御、加熱、排気、除害設備との連携まで含めて、焼成プロセス全体を設計できます。 【特長】 ■ NH3・CO・NOxなどの発生ガスを想定した炉設計 ■ 真空置換により処理前後の炉内ガス置換が可能 ■ N2、Ar、Air、NH3など各種雰囲気に対応 ■ スクラバー、触媒酸化、熱酸化など除害方式を検討可能 ■ トレイ段数・処理量増加を見据えたスケールアップ検討に対応 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。
