高速成膜ALD装置『FHR.STAR-400x300SALD』
In-Situのエリプソメーターや透過型分光器に対応！独FHR社製高速成膜ALD装置
『FHR.STAR-400x300SALD』は、200mmウェハあるいは 400x300mmまでの基板やテキスタイルの成膜に対応した 高速成膜ALD（Spacial ALD）装置です。 400x300の基板では10mm厚迄の3次元形状への均一な成膜が可能。 従来のサーマルALD方式に較べ高速で成膜できるためデバイスの量産に 使用が可能でIn-Situのエリプソメーターや透過型分光器に対応する 設計となっていますのでより精度の高いプロセスコントロールができます。 クラスター対応設計により必要に応じて搬送チャンバー、ロードロック、 その他プロセスチャンバーをインテグレーションができ、この設備の 他小口径ウェハ対応の設備も用意しておりますのでお問い合わせ下さい。 【特長】 ■10mm厚迄の3次元形状への均一な成膜が可能（400x300の基板） ■従来のサーマルALD方式に較べ高速で成膜できる ■デバイスの量産に使用可能 ※英語版カタログをダウンロードいただけます。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：ティー・ケイ・エス株式会社
- 価格：応相談
