洗浄と乾燥の装置 「レンズ・ガラス基板の水洗浄と乾燥システム」
洗浄後に水染み等を確実に排除し、短時間の仕上げを実行します。
ガラス基板に付着してHFE水切り乾燥装置に持ち込まれる「水」の大半は比重分離により装置外へ取り出されます。 HFE溶剤に過飽和に溶け込んだ水分は「水分除去装置」により、装置外へ確実に取り除きます。 付着した大量の“水”はHFE液面に急速に浮上します。 【特徴】 ○乾燥に必要なエネルギー消費量が大幅に削減 ○洗浄スピードが向上 ○HFE溶剤中に含まれる微量の水分を確実に取り除く 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
- 企業：大川興産株式会社
- 価格：応相談
