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Tunable RI materials for SiPh,NIL,and meta-optics (n=1.29–1.93)
Designed for low-loss waveguides, high-index contrast structures, and for photonic applications, including telecom wavelengths (1310 / 1550 nm).
UV-Curable Composites for NIL and Micro Optical Elements
❖Solvent free. low shrinkage UV-curable resins ❖High Tg and excellent heat resistance (up to 300˚C/572˚F reflow compatible) ❖Adjustable refractive index (nD = 1.5 – 1.6) ❖High optical transparency and durability ❖Spin-coatable, imprintable formulations suitable for sub-100 nm patterns 詳しくはパンフレットをご覧いただくか、問い合わせください。
Resists for UV-NIL (via RIE)
UV-NILレジストです。 スピンコート特性に優れています。 NIL特性に優れています。 高い耐エッチング性を持っています。 ❖No need for a primer treatment before coating. ❖Easily forms a thin film with superior thickness uniformity by spin coating. ❖Low volatility during vacuum defoaming on wafer. ❖Low volatility during hot-air drying on wafer. 詳細はパンフレットをご覧いただくか、問い合わせください。
