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SiO2、SiNxなど様々な下地膜に対しエッチング残渣無く加工可能なITOエッチング液！
『ITO-07N』 は､FPD製造プロセスにおけるアモルファスITO､IZO 等の高精細パターニングが可能な透明導電薄膜エッチング液です。 【特徴】 ■アモルファス ITO､IZO 等のパターニングに最適 ■サイドエッチングが少なく､高精細なパターンニングが可能 ■低発泡性で、破泡性に優れる ※詳細は弊社HP又は資料請求して頂くかダウンロードからPDFデータをご覧下さい
Ag単膜、APC(Ag-Pd-Cu合金)などのAg合金膜単膜、またはAg/透明導電膜の積層膜エッチングに最適なエッチング液です。
積層膜エッチング液はAgのみエッチングする分割エッチング用と、Agと透明導電膜を同時にエッチングする一括 エッチング用があります。 本製品の特長は以下のとおりです。 ・ エッチングレートが安定しています。 ・ サイドエッチが少なく、微細パターンの形成が可能です。 ・ エッチング速度とエッチング形状の面内均一性が良好です。 キーワード：ウェットエッチング、銀、APC
型番によりCuダメージの抑制が可能な低抵抗ポリITO膜エッチング液！
『混酸ITO-02』 は、FPD 製造プロセスにおける低抵抗ポリITO 電極等の高精細パターニングが可能なエッチング液です。 また、『ITO-301』は、Cuダメージを抑制し、低抵抗ポリITO電極等の構成パターニングが可能なエッチング液です。 【特徴】 ■低抵抗 ポリITO 膜のエッチング加工に使用可能 ■低温､短時間でポリ ITO 膜、アモルファスITO 膜のエッチングが可能 ■ガラス基板へのダメージがない ■型番により、Cuダメージの抑制が可能 ■希釈、調合が不要であり、そのままご使用可能 ※詳細は弊社HP又は資料請求して頂くかダウンロードからPDFデータをご覧下さい
