Last Updated： Aggregation Period:2026年02月25日～2026年03月24日
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10Pa以下の減圧処理が可能！実験ラボに好適な小型減圧乾燥装置
『VA-R400G』は、薬液塗布後の基材を減圧状態にして 乾燥を促進させる減圧乾燥装置です。 基板支持ピンは任意の位置に設置でき、段階的に真空圧力を 変化させ減圧処理する事でムラや発泡を抑制可能。 また、装置内に真空ポンプ・電装BOX・操作パネルを集約した 省スペース設計となっております。 【特長】 ■装置内に真空ポンプ・電装BOX・操作パネルを集約した省スペース設計 ■10Pa以下の減圧処理が可能 ■基板支持ピンは任意の位置に設置可能 ■段階的に真空圧力を変化させ減圧処理する事でムラや発泡を抑制可能 ■圧力波形モニタリング機能を搭載可能 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
蒸発潜熱のみをマイクロ波で供給！変質を抑制して乾燥を進行
「マイクロ波減圧乾燥機」の原理についてご紹介します。 真空ポンプを運転し、炉内を減圧する際、-93.94KPa(水の沸点は40℃) 付近の真空を保持。減圧で沸点が下がるため水分は自然に蒸発し、 その際に蒸発潜熱が奪われて乾燥物の温度は下がります。 また、乾燥物が凍結しないように、蒸発潜熱のみをマイクロ波で供給し、 無駄な品温の上昇を抑え、変質を抑制して乾燥を進行します。 【流れ】 1.乾燥物をトレイに載せ炉内に入れ扉を閉める 2.真空ポンプを運転し、炉内を減圧する 3.マイクロ波を放射して乾燥物を加熱する 4.気流を導入して水蒸気を排除する 5.乾燥終了 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
起熱ファンによる画期的な乾燥システムです。
微減圧乾燥のため、ダメージの少ないマイルドな乾燥を行います。60℃程度の低温乾燥が可能です。シンプル構造です。真空乾燥機のような耐圧容器や真空ポンプは必要ありません。
タッチパネル制御によりレシピ操作ができる減圧乾燥装置です
「VD-400」は減圧チャンバーで、レジスト塗布後のガラス基板を 減圧乾燥する装置です。 【特長】 ・タッチパネル制御による操作の簡易化 ・レシピ操作有り（操作手順の再現化が可能） ・２段階排気により風紋や発泡を抑えた乾燥の実施 ・バタフライバルブの採用で真空排気能力の設定が可能 【主な仕様】 ○チャンバー ：外寸法 400mm x 400mm 高さ103mm（蓋閉時） 内寸法 350mm x 350mm 高さ 30mm ○真空：到達真空度 約1Pa以下（無負荷時） ※詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
カワタ独自のＩ.Ｃ.Ｔ加熱により、高精度の乾燥と抜群の操作性を実現
乾燥機 減圧乾燥機DV-15/30は、カワタ独自のI.T.C加熱により、高精度の乾燥と抜群の操作性を実現しました。電力消費量は従来機の脱湿乾燥機と比較して75～87％の省エネになり、従来機の脱湿式乾燥機（ＤＦ-15Ｚ）と比較して15％の省スペース化を実現致しました。操作性と視認性を重視したタッチパネルを採用。従来、困難であったシンプルな筒状ヒータを使用しながら、確実な昇温と正確な温度制御が可能になりました。噛み込みのない新方式もＭＡバブルを採用し原料がブリッジしにくく抜き取りが容易なコレクションボックスです。ヒータおよび真空ポンプ駆動の制御にＳＳＲを採用しフィルタ類は本体カバーを外すことなくメンテナンスできます。フロースペースヒータはワンタッチで自動昇降し安全の為に途中停止も可能でデッドスペースが全くありません。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
タッチパネル制御によりレシピ操作ができる減圧乾燥装置です
「VD-500S」は減圧チャンバーで、レジスト塗布後のガラス基板を 減圧乾燥する装置です。「VD-400」よりチャンバーサイズがひと回り大きい仕様です。 【特長】 ・タッチパネル制御による操作の簡易化 ・レシピ操作有り（操作手順の再現化が可能） ・２段階排気により風紋や発泡を抑えた乾燥の実施 ・バタフライバルブの採用で真空排気能力の設定が可能 【主な仕様】 ○チャンバー ：外寸法 580mm x 480mm 高さ103mm（蓋閉時） 内寸法 530mm x 430mm 高さ53mm ○真空：到達真空度 約1Pa以下（無負荷時） ※詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
