更新日： 集計期間:2026年04月08日～2026年05月05日
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金属の熱処理に！低温からの精密な昇温が可能
株式会社成田製作所で行った「電気加熱炉」の 製作事例についてご紹介いたします。 熱源は電気、処理温度は900℃。各種金属などの熱処理に 適しており、低温からの精密な昇温が可能。 当社では、工業用ガスバーナーや各種熱処理炉、乾燥炉、 それらに付随する加工用設備や投入搬送装置、各種省力化 装置などを、ご要望に応じた特注品の設計製造を中心に 事業を営んでいます。 【事例概要】 ■熱源：電気 ■処理温度：900℃ ■用途：金属の熱処理 ■特長：低温からの精密な昇温可能 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
PID制御、4ゾーンの温調により、希望温度プロファイルの作成が可能！
「金属治具の加熱」における納入事例をご紹介いたします。 車載用電子部品を載せる治具の加熱。遠赤加熱にて治具の表面温度を 120℃キープし、固形ワックスを塗布しワークを乗せて次工程に繋げます。 量産時には、コンベア炉へと展開します。ワークは金属の治具(特殊鋼)です。 【推奨マシン】 ■品名：標準型卓上加熱炉 ■型式：STH－14Q ■使用熱源：クイックウルトラサーモQUT60＋下部遠赤棒状ヒーター使用 ■特長 ・クイックレスポンスの遠赤ヒーター採用予熱時間を短縮可能 ・PID制御、4ゾーンの温調により、希望温度プロファイルの作成が可能 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
化学材料用加熱炉 ロータリキルン
気密度が高く、精度の高い安定した雰囲気制御が可能な化学材料用加熱炉 【特徴】 ○独自の温度測定機能で原料の実体温度の測定を可能にし 正確な温度コントロールを実現 ○高温でクリーンな雰囲気ガスの持続が可能 金属ドラム表面の特殊処理により、高温での酸化・摩耗を抑制 クリーンな雰囲気ガスを持続し、コンタミを防止 ○各種雰囲気ガスに対応 独自の特殊高シール機構により、炉内の気密性を保ち 雰囲気ガス中における焼成に対応 ○環境に優しい 炉内を流れる空気量及びダスト発生が少ないため、排気処理が容易 環境に対する負担を軽減 ●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。
精密な温度分布を出すことが可能です
アルミは軽くて強くて錆びにくい金属で、電気や熱を伝えやすいなど優れた特性がありますが、熱処理をすることによりその特性を強化することができます。設計時に熱計算のシミュレーションや電気容量の計算を行うことで炉内の温度を正確に制御することができ、ご希望通りの処理物の出来ばえや特性を得ることができます。 【特長】 ● AMS規格（米国航空宇宙用熱処理規格）に対応可能です。 ● 精密な温度分布を出すことが可能です。 ● バッチ連続式の炉の取扱いがあります。 【おもなアルミ熱処理炉】 ■ ポット型アルミ溶体化時効炉（T5、T6） ■ ローラーハース式アルミ時効炉（T5） ■ トレー式アルミ溶体化時効炉（T5、T6） ■ トレープルプッシャー式アルミ溶体化時効炉（T5、T6） ■ トレー式アルミ砂焼炉 省エネ化、自動化、環境配慮、安全性など新しい課題やご相談がありましたら、お気軽にお声がけください。
消費エネルギー50%削減のクリーン加熱炉
当社の従来型加熱炉と比較して、消費エネルギー50%削減をコンセプトとして開発されたクリーン加熱炉です。 性能は落とさずに、N2使用量と使用電力を大幅に削減し、ランニングコスト4割減を達成しました。
誘導加熱炉を導入する事で、省エネルギー、生産性や製品品質の向上、作業環境の改善を実現した事例をご紹介します。
高圧ボンベの製造は、金属の加熱や熱処理を必要とするので、エネルギーを大量に使用します。 当資料では、本製造工程に誘導加熱炉を導入する事で、大幅な省エネルギーを実現するとともに、生産性や製品品質の向上、作業環境の改善を実現した事例をご紹介します。 また、誘導加熱炉の導入前後のエネルギー使用量等の計測評価を行い、誘導加熱炉の導入効果を定量的に明らかにした結果なども掲載しています。 ※本記事は、（一社）日本エレクトロヒートセンター機関誌「エレクトロヒートNo.206号（2016年3月発行）」に掲載されたものです。 【掲載内容】 ■誘導加熱炉の導入 ■誘導加熱炉の計測評価結果 ■誘導加熱技術と活用事例 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
加熱炉なのに炉体がいらない？熱処理技術を実現するための炉体なしの加熱炉について丁寧に解説した技術資料！
