自動レジスト塗布現像ベーク装置『LITHOTRACシリーズ』
知識と経験を活かし、お客様のニーズに最適な仕様でご提供致します！
当シリーズは、研究開発用途から生産用途まで、半導体製造プロセスに 関わるあらゆる分野に適応可能なレジスト塗布・現像・ベーク装置です。 自由度の高い設計になっていて、研究開発及び量産仕様に最適です。 また、塗布ユニット/現像ユニットを搭載し、2”/8”ウェーハの 簡易切換えが可能です。 【特長】 ■自由度の高い設計 ■塗布ユニット/現像ユニットを搭載 ■量産仕様に対応可能 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：リソテックジャパン株式会社
- 価格：応相談
