更新日： 集計期間:2025年09月17日～2025年10月14日
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金属の熱処理に！低温からの精密な昇温が可能
株式会社成田製作所で行った「電気加熱炉」の 製作事例についてご紹介いたします。 熱源は電気、処理温度は900℃。各種金属などの熱処理に 適しており、低温からの精密な昇温が可能。 当社では、工業用ガスバーナーや各種熱処理炉、乾燥炉、 それらに付随する加工用設備や投入搬送装置、各種省力化 装置などを、ご要望に応じた特注品の設計製造を中心に 事業を営んでいます。 【事例概要】 ■熱源：電気 ■処理温度：900℃ ■用途：金属の熱処理 ■特長：低温からの精密な昇温可能 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
PID制御、4ゾーンの温調により、希望温度プロファイルの作成が可能！
「金属治具の加熱」における納入事例をご紹介いたします。 車載用電子部品を載せる治具の加熱。遠赤加熱にて治具の表面温度を 120℃キープし、固形ワックスを塗布しワークを乗せて次工程に繋げます。 量産時には、コンベア炉へと展開します。ワークは金属の治具(特殊鋼)です。 【推奨マシン】 ■品名：標準型卓上加熱炉 ■型式：STH－14Q ■使用熱源：クイックウルトラサーモQUT60＋下部遠赤棒状ヒーター使用 ■特長 ・クイックレスポンスの遠赤ヒーター採用予熱時間を短縮可能 ・PID制御、4ゾーンの温調により、希望温度プロファイルの作成が可能 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
精密な温度分布を出すことが可能です
アルミは軽くて強くて錆びにくい金属で、電気や熱を伝えやすいなど優れた特性がありますが、熱処理をすることによりその特性を強化することができます。設計時に熱計算のシミュレーションや電気容量の計算を行うことで炉内の温度を正確に制御することができ、ご希望通りの処理物の出来ばえや特性を得ることができます。 【特長】 ● AMS規格（米国航空宇宙用熱処理規格）に対応可能です。 ● 精密な温度分布を出すことが可能です。 ● バッチ連続式の炉の取扱いがあります。 【おもなアルミ熱処理炉】 ■ ポット型アルミ溶体化時効炉（T5、T6） ■ ローラーハース式アルミ時効炉（T5） ■ トレー式アルミ溶体化時効炉（T5、T6） ■ トレープルプッシャー式アルミ溶体化時効炉（T5、T6） ■ トレー式アルミ砂焼炉 省エネ化、自動化、環境配慮、安全性など新しい課題やご相談がありましたら、お気軽にお声がけください。
消費エネルギー50%削減のクリーン加熱炉
当社の従来型加熱炉と比較して、消費エネルギー50%削減をコンセプトとして開発されたクリーン加熱炉です。 性能は落とさずに、N2使用量と使用電力を大幅に削減し、ランニングコスト4割減を達成しました。
誘導加熱炉を導入する事で、省エネルギー、生産性や製品品質の向上、作業環境の改善を実現した事例をご紹介します。
高圧ボンベの製造は、金属の加熱や熱処理を必要とするので、エネルギーを大量に使用します。 当資料では、本製造工程に誘導加熱炉を導入する事で、大幅な省エネルギーを実現するとともに、生産性や製品品質の向上、作業環境の改善を実現した事例をご紹介します。 また、誘導加熱炉の導入前後のエネルギー使用量等の計測評価を行い、誘導加熱炉の導入効果を定量的に明らかにした結果なども掲載しています。 ※本記事は、（一社）日本エレクトロヒートセンター機関誌「エレクトロヒートNo.206号（2016年3月発行）」に掲載されたものです。 【掲載内容】 ■誘導加熱炉の導入 ■誘導加熱炉の計測評価結果 ■誘導加熱技術と活用事例 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
加熱炉なのに炉体がいらない？熱処理技術を実現するための炉体なしの加熱炉について丁寧に解説した技術資料！
工業界では多くの熱処理が行われており、その多くは直接加熱である抵抗加熱や 誘導加熱、または間接加熱である対流加熱という手法が用いられています。 この対流という加熱原理には通常炉体が必要になります。 しかし、炉体を必要としない加熱方法もあることをご存知でしょうか。 本資料は、加熱原理の比較の説明から、炉体のない加熱炉とは、また それをどのように使えるのかの例を挙げ、丁寧に解説しています。 【掲載内容（一部抜粋）】 ■加熱原理の比較 ■炉体のない加熱炉の応用方法 ■炉体のない加熱炉の応用方法 ■輻射加熱の可能性 など ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
タッチパネル操作方式を採用！各種研究開発・試作向けの遠赤外線加熱装置です
『MIGHTY STAR F1200』は、専用に開発されたタッチパネル ソフトウェアにより、作業効率及び管理に優れた環境を実現する 簡易型の遠赤外線加熱炉です。 セラミック溶射された遠赤外線シースヒーターにより、 樹脂フィルムなどの高分子化合物を効率的に加熱。 また、ワークの幅方向の制御にサイドヒーターを配置し 左右ムラを最小限に抑制します。 【特長】 ■ヒーター ・ご希望により近赤外線ヒーター等の組み込みも可能 ■コンベア（チェーン）搬送 ・タッチパネル上で数値制御 ・短い炉長においても加熱時間を常に正確に把握することが可能 ■タッチパネル操作 ・操作項目及び制御項目の変更、追加にもソフトウェア上で柔軟に対応 など ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