工業界では多くの熱処理が行われており、その多くは直接加熱である抵抗加熱や 誘導加熱、または間接加熱である対流加熱という手法が用いられています。 この対流という加熱原理には通常炉体が必要になります。 しかし、炉体を必要としない加熱方法もあることをご存知でしょうか。 本資料は、加熱原理の比較の説明から、炉体のない加熱炉とは、また それをどのように使えるのかの例を挙げ、丁寧に解説しています。 【掲載内容（一部抜粋）】 ■加熱原理の比較 ■炉体のない加熱炉の応用方法 ■炉体のない加熱炉の応用方法 ■輻射加熱の可能性 など ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
ガイドワイヤーの熱処理に好適！炉体の小型化により、省スペース・省エネが実現可能
『MOH-100V 140W』は、ガイドワイヤー等の線材を対象とした小型加熱炉です。 赤外線輻射及び高温雰囲気の対流加熱により急速加熱が可能。 素早いヒーターレスポンスにより設備の暖機時間の短縮ができます。 また、線材など細い対象物に対して大型炉を使用せず設備の小型化、 省エネに貢献いたします。 【特長】 ■加熱可能ワーク：φ10mm以下 ■加熱温度：常温～400℃程度 ■炉体の小型化により、省スペース・省エネが実現 ■ヒーターを連結するだけでワークの搬送速度に対応 ■電源コントローラ：HYK-210Lと組み合わせ、±2℃の温度制御可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
タッチパネル操作方式を採用！各種研究開発・試作向けの遠赤外線加熱装置です
『MIGHTY STAR F1200』は、専用に開発されたタッチパネル ソフトウェアにより、作業効率及び管理に優れた環境を実現する 簡易型の遠赤外線加熱炉です。 セラミック溶射された遠赤外線シースヒーターにより、 樹脂フィルムなどの高分子化合物を効率的に加熱。 また、ワークの幅方向の制御にサイドヒーターを配置し 左右ムラを最小限に抑制します。 【特長】 ■ヒーター ・ご希望により近赤外線ヒーター等の組み込みも可能 ■コンベア（チェーン）搬送 ・タッチパネル上で数値制御 ・短い炉長においても加熱時間を常に正確に把握することが可能 ■タッチパネル操作 ・操作項目及び制御項目の変更、追加にもソフトウェア上で柔軟に対応 など ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
塩素炉/カーボン炉/メタル炉/マルチ雰囲気炉/管状炉の“できる雰囲気・到達温度・向いている用途"を超かんたん解説
当社で取り扱う、5つの炉の雰囲気対応・温度めやす・代表用途について ご紹介いたします。 Cl2/HClなどハロゲンに対応した「塩素炉」をはじめ、極低酸素×高温の 「カーボン炉」、クリーン＆俊敏な「メタル炉」、湿潤も含む幅広さがある 「マルチ雰囲気炉」、まず“当たり"を見る小スケールの「管状炉」を ラインアップ。 当社では、テスト機もご用意いたしております。 また、小型機以外にも量産スケールの炉も製作実績があります。 【特長】 ■塩素炉 ・対応雰囲気：Cl2/HCl/不活性(N2・Ar) ・温度：〜1800℃級(機種・材質による) ・主な用途：塩素化/塩化揮発/ハロゲン化精製/表面改質 ■メタル炉 ・対応雰囲気：真空/空気/N2・Ar/少量H2 ・温度めやす：〜1800℃前後(機種による) ・主な用途：焼結・拡散接合/酸化・還元アニール/金属・セラミックスの結晶化 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。
「温度×圧力×塩素化反応」の精密制御で、複数金属を含む系から特定金属を選択的に揮発・回収する新たなアプローチを理論検討中
当社で取り扱う「塩素炉」は、減圧下で温度と塩素分圧を独立制御できる構造を 有しています。 都市鉱山には、Au、Cu、Sn、Fe、Niといった金属が複雑に共存しており、これらを 乾式塩化揮発法により分離できれば、廃液処理の負担を抑えつつ、有価金属のみを 効率的に回収する新しいリサイクル手法が実現可能。 また、温度・圧力・塩素分圧を精密に制御できる本装置の特性から、将来的に 「都市鉱山からの有価金属選択回収」に発展し得ると考えています。 【特長】 ■低温でのベースメタル揮発：FeCl3、SnCl4などを200〜300℃付近で選択揮発 ■中温での貴金属塩生成制御：AuCl3などの安定領域を利用した貴金属分離 ■圧力制御による反応シーケンス切替：減圧条件下で塩化物の生成・分解平衡を制御 ※さらに詳しい情報については資料をダウンロードいただくか、お気軽にお問い合わせください。
セラミックスと金属の気密封着を、高純度雰囲気で実現。
研究機関における実験では、高品質な試料作製が求められます。特に、セラミックスと金属の接合においては、微量な酸素や水分、炭化水素が、接合の品質や気密性に悪影響を及ぼす可能性があります。メタル炉は、高真空かつ清浄な雰囲気を提供することで、これらの課題を解決します。 【活用シーン】 ・薄膜・電極・光学部材の高純度アニール ・セラミックスと金属の接合実験 ・各種材料の熱処理実験 【導入の効果】 ・接合部の強度と気密性の向上 ・実験の再現性の向上 ・高品質な試料作製による研究成果の向上
セラミックス粉に混在するFe/Ni/Crなどを、塩化揮発で選択的に揮発する！
「小型塩素炉」は、負圧運転と酸素分圧制御で相や粒径を保ち、洗浄レスで 廃液を最小化する製品です。 Cl2/HClを用いた選択塩素化により、セラミックス粉(SiO2/Al2O3/Si3N4) 製造時に混入した金属不純物を乾式で除去。 また、塩化揮発により母相の組成・結晶相・粒度分布を保持しつつ、 短時間で不純物を低減。水洗工程を省けるため再乾燥、廃液処理コストを 抑えられます。 【特長】 ■選択塩素化×温度段階化：金属塩化物のみを優先揮発、母材相を維持 ■乾式プロセス：水洗不要で廃液・再乾燥の負担を最小化 ■物性保持設計：酸素分圧・滞留時間制御で結晶相・粒径・比表面を維持 ※さらに詳しい情報については資料をダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
塩素/塩化水素で不純物を塩化物化！蒸気圧差と段階温度で優先揮発します
「小型塩素炉」は、母材を残して乾式で分離・低汚染、洗浄レスで後処理を 簡素化する製品です。 材料中の金属不純物をCl2/HClによる選択塩素化で揮発性塩化物に変換し、 温度段階と滞留時間の制御で優先的に除去する乾式プロセス。 また、金属塩化物の蒸気圧差・生成自由エネルギー差を利用するため、 母材の組成や結晶相を損なわずに高選択で分離でき、排液がほぼ出ないため 環境負荷とコストを低減できます。 【特長】 ■選択性：塩化物の蒸気圧差を利用し、ターゲット不純物のみ優先揮発 ■段階温度プロファイル：低温→中温で順次分離、母材損傷を抑制 ■乾式・低廃棄：洗浄レスで廃液ほぼゼロ、後処理が簡便 ※さらに詳しい情報については資料をダウンロードいただくか、お気軽にお問い合わせください。
高純度雰囲気で、分析機器の信頼性を向上
分析機器業界では、測定結果の信頼性を確保するために、試料の安定性が重要です。特に、高温環境下での分析や、微量成分の測定においては、試料の変質や汚染が測定精度に大きく影響します。メタル炉は、真空10^-5Pa級の清浄な雰囲気を提供し、試料の酸化や炭素汚染を防ぎます。これにより、安定した測定結果を得ることが可能になります。 【活用シーン】 ・薄膜・電極・光学部材のアニール ・高精度分析における試料の前処理 ・気密性が必要な部品の封止 【導入の効果】 ・測定結果の再現性向上 ・分析精度の向上 ・長期的な安定性の確保
ガス種に縛られない湿潤雰囲気焼成で、狙った表面化学を短サイクルで実現
金属加工業界における表面処理では、製品の耐久性、耐食性、および機能性を向上させるために、精密な雰囲気制御が求められます。特に、高温下での反応制御や、均一な表面改質は、製品の品質を左右する重要な要素です。従来の焼成炉では、雰囲気ガスの種類や制御に制約があり、再現性や効率に課題がありました。マルチ雰囲気炉は、これらの課題を解決し、多様な表面処理ニーズに対応します。 【活用シーン】 ・金属部品の酸化防止 ・表面硬化処理 ・コーティング前処理 【導入の効果】 ・表面処理の品質向上 ・処理時間の短縮 ・多様なガス雰囲気への対応 ・再現性の高い処理の実現
真の高純度酸化物・窒化物材料へ。真空～還元雰囲気まで自在制御、脱ガス・脱炭・高純度化プロセスを一台で実現
当社で取り扱う「メタル炉」は、高精度温度制御(～1800℃)×自動排気制御で 脱ガス挙動を安定再現します。 高温処理時に試料内部から発生する吸着水・CO2・残留有機物を効率的に 除去できない、高純度プロセスを再現性良く実施できるラボスケール装置が 少ないなどの課題を解決。 小型ながら大型炉へのスケールアップ可能構造を採用しております。 【特長】 ■金属製ヒーター・金属製チャンバー構造により、カーボン源の混入を排除 ■高真空(10^-3～10^-5Pa)運転＋還元雰囲気(H₂/Ar/N₂)切替に対応 ■高精度温度制御(～1800℃)×自動排気制御で脱ガス挙動を安定再現 ■酸化物・窒化物の高純度化、残留C・O低減に最適化されたヒートプロファイル ■小型ながら大型炉へのスケールアップ可能構造を採用(Thermonik ENG製) ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。
